热载流子
热载流子的相关文献在1989年到2022年内共计241篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、物理学、电工技术
等领域,其中期刊论文103篇、会议论文13篇、专利文献223308篇;相关期刊37种,包括太阳能、电子学报、中国无线电电子学文摘等;
相关会议10种,包括2013年全国博士生学术论坛——电子薄膜与集成器件、第十一届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术交流会、中国电子学会第十四届青年学术年会等;热载流子的相关文献由401位作者贡献,包括唐逸、孙伟锋、俞柳江等。
热载流子—发文量
专利文献>
论文:223308篇
占比:99.95%
总计:223424篇
热载流子
-研究学者
- 唐逸
- 孙伟锋
- 俞柳江
- 刘斯扬
- 章晓文
- 郝跃
- 钱钦松
- 张卫东
- 何玉娟
- 周伟
- 张悦强
- 时龙兴
- 甘正浩
- 许铭真
- 谭长华
- 乔明
- 任迪远
- 任铮
- 余学峰
- 冯军宏
- 吴昭谊
- 张波
- 徐子轩
- 汤玉生
- 胡少坚
- 谢光宇
- 金雅琴
- 陆生礼
- 刘红侠
- 张春伟
- 徐申
- 毕津顺
- 胡靖
- 赵要
- 钱文生
- 高超
- A·雷尼耶
- D.A.麦克奈尔
- F·拉罗萨
- F·瓜里恩
- H.S.埃尔-戈罗里
- J·E·小霍斯特泰
- J·德拉洛
- S.E.冈瑟
- S·E·劳赫三世
- S·尼埃尔
- Z·J·杨
- 习林茂
- 于建姝
- 于朝辉
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芦一瑞;
严蕾;
张成云;
孔婷;
张正龙
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摘要:
等离激元弛豫产生的热载流子以及局域热效应能有效地驱动材料的化学反应,将光能转化为化学能,从而实现等离激元诱导的光催化。对等离激元诱导分子化学反应和晶体结构转变的相关理论和实验进展进行了综述,重点讨论了等离激元驱动分子反应和驱动纳米结构变化诱导光催化的物理和化学机制,包括等离激元增强电磁场、热载流子、局域热效应等诱导过程,并指出了等离激元催化微观理论模型的不足和实现大规模工业生产的技术瓶颈。
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张彩霞;
马向超;
张建奇
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摘要:
厚度低至原子层的金属薄膜具有优越的光吸收能力和导电特性,尤其是在金属薄膜和介质界面激发的表面等离激元,可以很好地捕获光子并产生热载流子,使其在提高太阳能电池的光电转换效率、设计近红外波段的光电探测器和基于表面等离激元的传感器等方面表现出优异的性质.然而,目前还缺少对金属薄膜的表面等离激元和热载流子性质的系统理论研究.本文基于多体第一性原理计算方法,系统地研究了1—5个原子层厚Au(111)薄膜的表面等离激元特性,以及由表面等离激元产生的热载流子的能量分布和输运性质.研究结果表明, Au(111)薄膜具有低损耗的表面等离激元特性.同时,在Au(111)薄膜和介质界面激发的表面等离激元约束程度较强,可以增强局部电场,这在纳米光子学应用中至关重要.此外, Au(111)薄膜具有高热载流子产生效率,且产生的热电子及热空穴能量较高,具有优异的平均自由程和平均自由时间.意外的是,Au(111)薄膜的直流电导率显著优于块体Au.这些结果为Au(111)薄膜在光电子器件和能量转换设备等的设计和制造提供了新的思路和理论基础.
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摘要:
1.美国赖斯大学的物理学家发现,等离子体金属可以被提示产生“热载流子”,进而在电极之间的纳米级间隙中发出明亮的光。该现象可能对光催化、量子光学和光电子学的发展很有用。研究人员介绍,感兴趣的人员可以通过电激发等离子体激元,其产生的热载体可以进行有趣的化学反应。
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詹东平
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摘要:
关键词:针尖增强拉曼光谱·表面等离激元光电催化·热载流子空间分布S.-C. Huang, X. Wang, Q.-Q. Zhao, J.-F. Zhu, C.-W.Li, Y.-H. He, S. Hu, M. M. Sartin, S. Yan, B. Ren.Probing Nanoscale Spatial Distribution of Plasmonically Excited Hot Carriers, Nat. Commun., 2020, 11,4211.表面等离激元(SP)效应可产生远高于热平衡态费米能级能量的热电子-空穴对(热载流子),引发相关光/电化学过程.发展先进的仪器方法.
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晏峰;
杨猛;
刘敏;
刘小龙;
刘敬;
熊正锋;
刘瑛
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摘要:
In order to enhance the sensitivity of high power microwave detector and reduce the impact of ambient tempera-ture,research of hot-carriers detector in liquid nitrogen was carried out.Kovar alloy was used in the BJ-100 waveguide HPM de-tector to enhance the ability of resisting temperature change.The binding force is bigger than 4.9 N in the test.Sensitivity experi-ments of the HPM detector at room temperature and in liquid nitrogen were conducted using the microwave source.Waveform of the HPM detector is consistent with that of the Schottky detector.The relative sensitivity of the HPM detector in liquid nitrogen is 20 times higher than that in the room temperature under the constant current,and the output voltage amplitude can be above 1 V.%为提高热载流子高功率微波探测器的灵敏度和降低环境温度对探测器性能的影响,开展了液氮环境下的热载流子探测器研究.提出了局部使用可阀合金块的BJ-100型热载流子探测器制作工艺,增强了探测器的抗温度冲击能力.测试结果表明,探测器硅片焊接的结合力大于4.9N,能够承受从常温到液氮的反复温度冲击.利用100 kW微波源开展了热载流子探测器在室温和液氮环境下的灵敏度测试实验,结果表明:探测器输出波形与肖特基二极管检波器输出波形一致;在保持偏置电流相同的条件下,相较于常温环境,探测器在液氮环境下的相对灵敏度提升约20倍,输出电压可达 V级.
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廖晨光;
郝敏如
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摘要:
文中主要通过模拟仿真了γ射线辐照对单轴应变Si纳米NMOSFET器件电学特性的影响.仿真分析了不同辐照剂量、结构参数以及物理参数等对阈值电压、隧穿栅电流以及热载流子栅电流的影响.结果表明:在总剂量辐照下,阈值电压随着源/漏结深的增加以及沟道长度的减小而减小,隧穿栅电流随着栅氧化层厚度的增大及栅介电常数的减小而增大,热载流子栅电流随着沟道中掺杂浓度的减小以及栅电压的增大而增大.同时,模拟仿真了器件沟道中应力和载流子的分布.
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李晓松
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摘要:
随着微电子技术的发展,微电子产品凭借体积小、功能全、智能化等特点越来越受到市场的欢迎,与此同时微电子的可靠性也随之被大家关心和重视,本文则对微电子器件的可靠性进行了研究,得出微电子的可靠性受热载流子、金属化、静电放电、栅氧化层等因素的影响,并针对这些原因,本文提出了相应的解决措施,旨在提高微电子器件的可靠性.
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胡晓明
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摘要:
OTP(one time programmable memory)是常见的一种NVM,在有限密度有限性能的嵌入式NVM方面有较多的应用,传统的EEPROM、SONOS、E-Flash NVM成本昂贵.OTP与CMOS相容的嵌入式NVM技术是当前工业界的成功解决方案,并在诸如模拟技术微调应用中的位元级一直到数据或代码储存的千位元等级取得越来越广泛的应用.其特点在于与CMOS工艺相容,工艺步骤简单、无须额外的光照,成本低廉,可以增强片上系统的功能和灵活性.作者介绍了工业界对于OTP开发的主流类型-利用PMOS来设计OTP的器件结构、基本工作原理.重点分析了在技术研发中遇到的独特的挑战及其解决方案.
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刘斯扬;
于朝辉;
张春伟;
孙伟锋;
苏巍;
张爱军;
刘玉伟;
吴世利;
何骁伟
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摘要:
According to the experimental measurement results,combining with the technology computer aided design (TCAD)simulations,the hot-carrier degradations of 1. 8V pMOS under different gate voltages are investigated in this pa-per.The results show that,with the gate voltage increasing,the electron injection mechanism changes to the hole injection mechanism,leading to the increases of the saturation drain current (Idsat ),linear drain current (Idlin )and threshold voltage (Vth ).However,because there is not any carrier injection,the degradation trend begins to change at Vgs =90%*Vds .More-over,the study also discovers that the generated interface states have more impact on the hole mobility in the depletion region than that in the non-depletion region.As a result,the degradation of forward Idsat is bigger than the degradation of reverse Idsat .However,the degradations of forward Idlin and reverse Idlin are same since the whole channel is not depleted under Idlin condition.%本文详细研究了不同栅压应力下1.8V pMOS器件的热载流子退化机理.研究结果表明,随着栅压应力增加,电子注入机制逐渐转化为空穴注入机制,使得pMOS漏极饱和电流(Idsat )、漏极线性电流(Idlin )及阈值电压(Vth )等性能参数退化量逐渐增加,但在Vgs =90%*Vds时,因为没有载流子注入栅氧层,使得退化趋势出现转折.此外,研究还发现,界面态位于耗尽区时对空穴迁移率的影响小于其位于非耗尽区时的影响,致使正向Idsat退化小于反向Idsat退化,然而,正反向Idlin退化却相同,这是因为Idlin状态下器件整个沟道区均处于非耗尽状态.
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Chunwei Zhang;
张春伟;
Siyang Liu;
刘斯扬;
Tingting Huang;
黄婷婷;
Chaohui Yu;
于朝辉;
Weifeng Sun;
孙伟锋
- 《2013年全国博士生学术论坛——电子薄膜与集成器件》
| 2013年
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摘要:
本文详细研究了绝缘体上硅横向绝缘栅双极型器件的热载流子退化机理.首先,通过对不同应力条件下器件的热载流子退化趋势和退化量的研究,发现横向绝缘栅双极型器件的最坏应力可以用结构和浓度分布相同的横向双扩散金属氧化物半导体管的峰值衬底电流来评估.对器件静态应力条件下的热载流子退化进行了实验,并借助软件仿真分析了器件的退化杌理,研究发现,器件的热载流子退化主要发生在鸟嘴区,鸟嘴区的热空穴注入主导了整个器件的导通电阻退化,使器件的导通电阻降低,并且,通过电荷泵实验对该退化杌理进行了验证.本文还对动态应力下器件的热载流子退化进行了研究,通过对动态应力进行分段并与静态应力比较,发现在较快的开关态转换过程中器件的热载流子退化存在明显的瞬态效应.
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- 《中国电子学会第十四届青年学术年会》
| 2008年
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摘要:
热载流子注入效应是超大规模集成电路的主要失效机理之一,许多超大规模集成电路的失效都与热载流子注入效应有关。本文研究高温环境条件下的热载流子注入效应,通过设计的多晶加热板,采用改变电流的方式控制多晶加热板的温度,获得器件的高温工作环境。提取了热载流子注入效应的模型参数,并与室温下的热载流子注入效应进行了对比。结果表明,高温环境条件下的热载流子注入效应减弱,与预期的设想一致。
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章晓文;
张晓明
- 《第九届全国可靠性物理学术讨论会》
| 2001年
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摘要:
采用电荷泵技术研究MOS器件与热载流子注入有关的退化开始于20世纪80年代,该技术是利用衬底电流表征沟道漏端由碰撞电离引起的载流子注入.本文利用HP4155A能提供方波脉冲的特点,建立了电荷泵测试技术,利用该项技术对华晶1.0μm工艺线的抗热载流子注入效应的能力进行了评价,取得了预期的结果,在最大衬底电流附近,出现了电荷电流的最大峰值,表明该种应力条件下,器件的退化最为严重.
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Xin Zhou;
周锌;
JiaoJiao Qi;
祁娇娇;
Ming Qiao;
乔明;
Bo Zhang;
张波
- 《2013年全国博士生学术论坛——电子薄膜与集成器件》
| 2013年
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摘要:
本文研究了薄层SOI场pLDMOS在不同背栅电压应力条件下的阈值和导通电阻退化机理.在高压开关电路应用中,pLDMOS的背栅处于最低电位,与源极存在固定的电势差.对于薄层SOI场pLDMOS,背栅电压的偏置强烈调制了器件体内电场分布,从而影响了器件的退化机理.实验结果表明,在较高背栅电压应力条件下,阈值电压具有更大的退化,这是因为沟道区具有较大的电场,更多的热空穴注入栅氧;对于不同的背栅电压应力,导通电阻均减小,这是因为在漂移区发生热电子注入效应.但对于不同背栅电压,发生热电子注入的位置不同.另外,对于较高的背栅电压应力条件,导通电阻在应力测试后期呈现增大趋势,而这是因为界面态对导通电阻的影响占据主导地位.
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Xin Zhou;
周锌;
JiaoJiao Qi;
祁娇娇;
Ming Qiao;
乔明;
Bo Zhang;
张波
- 《2013年全国博士生学术论坛——电子薄膜与集成器件》
| 2013年
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摘要:
本文研究了薄层SOI场pLDMOS在不同背栅电压应力条件下的阈值和导通电阻退化机理.在高压开关电路应用中,pLDMOS的背栅处于最低电位,与源极存在固定的电势差.对于薄层SOI场pLDMOS,背栅电压的偏置强烈调制了器件体内电场分布,从而影响了器件的退化机理.实验结果表明,在较高背栅电压应力条件下,阈值电压具有更大的退化,这是因为沟道区具有较大的电场,更多的热空穴注入栅氧;对于不同的背栅电压应力,导通电阻均减小,这是因为在漂移区发生热电子注入效应.但对于不同背栅电压,发生热电子注入的位置不同.另外,对于较高的背栅电压应力条件,导通电阻在应力测试后期呈现增大趋势,而这是因为界面态对导通电阻的影响占据主导地位.