题刻

摘要： 我对祖父抗战题刻最早的了解,来自父母家客厅墙上那幅“还我河山”的油画,那是母亲收藏的著名油画家陈可之先生的一幅早期作品。几十年来,尽管几经搬家,但这幅作品始终悬挂在家中客厅的重要位置。西北师范大学历史文化学院的尚季芳等曾有《刻在石头上的抗战——中国抗战石刻分布、内容及价值研究》[1]一文,列出了冯玉祥将军在全国的抗战石刻几十通,我从中摘录了在四川省的分布情况及石刻内容。

摘要： 东山里题刻要素齐全不可多得2021年10月7日,我随人文武汉志愿者团队,到江汉区绍兴片区待拆迁的一些里巷寻访历史建筑。在任冬社区前进二巷附近,发现一栋两层骑楼腰部嵌有一块花岗岩石刻,远看有“东山里”楷书双勾阴刻三个大字,端庄有力。仔细辨认,似乎有落款,值得考究。为弄清此石刻的年代与题书者,10月9日我又专程去找相关社区干部咨询,并借来长梯近距离拍摄了“东山里”题刻照片。

摘要： 在题刻类石质文物表面的文字或图案上涂覆漆涂层,是中国传统文化的常见做法。经过长时间日晒雨淋和风吹霜打,表面漆涂层往往会褪色和剥落,传统做法是每隔一定年数又再涂覆一次。由于现在的商品漆是化工产品,随着国家一系列文物保护法规的出台和社会文物保护意识的增强,题刻类文物表面的重涂已经面临许多问题:例如:1)原石刻表面涂层脱落后是否需要再次绘涂?2)现代商品漆类的涂覆是否会引发石质文物的次生病变?3)何种商品漆类产品与石质文物本体的相容性比较好?等等,目前众说纷纭。本文就其中一些技术问题,通过在四种岩石表面涂覆六种漆涂层,经过老化破坏循环实验和分析检测,对这些问题进行了实验研究。

摘要： 邢恕曾在北宋元祐年间谪迁湖南永州,谪居期间雅好永州奇山异水,曾多次游玩并留题于火星岩、朝阳岩、华严岩、石角山各地,其中朝阳岩留题数量最多,书法极似苏轼书风,清丽可喜。本文将邢恕朝阳岩题刻分为题诗和题名两类加以梳理,结合石刻文献资料与现存邢恕所书的题诗、题名石刻拓本对邢恕的书法风格加以探析。

摘要： 南京东北缘江耸立的栖霞山,又名摄山,是一座自南朝绵延至今、人文底蕴深厚的佛教名山。栖霞山历代题刻碑记众多,可惜历经兵燹与各种人为破坏,毁佚不少,留存至今者也不免剥蚀漫漶,或遭“好古之徒”勾摹剔洗,难复旧观。南京大学博物馆(以下简称南大博物馆)所藏南京历代碑刻拓本,大多是20世纪30年代金陵大学中国文化研究所从南京经古舍等古玩铺号购得,其中以分布于栖霞山及其周围的碑刻题记尤为集中。

摘要： 聚奎中学地处于国家3A级风景名胜区黑石山,已有151年不间断办学历史,有着独特的自然风光和深厚的人文底蕴。其中以爱国诗人吴芳吉为代表的历代校友为学校留下了数以千计的诗词作品和楹联题刻。人文景观和自然景观相得益彰,使得我们的古典诗词教育有了得天独厚的先天优势。《普通高中语文课程标准(2017年版2020年修订)》(下称"新课标")提出语文教育要"注重时代性,构建开放、多样、有序的语文课程。"因此,面对新时代、新课程、新高考。

摘要： 这是一件清代文人使用过并题刻铭文的砚台,有原配红木砚盒。砚作长方形,长15厘米,宽10厘米,高2.3厘米(见图)。砚面规整简洁,光素无纹,呈门行淌池样,池内墨锈深厚,浸入肌里,砚堂宽敞、平坦,有长期使用痕迹。砚缘平直圆浑,背面平展。砚为湖南明山石琢制,石质细润,石色深紫透红,砚身缠绕一圈浅绿色石带纹理,人称"紫袍玉带",观之,十分悦目。

摘要： 作为中国东南地区最大的石窟,江西赣州通天岩石窟,最迟于唐代晚期已开窟造像,随后在北宋中晚期达到鼎盛。明代学者王守仁在通天岩中的"忘归岩"崖壁题有"但得此身闲,尘寰亦蓬岛"的诗句。然而,随着时间的推移,受自然和人为因素影响,一些摩崖造像和石刻因剥蚀严重而难以辨识,一些甚至已经损毁,不复存在。那些留存下来带有题刻的珍贵造像和石刻,为我们认识唐宋时期佛教造像的艺术风格提供了重要信息。

摘要： 赏石是古典园林中不可或缺的要素。题刻赏石更是一种综合性艺术,将赏石从欣赏石头本身,提升到与文学、书法、金石相结合的新高度,赋予园林中一块块无言的景石以人格魅力,使造园者的哲学思考、志趣追求得以明确展示;也使当时和后世的游人,能够借助刻石与前人进行精神上的碰撞、心灵上的交融。日月流转,唯石永恒。

摘要： 不同文献对王阳明“平涮头碑”与“玉石仙岩题诗”这两处题刻的著录有所不同,这对理解王阳明和阳明心学造成了一定的困扰,在实地考察的基础上对这些材料进行校勘辩证,进而对王阳明题刻中流露出来的思想进行分析,或可得出新的结论.

摘要： 本申请实施例公开一种套刻标记方法、套刻测量方法及套刻标记，其中，所述套刻标记方法包括：在第一材料层上形成N个第一标记，所述每个第一标记包括P个第一子标记，所述第一子标记的形状为通过多个块状图形而形成的长条状；在所述第一材料层之后形成第二材料层；在所述第二材料层上形成与每一所述第一标记一一对应的N个第二标记，所述每个第二标记包括Q个长条状的第二子标记；其中，N、P和Q均为大于1的整数，且P大于Q；其中，所述第一标记的宽度大于所述第二标记的宽度。

摘要： 本公开实施例提出了一种套刻对准标记，一种套刻误差测量方法和一种套刻对准方法，该套刻对准标记形成于待测的晶片上，且包括第一图案和第二图案，所述第一图案位于所述晶片的第一层中且包括：在第一方向上相对设置且分别沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸的两个第一实体子图案；所述第二图案位于所述晶片的所述第一层上方的第二层中且包括：在所述第一方向上相对设置的两个第一镂空子图案；和在所述第二方向上相对设置的两个第二镂空子图案；每个第一实体子图案的沿第二方向延伸的对置的两侧边从相应第一镂空子图案至少部分地暴露。

摘要： 本公开提供了一种组合式套刻标记、使用套刻标记测量套刻误差的方法，该套刻标记包括当层比较标记和前层基准标记。当层比较标记包括第一比较标记和形成于第一比较标记周围的第二比较标记，前层基准标记包括第一基准标记和形成于第一基准标记周围的第二基准标记。第一比较标记与第一基准标记可上下对应地设置，第二比较标记与第二基准标记上下对应地设置。该测量方法包括：利用第一比较标记和第一基准标记测量出第一套刻误差，利用第二比较标记和第二基准标记测量出第二套刻误差，根据第一套刻误差和/或第二套刻误差确定误差测量结果。本公开通过组合式两种套刻标记提高套刻误差测量可靠性，保证测量精度的前提下有效提高套刻误差的测量精度。

摘要： 本申请实施例公开一种套刻标记方法、套刻测量方法及套刻标记，其中，所述套刻标记方法包括：在第一材料层上形成N个第一标记，所述每个第一标记包括P个第一子标记，所述第一子标记的形状为通过多个块状图形而形成的长条状；在所述第一材料层之后形成第二材料层；在所述第二材料层上形成与每一所述第一标记一一对应的N个第二标记，所述每个第二标记包括Q个长条状的第二子标记；其中，N、P和Q均为大于1的整数，且P大于Q；其中，所述第一标记的宽度大于所述第二标记的宽度。

摘要： 本公开提供了一种套刻标记及使用套刻标记进行套刻误差测量的方法。该套刻标记包括第一测量标记和第二测量标记，其中，第一测量标记具有圆形外轮廓、形成于前层上，第二测量标记具有圆形外轮廓、形成于当前层上。该方法包括下述的步骤：在前层上形成具有圆形外轮廓的第一测量标记以及在当前层上形成具有圆形外轮廓的第二测量标记，且第二测量标记尺寸与第一测量标记尺寸不同，然后再利用第一测量标记与第二测量标记的位置偏差计算出套刻误差。与传统套刻标记不同，本公开创新地提出了具有圆形结构设计的套刻标记，能够利用面积比例的方式计算出套刻误差，彻底解决了传统套刻误差测量方案受噪音信号干扰的问题。

摘要： 本申请实施例公开一种套刻标记方法、套刻测量方法及套刻标记，其中，所述套刻标记方法包括：在第一材料层上形成N个第一标记，所述每个第一标记包括P个第一子标记，所述第一子标记的形状为通过多个块状图形而形成的长条状；在所述第一材料层之后形成第二材料层；在所述第二材料层上形成与每一所述第一标记一一对应的N个第二标记，所述每个第二标记包括Q个长条状的第二子标记；其中，N、P和Q均为大于1的整数，且P大于Q；其中，所述第一标记的宽度大于所述第二标记的宽度。

摘要： 本公开实施例提出了一种套刻对准标记，一种套刻误差测量方法和一种套刻对准方法，该套刻对准标记形成于待测的晶片上，且包括第一图案和第二图案，所述第一图案位于所述晶片的第一层中且包括：在第一方向上相对设置且分别沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸的两个第一实体子图案；所述第二图案位于所述晶片的所述第一层上方的第二层中且包括：在所述第一方向上相对设置的两个第一镂空子图案；和在所述第二方向上相对设置的两个第二镂空子图案；每个第一实体子图案的沿第二方向延伸的对置的两侧边从相应第一镂空子图案至少部分地暴露。

摘要： 本发明公开一种套刻标记、套刻标记方法及套刻测量方法，其至少包括以下步骤：提供第一材料层；在第一材料层上形成第一标记组，第一标记组为中心对称图形；在第一材料层上形成第二材料层在所述第二材料层上形成与所述第一标记组对应的第二标记组，所述第二标记组为中心对称图形；所述第二标记组与所述第一标记组的对称中心位于同一垂直线上在所述第二材料层上形成第三材料层；在所述第三材料层上形成与所述第一标记组和所述第二标记组对应的第三标记组，所述第三标记组为中心对称图形；所述第三标记组与所述第二标记组和所述第一标记组的对称中心位于同一垂直线上。本发明解决了现有的三层套刻需要多个掩模版，且对准精度差，占用结构空间的问题。

摘要： 本发明涉及一种用于利用激光绘图仪（2）对工件（7）进行雕刻、标记和/或题刻的方法以及一种激光绘图仪（2），其中在所述激光绘图仪（2）的壳体（3）中装入至少一个形式为激光器（5、6）的射束源（4）以用于加工所述工件（7），其中将所述工件（7）放置在加工台（9）上并且通过转向元件（11）将由射束源（4）发射的激光射束（10）传输到至少一个聚焦单元（12）处，由所述至少一个聚焦单元将所述激光射束（10）朝向所述工件（7）偏转并且聚焦以用于加工，其中对所述激光射束（10）相对于所述工件（7）的控制、尤其位置控制通过在控制单元（13）中运行的软件来实现，从而通过调整滑块对所述工件（7）逐行地进行加工，其中优选在外部组件（14）处、尤其在计算机或者控制器处完成图像（17）和/或文字（18），所述图像和/或所述文字被发送给所述激光绘图仪（2）的控制单元（13），所述控制单元对所发送的数据、尤其所述图像（17）和/或所述文字（18）进行转换以用于对所述激光绘图仪（2）的各个元件进行控制，其特征在于，在将所述工件（7）放入加工区域（8）中之后，将所述激光器（5、6）的激光指针（27）定位在所述工件（7）的区域上或中，接着在激活加工过程或聚焦过程之后优选进行位置校正并且随后进行到所述工件（7）的表面（28）上的测距（31）并且将所获取的数据发送给所述控制单元（13），所述控制单元随后在考虑预先给定的参数、尤其所使用的能够调换的激光透镜（32）的情况下针对所述激光器（5、6）的最优的焦点对所述加工台（9）的位置进行计算并且随后调整所述加工台（9）。

摘要： 本发明涉及一种用于利用激光绘图仪（2）对工件（7）进行雕刻、标记和/或题刻的方法以及一种激光绘图仪（2），其中在所述激光绘图仪（2）的壳体（3）中装入至少一个形式为激光器（5、6）的射束源（4）以用于加工所述工件（7），其中将所述工件（7）放置在加工台（9）上并且通过转向元件（11）将由射束源（4）发射的激光射束（10）传输到至少一个聚焦单元（12）处，由所述至少一个聚焦单元将所述激光射束（10）朝向所述工件（7）偏转并且聚焦以用于加工，其中对所述激光射束（10）相对于所述工件（7）的控制、尤其位置控制通过在控制单元（13）中运行的软件来实现，从而通过调整滑块对所述工件（7）逐行地进行加工，其中优选在外部组件（14）处、尤其在计算机或者控制器处完成图像（17）和/或文字（18），所述图像和/或所述文字被发送给所述激光绘图仪（2）的控制单元（13），所述控制单元对所发送的数据、尤其所述图像（17）和/或所述文字（18）进行转换以用于对所述激光绘图仪（2）的各个元件进行控制，其特征在于，在将所述工件（7）放入加工区域（8）中之后，将所述激光器（5、6）的激光指针（27）定位在所述工件（7）的区域上或中，接着在激活加工过程或聚焦过程之后优选进行位置校正并且随后进行到所述工件（7）的表面（28）上的测距（32）并且将所获取的数据发送给所述控制单元（13），所述控制单元随后在考虑预先给定的参数、尤其所使用的能够调换的激光透镜（32）的情况下针对所述激光器（5、6）的最优的焦点对所述加工台（9）的位置进行计算并且随后调整所述加工台（9）。