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去除机理

去除机理的相关文献在1991年到2022年内共计240篇,主要集中在废物处理与综合利用、金属学与金属工艺、环境污染及其防治 等领域,其中期刊论文201篇、会议论文31篇、专利文献47873篇;相关期刊147种,包括城市建设理论研究(电子版)、国防科技大学学报、金刚石与磨料磨具工程等; 相关会议27种,包括中国化学会第十三届全国水处理化学大会暨海峡两岸水处理化学研讨会、中国土木工程学会水工业分会全国给水深度处理研究会2016年年会、2016高品质钢连铸生产技术及连铸坯质量控制交流会等;去除机理的相关文献由767位作者贡献,包括戴一帆、彭小强、李圣怡等。

去除机理—发文量

期刊论文>

论文:201 占比:0.42%

会议论文>

论文:31 占比:0.06%

专利文献>

论文:47873 占比:99.52%

总计:48105篇

去除机理—发文趋势图

去除机理

-研究学者

  • 戴一帆
  • 彭小强
  • 李圣怡
  • 王伟
  • 刘红
  • 康念辉
  • 张富
  • 张晓健
  • 李杰
  • 范先媛
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

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年份

    • 朱明; 石坤; 吴斌; 侯宵飞; 石玗
    • 摘要: 为了实现泥塑文物表面鸟粪类有机污物的激光无损去除,搭建高速摄像光学滤光放大采集系统,进行不同激光能量密度下的泥塑文物表面有机污物层去除实验,采集激光作用到泥塑文物表面有机污物层的动态去除过程,并研究不同去除模式的能量阈值及对基材的损伤行为。结果表明:在不同的激光能量密度作用下,泥塑文物表面有机污物层会出现烧蚀效应和振动效应,烧蚀效应去除过程中出现燃烧现象并伴随大量白烟的产生,振动效应去除过程中会出现有机污物层开裂和颗粒状飞溅现象,有机污物层去除后基体主要损伤形式有灼烧损伤和凹坑损伤。
    • 孙家宁; 孙韶华; 宋娜; 辛晓东; 赵清华; 贾瑞宝
    • 摘要: 随着新型阻燃材料的广泛应用,水体中已检测到溴系阻燃剂的存在。溴系阻燃剂是一种通过物理或化学方法抑制聚合物燃烧的持久性有机污染物,在生产使用过程中可能会对环境造成污染,并通过食物链进入人体,作用于神经系统对人体健康产生严重影响。介绍了高级氧化技术的作用机理及特性以及其在去除溴系阻燃剂方面的应用研究进展,阐述了光化学氧化、臭氧氧化、过硫酸盐氧化、Fenton氧化和类Fenton氧化、超声降解、电化学氧化等高级氧化技术的去除机理和技术特征。综合对比了高级氧化组合工艺对溴系阻燃剂的去除效果,并以四溴双酚A为例,比较了同一条件下不同高级氧化去除技术的降解效果及优缺点,针对目前高级氧化技术存在的问题对今后的研究方向进行了展望。
    • 肖强; 王嘉琪; 靳龙平
    • 摘要: 为研究磁流变抛光表面粗糙度与工艺参数之间的关系,本文建立数学模型并进行了求解验证。通过分析磁流变抛光技术的原理以及磁流变抛光过程中的材料去除机理,结合Preston方程建立磁流变抛光力学模型。分析工件表面受到的正压力,依据磁流变抛光机理对氧化锆陶瓷工件理论模型的流体动压力和磁场产生的磁化压力进行求解分析,具体化磁流变抛光的力学模型,解得正压力。对磁流变抛光的表面粗糙度进行建模,依据单颗磨料的材料去除作用模型建立磁流变抛光的表面粗糙度数学模型,分析抛光过程中影响表面粗糙度的具体因素,并通过MATLAB软件对方程进行仿真求解,得到磁场强度和磨料粒径对表面粗糙度的影响规律。结果表明,表面粗糙度和工件的压入深度存在一阶线性关系;当磨料粒径固定不变时,表面粗糙度随着磁场强度的增大而增大;当磁场强度固定不变时,表面粗糙度值与磨料粒径之间呈现正比关系。通过实验证明了模型和仿真结果的准确性,仿真分析得到的磁场强度与磨料粒径的关系,磁场强度与表面粗糙度之间的关系与实验一致,确定的磁场强度合理范围为0.4T左右,磨料粒径在2.5μm左右。
    • 易龙生; 米宏成; 吴倩; 夏晋; 张冰行
    • 摘要: 赤泥作为一种大宗矿业固体废弃物,含有丰富的金属氧化物/金属氢氧化物,同时具有丰富的孔隙结构和较高的比表面积。经过简单改性处理后,可以作为一种低成本的水处理材料有效地去除水体中的污染物,同时实现以废治废的目的,具有良好应用前景。近些年来,利用赤泥去除水中污染物的研究受到了广泛关注,本文分析了赤泥的来源、组成和性质,介绍了赤泥改性活化的方法和活化机理,列举了应用赤泥去除不同污染物的实例,阐述了其去除机理,最后在以往研究的基础上,提出了利用赤泥去除水中污染物的不足之处和未来发展趋势。
    • 刘勇攀; 张衿潇; 蒋燕虹; 何慧军; 刘杰; 吴婷; 程燕
    • 摘要: 我国农药阿特拉津的污染十分严重,对生态系统造成了非常不利的影响.为了实现对水环境中阿特拉津的高效去除和吸附剂的重复利用,该研究通过溶液浸渍和高温煅烧技术将金属锆负载到活性炭上,制备出功能化材料Zr@AC,使用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、傅里叶变换红外吸收光谱仪(FTIR)和比表面及孔径分析仪(BET)对材料的形貌和组成进行了表征,并考察了Zr@AC对水中阿特拉津的去除效果.结果表明:①当浸渍液锆离子的质量分数为7.0%、浸渍时间为9.0 h、煅烧温度为500°C和煅烧时间为5.0 h时,制备的Zr@AC具有较大的比表面积、较多的中孔和微孔以及丰富的活性位点.②对阿特拉津的去除研究表明,当溶液pH为4.0、温度为25°C、Zr@AC投加量为60.0 mg/L时,经过90 min的反应,Zr@AC对阿特拉津的吸附容量最大,达到93.8 mg/g.③动力学模拟研究表明,该吸附过程遵循拟二级动力学模型,且Freundlich等温吸附模型的拟合结果要优于Langmuir等温吸附模型,说明Zr@AC对阿特拉津的吸附存在化学吸附和多分子层吸附的双重作用.④经过5次重复试验后,Zr@AC对阿特拉津的去除率仍有83.9%.研究显示,Zr@AC可作为水中去除阿特拉津的吸附剂,是一种很有前途、可重复多次使用的材料.
    • 刘红; 张靖; 刘冰雪; 范先媛
    • 摘要: 为克服纳米零价铁(nZVI)易团聚、易钝化的缺点,本文以具备阳离子交换性能的Y型分子筛为载体,制得Y型分子筛嵌载纳米零价铁复合材料,对比研究了nZVI、Y型分子筛及所制复合材料对水中Pb^(2+)的去除能力,并利用SEM、TEM、XRD和XPS等手段,对去除Pb^(2+)前后复合材料的微观形貌、物相组成及元素价态等进行表征,分析了Y型分子筛嵌载nZVI复合材料对水中Pb^(2+)的去除机理。结果表明,Y型分子筛嵌载nZVI复合材料对水中Pb^(2+)有较好的去除效果,反应60 min时对Pb^(2+)的吸附量可达425.8 mg/g,相较于纳米零价铁和Y型分子筛,复合材料对水中Pb^(2+)的吸附量分别增大了37.6%和46.9%。所制复合材料对水中Pb^(2+)的去除机理主要为:Y型分子筛的阳离子交换作用,纳米零价铁的还原作用,纳米零价铁被氧化生成的羟基氧化铁及Y型分子筛中的硅、铝氧化物对Pb^(2+)的表面配合作用。
    • 张红哲; 朱晓春; 鲍永杰
    • 摘要: 目的揭示高体积分数SiC_(p)/Al复合材料在超声辅助加工条件下的材料去除机理。方法采用SiC_(p)/Al复合材料的超声辅助划切试验,探究划切参数变化对超声振幅、划切力及摩擦因数的影响规律,并通过扫描电子显微镜和激光共聚焦显微镜对划痕表面微观形貌进行观察,分析单点金刚石磨粒工具超声辅助划切材料去除的特点。结果随着划切深度从0.01 mm增加到0.05 mm,电流值逐渐降低,电流值变化量从12 mA增加到25 mA,超声振幅逐渐衰减,金刚石压头的轴向冲击作用减弱。划切深度和划切速度的增加使切向挤压切削作用增强,划切力和摩擦因数增大。在材料去除过程中,碳化硅颗粒存在破碎成小颗粒、剪切断裂破碎和拔出等多种去除形式,铝基体出现明显的塑性流动和涂覆现象,并形成切削沟槽外侧堆积。结论当切削深度和进给速度较小时,材料去除主要是在轴向的高频振动冲击作用下完成,材料表面加工质量较好;当切削深度和进给速度逐渐增大时,材料去除是在轴向冲击破碎和切向挤压切削共同作用下完成,材料表面加工质量逐渐降低。
    • 廖兵; 叶秋月; 胥雯
    • 摘要: 硫化零价铁(S-ZVI)因其电子传递效率高、选择性好,成为近年水处理领域的研究热点.S-ZVI耦合高级氧化技术(S-ZVI/AOPs)能够在保留S-ZVI较强还原性的基础上引入强氧化作用,实现有机污染物的深度氧化与矿化.本文总结了S-ZVI及其分别耦合过氧化氢(H_(2)O_(2))、氧气(O_(2))和过硫酸盐(PS)体系在水处理领域的研究现状,系统介绍了影响污染物去除效果的各种因素,包括S/Fe(摩尔比,下同)、S-ZVI投加量、氧化剂投加量、溶液初始pH等,重点讨论了S-ZVI和S-ZVI/AOPs体系去除污染物的反应机理,并简述了其在工程中的应用,最后对未来的研究方向提出了建议与展望,旨在拓宽S-ZVI/AOPs在环境修复领域中的实际应用.结果表明:(1)S-ZVI主要通过吸附和还原作用去除污染物,S-ZVI/AOPs体系主要通过活性物种的氧化作用去除污染物;硫化层可以通过改变电子转移路径提高活性物种产量,同时一些硫物种也可以活化氧化剂.(2)耦合体系中的活性物种除常见活性自由基外,如羟基自由基(·OH)、超氧自由基(O_(2)~(·-))和硫酸根自由基(SO_(4)^(·-))等,还包含非自由基Fe(Ⅳ),但Fe(Ⅳ)贡献量相对较少.(3)氧化剂的活化途径包括Fe^(2+)均相活化和非均相活化以及Fe^(0)直接活化.现阶段研究缺乏对反应体系中电子转移途径的量化,同时需要考察反应体系中多种污染物共存时的去除效果并厘清相互影响机制以提高实际应用性.另外,关于O_(2)对S-ZVI去除污染物的促进或抑制作用的影响机制还有待进一步研究.
    • 徐慧敏; 王建彬; 李庆安; 潘飞
    • 摘要: 为实现碳化硅晶片的高效低损伤抛光,提高碳化硅抛光的成品率,降低加工成本,对现有的碳化硅化学机械抛光技术进行了总结和研究。针对碳化硅典型的晶型结构及其微观晶格结构特点,简述了化学机械抛光技术对碳化硅材料去除的影响。重点综述了传统化学机械抛光技术中的游离磨料和固结磨料工艺以及化学机械抛光的辅助增效工艺。同时从工艺条件、加工效果、加工特点及去除机理4个方面归纳了不同形式的化学机械抛光技术,最后对碳化硅的化学机械抛光技术的未来发展方向进行了展望,并对今后研究的侧重点提出了相关思路。
    • 罗媛媛; 郑智阳; 廖磊; 颜嘉庆; 邓善桥
    • 摘要: 针对层状双氢氧化物基纳米材料在水溶液中污染物去除的应用,对层状双氢氧化物基纳米材料的制备方法、对污染物的去除机理以及再生性进行了综述,为层状双氢氧化物基纳米材料对水溶液中污染物去除的实际应用研究提供了理论依据。
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