纳米压印

摘要： 为了解决纳米压印过程中填充率低下,压印图案易发生形变等问题,提出了一种新型振动辅助纳米压印方法。在压印过程中对压印胶施加横向的振动,增大了压印力,从而提高了填充率。运用时域有限差分法(finite difference time domain,FDTD),在波长300 nm~1000 nm范围内,数值模拟了不同光栅结构,得到了光栅结构参数变化对其吸收率的影响规律。在振动辅助装置上进行振动辅助纳米压印实验,实验结果表明:与传统纳米压印技术相比,压印胶的填充率提高了30%,并改善了压印后微结构的表面形貌,减少了缺陷。

摘要： 大面积纳米压印技术是一种利用模板压印方法大规模制备大面积微纳米结构的图形化技术,具有重复性好、成本低及结构分辨率高等优点。对各类聚合物及介质的快速结构成型使得大面积纳米压印技术在制备微纳光学、光电器件方面具有独特的优势,可应用于发光二极管、显示器、增强现实光波导及微流控芯片等众多领域,并在纳米技术商业化中发挥关键作用。首先对纳米压印技术进行介绍,然后从大面积纳米压印技术、大面积压印模板制备、大面积纳米压印技术的器件应用及其前景与挑战四个方面来介绍大面积纳米压印技术。

摘要： 为实现小口径弹药引信MEMS安全系统小型化,并在高过载环境条件下可靠应用,以柔性材料PDMS为主体进行引信安全系统结构设计。通过COMSOL软件建立模型和仿真,验证悬臂梁式后坐保险机构可靠性,同时结合MEMS纳米压印技术进行小口径弹药的柔性安全系统的工艺设计。

摘要： 近年来,半导体纳米阵列结构材料因能激发光学共振及其优良的光电性能在光电子器件领域被广泛的应用。本文采用纳米压印技术制备具有一定直径和周期的SiO_(2)纳米柱作为掩膜层,采用ICP刻蚀制备了GaAs纳米柱阵列,重点研究了不同刻蚀条件处理工艺对纳米柱阵列形貌的影响,与表面无纳米结构的薄膜材料相比,其反射率得到明显的降低且最低约为3%,因此纳米阵列结构能有效的增强光吸收,具有极其优良的光电性能。

摘要： 针对纳米压印过程中压印胶填充率低导致图案转移质量不佳,压印力过大损坏模板表面形貌等问题,提出一种基于压电驱动低频、低幅的振动辅助纳米压印方法制备光栅结构。在压印时施加横向一维振动,减小纳米压印过程中所需的压印力,提高压印胶对模板空腔的填充率。为研究双面光栅薄膜的周期变化对透射率的影响规律,运用时域有限差分法在波长500~1500 nm范围内对不同周期参数的双面光栅结构进行仿真分析,得到周期参数变化对透射率的影响规律。在研制的振动装置上进行振动辅助纳米压印实验,并对制备出的双面光栅结构进行表面形貌表征以及透射率检测。实验结果表明,与无振动纳米压印技术相比,压印胶填充率显著提高,并改善了图案转移质量,减少大面积表面缺陷。在波长500~1500 nm范围内,涂覆振动辅助纳米压印制备的双面光栅薄膜的SiO_(2)比传统纳米压印制备的双面光栅薄膜的SiO_(2)平均透射率提高4%,较无薄膜的SiO2平均透射率提高6%。

摘要： 传统偏光片技术所制备的是外置型偏光片,由于其贴附于显示屏表面,使显示器的厚度增加,透光率下降.为了满足对偏光片薄型化、高透过率、低成本以及柔性显示等要求,开发内置型偏光片成为新型显示特别是柔性显示发展的一个重要方向,其中作为内置型偏光片的主流技术的光控取向和纳米压印技术,由于其无静电、无粉尘污染、更精确可控微小区多筹取向能力以及低成本、大面积制备的优点,在显示领域备受关注.本文重点综述了近几年利用光控取向和纳米压印两种制造技术在内置偏光片中的开发与应用进展,并对目前该两种技术仍存在的问题进行了讨论,为内置偏光片的工业化生产提供思路.

摘要： 采用纳米压印技术与硅烷化接枝改性处理相结合的方法,将遗态材料茭草叶表面的微纳米槽棱构筑于木材表面,得到遗态仿生各项异性超疏水木材.通过SEM、EDS、XRD、FTIR以及WCA对试样的微观形貌、化学元素组成、表面化学状态以及润湿性进行表征.结果表明:遗态仿生各向异性超疏水木材表面具有与茭草叶类似的微观形貌;其水接触角为158°,表现出超疏水性能;此外,其表面的水滴在翻转至垂槽方向时,水滴粘附在试样表面没有滴落,而平槽方向上水滴迅速滚落,表现各项异性.同时,经不同温度蒸煮处理后对其稳定超疏水性进行了测试,结果表明其水接触角均大于150°,仍具有超疏水特性,制备的超疏水木材表面具有耐久性与耐候性.

摘要： 增强现实技术是一种将虚拟环境信息叠加在真实世界中并加以有效利用的一种新型显示技术,在教育、医疗、旅游、汽车、建筑等领域有广阔的应用前景.增强现实近眼显示设备是增强现实技术的重要组成部分,而光波导是实现增强现实近眼显示设备高性能与微型化等特性的核心光学元件.光波导主要分为几何光波导和衍射光波导,几何光波导原理简单,其制备技术较为完善并且可以实现量产,但视场角与出瞳范围较小、制备工艺复杂;衍射光波导则具有极高的设计自由度及优良的性能,但成像时存在的彩虹效应与色散等问题仍待解决.本文综述了不同类型光波导的设计和制备技术,分析了几何光波导和衍射光波导在原理、结构参数、性能评价和制备流程等方面的表现,最后总结了目前增强现实近眼显示技术所面临的挑战,并对未来的发展前景进行展望.

摘要： 纳米压印是为应对半导体行业越来越高的芯片元件集成度而产生的高新技术,因其制造成本低、图形精确、生产率高等优势成为纳米领域的研究热点.残余层厚度作为大面积纳米压印光刻紫外固化工艺的重要参数,直接影响刻蚀工艺和基片的完整度.尝试通过改变旋涂转速和纳米压印胶的固体含量,来优化残余层厚度.通过实验与分析,给出了压印胶种类、转速及残余层厚度的优化方案,并且没有胶体收缩现象发生,为后续大面积复合纳米压印研究提供了工艺参数基础.

摘要： 纳米压印技术是一种1×掩模板压入流体介质实现图形转移的方法,20年来因其高分辨率、高保真度、高产量、低成本等技术特点获得广泛关注.压印力的均匀性和介质流体对掩模板图形间隙的填充度是纳米压印技术关键的性能参数,利用气体压缩式施压方式具有高度的均匀性,而且避免了充气流产生的紊流、扰动对压印力均匀性影响,是对气体施压方式的优化.假塑性流体存在剪切力作用时,流体粘度变稀,更有利于介质对掩模板图案间隙的填充,提高图形转移保真度.本项目旨在获得气体压缩式施压和假塑性流体作为图形转移介质在纳米压印中的应用,为纳米压印新施压方法和新的图形转移介质提供基础理论和方法的指导.

摘要： 分布反馈(DFB)半导体激光器是现代光通信系统及红外探测中核心光源器件，光栅的设计和制作是决定器件性能的关键因素之一。传统光栅制作方法中，制作的光栅大面积均匀性较差、重复性不高;电子束光刻虽然具有精度高的优点，但其成本高产能低，不被光电子器件产业所接受。纳米压印兼具有精度高、成本低、生产效率高的优点，且可在同一衬底上一次制作出不同光栅周期。本研究组利用纳米压印技术，优化制作工艺，制作出1520～1565nm覆盖完整光通信C波段的高质量光源，以及用于瓦斯探测的1650nm光源。

摘要： 目前,图形化蓝宝石衬底(PSS)广泛应用于GaN基发光二极管(LED)的生产.它能够同时提高GaN基LED的内量子效率(IQE)和光提取效率(LEE).有报道指出,火山口型PSS(VPSS)具有更多的侧面面积和侧向生长面积,相比于圆锥型PSS而言,具有更高的光提取效率.采用纳米压印与湿法腐蚀相结合的方法制备VNPSS，并且探究了VNPSS的形成过程。VNPSS晶面的形成受到热力学过程和表面反应过程的共同作用。所制备的VNPSS，其形成的晶面有利于光的提取。而且，相对于圆锥型和圆台形的NPSS而言，VNPSS在生长GaN的过程中具有更大面积的侧向生长，更容易形成空洞，进一步增加光提取效率。

摘要： 采用软模板压印技术和双层光刻胶技术在基于图形衬底制备的GaN基蓝光外延片上制备p-GaN和 ITO 表面纳米图形的大功率LED.纳米图形在基底上大面积形成,孔径均匀,GaN和 ITO 表面纳米图形的占空比分别为0.5和0.2,呈三角排列圆形孔状晶体结构；通过表面晶体结构的排列方式进行光子能带模拟,两种纳米图形均存在光子禁带,为典型的二维光子晶体结构.与传统LED比较,含ITO纳米图形和GaN纳米图形的LED光致发光效率分别提高7倍和11倍,在350mA电流驱动下,电性参数并未降低,电致发光效率分别提高5.06％和14.18％.

摘要： 有机硅改性的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯是紫外纳米压印的常见抗蚀剂材料之一。甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯类单体属自由基聚合，反应速度快，与模具的分离能力较好，但抗刻蚀能力较差。经有机硅改性后，可提高单体的抗蚀性能、紫外光聚合的活性，提高抗蚀剂的固化性能，降低玻璃化转变温度，降低液体抗蚀剂的粘性还能保持膜的强度，降低固化膜的表面能。含有一个硅的甲基丙烯酸酯单体已有过报道，但含两个及两个以上的硅的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯单体从未有过报道。本文分别合成了含1至4个硅的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯类单体(其中含一个硅的反应过程见图1)，并对其结构、光固化性能以及固化后的表面能进行了研究。

摘要： 在基于莫尔条纹相位匹配的纳米压印对准方案中,因阻蚀胶引入引起莫尔条纹图像对比度下降,进而导致对准精度下降。针对这一问题,提出利用优化的标记材料制备光栅标记来提高莫尔条纹图像对比度的方法。通过二维时域有限差分计算,对模板及基底上采用的光栅标记材料进行优化,得到模板和基底标记的材料折射率分别为1.8-2.0和2.7时,莫尔条纹图像对比度得到最大值。根据上述分析,优化的光栅标记材料定为:模板光栅标记为折射率2.0的ITO;基底光栅标记为折射率2.7的Cr。实验结果表明:在光栅副的间隙介质分别为折射率1.6的阻蚀胶和折射率1.3的水时,采用优化材料的光栅标记得到的莫尔条纹图像的对比度比原标记分别提高了11.92％和4.66％。

摘要： 液晶显示器(LCD)以其重量轻、厚度薄、低电压、无辐射的特点得到了消费者的青睐.近年来,伴随着LCD尺寸的增大,通过浮脱工艺减少使用掩模数量,采用滚轮印刷、纳米压印、喷墨等技术,形成了新的面板制造技术,降低了产品价格,极大地推进了LCD的普及.本文主要从阵列技术创新的角度,浅谈LCD的发展.

摘要： 发光二极管(LED)低的外量子效率严重制约了LED的发展，本文主要介绍了提高GaN基LED外量子效率途径的最新进展，包括芯片非极性面/半极性面生长技术、分布布拉格反射层(DBR)结构、改变LED基底几何外形来改变光在LED内部反射的路径，表面粗化处理，以及新近的光子晶体技术和全息技术等。并对纳米压印与SU8相结合技术在提高LED外量子光效率方面进行了初步探索。

摘要： 本文对印刷技术的发展进行了回顾与展望。从单纯的技术角度，印刷可以定义为是通过选择性添加适当物质的方法将拟表达的信息、内容或功能呈现在适当载体上的过程，属于典型的附加型、面处理（并行处理）技术范畴，具有空间分辨率高、生产效率高和成本低的特点。正是由于这些特质，印刷是开创现代文明的重要载体，也是人类文明历史上最重要、历史最悠久的传媒技术，今天又在表面装饰、印刷电子、超高规模集成电路制备等领域得到广泛应用。作为传媒技术，印刷的核心作用是可视化，因此将适当呈色剂放置在适当载体上成为技术关键；在表面装饰和印刷电子领域中，印刷的作用是将适当功能单元（如防护、装饰、电子或光电子功能单元）选择性放置在适当载体上，以满足装饰或/和某种功能的需要；在超高规模集成电路领域，印刷的作用主要体现在表面微加工，核心是印刷技术拥有的微纳米加工的能力。

摘要： 本发明提供一种辊型纳米压印装置，其能够防止由模具辊转印纳米构造后的被转印膜的厚度不均匀，另外，能够容易地更换模具辊。本发明是通过转动模具辊在被转印膜的表面连续形成纳米尺寸的突起的辊型纳米压印装置，上述模具辊是在外周面形成有纳米尺寸的凹坑的圆筒体，上述纳米压印装置是如下辊型纳米压印装置：在被上述模具辊的内周面包围的区域，具有具备通过流体的注入能够膨胀的弹性膜的流体容器，在使上述弹性膜收缩的状态下进行模具辊的装卸，在使上述弹性膜膨胀的状态下从内侧保持模具辊。

摘要： 本发明提供一种纳米压印抗蚀剂，该纳米压印抗蚀剂包括以下组分：高支化低聚物，全氟基聚乙醚，甲基丙烯酸甲酯，以及有机稀释剂。本发明还提供采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法。本发明提供的纳米压印抗蚀剂，具有热压温度低，有利于脱模的优点。本发明提供的纳米压印方法工艺简单，成本较低，获得的纳米图形的图保真度好，分辨率高。

摘要： 本发明提供一种纳米压印抗蚀剂，该纳米压印抗蚀剂包括以下组分：高支化低聚物，全氟基聚乙醚，甲基丙烯酸甲酯，自由基引发剂以及有机稀释剂。本发明还提供采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法。本发明提供的纳米压印抗蚀剂，具有良好的流动性，粘度低，且能在较短的时间内聚合，聚合形成的图形有较好的脱模性能，较高的模量，较低的固化收缩率，有利于脱模的优点。本发明提供的纳米压印方法工艺简单，成本较低，获得的纳米图形的图保真度好，分辨率高。

摘要： 本发明实施例提供一种纳米压印装置中的压印滚轮及纳米压印装置，涉及纳米压印技术领域，该压印滚轮的滚轮体中充有气体且施压面为柔性材质，能够减小在压印的过程中，压印模板受压不均匀的问题。该纳米压印装置中的压印滚轮，包括滚轮轴以及套在滚轮轴上的滚轮体，该滚轮体包括：与滚轮轴连接的内侧面、用于与待压对象接触的施压面、以及连接内侧面和施压面的连接面，内侧面、连接面以及施压面构成的腔室中充有气体，施压面为柔性材质。

摘要： 本发明提供一种辊型纳米压印装置，其能够防止由模具辊转印纳米构造后的被转印膜的厚度不均匀，另外，能够容易地更换模具辊。本发明是通过转动模具辊在被转印膜的表面连续形成纳米尺寸的突起的辊型纳米压印装置，上述模具辊是在外周面形成有纳米尺寸的凹坑的圆筒体，上述纳米压印装置是如下辊型纳米压印装置：在被上述模具辊的内周面包围的区域，具有具备通过流体的注入能够膨胀的弹性膜的流体容器，在使上述弹性膜收缩的状态下进行模具辊的装卸，在使上述弹性膜膨胀的状态下从内侧保持模具辊。

摘要： 在纳米压印中，采用任意压印构件能够使得模型的凹凸图案与抗蚀剂之间的接触在其中心开始，而无论所述压印构件的刚性如何。纳米压印装置(10)配备有：变形赋予器件(20)，所述变形赋予器件(20)施加外力至压印构件(1)上以将所述压印构件(1)保持在预定的弯曲状态，从而对所述压印构件(1)赋予永久变形；和压印单元(40)，所述压印单元(40)采用具有被赋予的永久变形的所述压印构件(1)并且将模型(1)的凹凸图案(2)按压至设置在基板(6)上的抗蚀剂(7)上，以将凹凸图案(2)转印至所述抗蚀剂(7)。

摘要： 本发明实施例提供了一种纳米压印模具，包括：纳米压印模板，与纳米压印模板紧密连接的密封腔体。纳米压印模板用于对压印胶进行压印，且具有透气性，使得在压印过程中，该纳米压印模板的模具腔内的空气扩散进入密封腔体。密封腔体的侧壁设置抽真空孔，使得进入到该密封腔体内的空气通过抽真空孔排出。本发明实施例还公开一种纳米压印装置和纳米压印方法。由于本发明的纳米压印模板与密封腔体紧密相连，使得在压印过程中，该纳米压印模板的模具腔内的空气扩散进入密封腔体，密封腔体的侧壁设置抽真空孔，使得进入到该密封腔体内的空气通过抽真空孔排出，从而将图形转移、真空脱气整合起来，避免随机气泡的产生，减少制造时间、均匀地排出空气。

摘要： 本发明提供一种纳米压印模板，用于对显示面板上的待压印偏光片进行压印，所述显示面板包括多个像素以及位于多个所述像素之间的黑色矩阵，所述纳米压印模板包括数个压印模块以及围绕所述压印模块的非压印模块，所述纳米压印模板用于在对所述待压印偏光片压印时置于所述待压印偏光片上，且所述非压印模块在所述显示面板上的正投影在所述黑色矩阵之内。本发明解决了拼接的金属线栅偏光片用于大型显示器时会出现明显亮暗条纹的技术问题。

摘要： 本发明提供一种纳米压印抗蚀剂，该纳米压印抗蚀剂包括以下组分：高支化低聚物，全氟基聚乙醚，甲基丙烯酸甲酯，以及有机稀释剂。本发明还提供采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法。本发明提供的纳米压印抗蚀剂，具有热压温度低，有利于脱模的优点。本发明提供的纳米压印方法工艺简单，成本较低，获得的纳米图形的图保真度好，分辨率高。

摘要： 本发明提供一种纳米压印抗蚀剂，该纳米压印抗蚀剂包括以下组分：高支化低聚物，全氟基聚乙醚，甲基丙烯酸甲酯，自由基引发剂以及有机稀释剂。本发明还提供采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法。本发明提供的纳米压印抗蚀剂，具有良好的流动性，粘度低，且能在较短的时间内聚合，聚合形成的图形有较好的脱模性能，较高的模量，较低的固化收缩率，有利于脱模的优点。本发明提供的纳米压印方法工艺简单，成本较低，获得的纳米图形的图保真度好，分辨率高。