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纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法

摘要

本发明提供一种纳米压印抗蚀剂,该纳米压印抗蚀剂包括以下组分:高支化低聚物,全氟基聚乙醚,甲基丙烯酸甲酯,以及有机稀释剂。本发明还提供采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法。本发明提供的纳米压印抗蚀剂,具有热压温度低,有利于脱模的优点。本发明提供的纳米压印方法工艺简单,成本较低,获得的纳米图形的图保真度好,分辨率高。

著录项

  • 公开/公告号CN101923282B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200910108044.5

  • 发明设计人 朱振东;李群庆;张立辉;陈墨;

    申请日2009-06-09

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100084 北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-01-25

    授权

    授权

  • 2011-02-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20090609

    实质审查的生效

  • 2010-12-22

    公开

    公开

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