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IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
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1.
The Use of Segregated Hydrofluoroethers in Semiconductor Wafer Processing
机译:
在半导体晶片加工中使用分离的氢氟化物
作者:
Philip G. Clark
;
Lawrence A. Zazzera
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
2.
Achieving Reduced Production Cycle Times Via Effective Control of Key Factors of the P-K Equation
机译:
通过有效地控制P-K方程的关键因素来实现降低的生产周期时间
作者:
Adar Kalir
;
Sylvain Bouhnik
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Cycle Time;
WIP Management;
Simulation;
Variability;
DOE;
3.
Evaporation vs. Sputtering of metal layers on the Backside of Silicon wafers
机译:
硅晶片背面的金属层的蒸发与溅射
作者:
Martina Ciacchi
;
Hannes Eder
;
Hans Hirscher
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Backside metallization;
Evaporation;
Sputtering;
4.
Developing Project and Program Managers: A Blended Learning Approach
机译:
开发项目和计划经理:混合学习方法
作者:
Thomas A. Carhone
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Employee Development;
Project Management;
Human Resources;
e-learning;
Blended Learning;
5.
The Use of Segregated Hydrofluoroethers in Semiconductor Wafer Processing
机译:
在半导体晶片加工中使用分离的氢氟化物
作者:
Clark P.G.
;
Zazzera L.A.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
6.
Can You Reduce the Amount of CDs Measured, While Retaining the Required Sensitivity of Statistical Process Control (SPC)?
机译:
您是否可以减少测量的CD量,同时保留统计过程控制所需的敏感性(SPC)?
作者:
Eidelman A.
;
Asscher J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
7.
Damage-Free Cryogenic Aerosol Clean Processes
机译:
无损伤的低温气溶胶清洁过程
作者:
Hong Lin
;
Chienfan Yu
;
Chioujones K.
;
Freebern T.
;
Lauerhaas J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
8.
Equipment Productivity Enhancement by SMC (Statistical Machine Control) Application on Furnace Area
机译:
设备生产力通过SMC(统计机器控制)在炉区应用增强
作者:
Chun-Yao Wang
;
Ben Huang
;
Alex Ku
;
Chia-Ming Kuo
;
Alex Ku
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Silicon Nitride;
Low Pressure;
Statistical Machine Control (SMC);
9.
Equipment Productivity Enhancement by SMC (Statistical Machine Control) Application on Furnace Area
机译:
设备生产力通过SMC(统计机器控制)在炉区应用增强
作者:
Chun-Yao Wang
;
Ku A.
;
Huang B.
;
Chia-Ming Kuo
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
10.
Damage-Free Cryogenic Aerosol Clean Processes
机译:
无损伤的低温气溶胶清洁过程
作者:
Hong Lin
;
Kelly Chioujones
;
Tim Freebern
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Cryogenic Aerosol;
ANTARES CX system;
Damage-free;
Particle removal efficiency (PRE);
Post CoSi probe test clean;
Post NiSi probe test clean;
Post Spacer nitride deposition clean;
11.
Novel Methods for Identification and Analysis of Various Yield Problems in Semiconductor Manufacturing
机译:
半导体制造中各种产量问题的鉴定与分析新方法
作者:
Chang Huhn Lee
;
Jae Yun Moon
;
Kyu Whan Chong
;
Hyung Dong Woo
;
Seog Hee Kang
;
Kyung Seok Oh
;
Seok Woo Hong
;
Jae Cheol Lee
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
12.
Point-of-Use Ultra-Pure Water for Immersion Lithography
机译:
用于浸入光刻的使用点超纯水
作者:
Michael E. Clarke
;
Annie Xia
;
Joseph Smith
;
Bipin Parekh
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Immersion Lithography;
UPW;
TOC;
Degassing;
Ion Purification;
Temperature Control;
13.
STI Gap-Fill Technology with High Aspect Ratio Process for 45nm CMOS and beyond
机译:
STI Gap-填充技术,具有45nm CMOS及更高的高纵横比工艺
作者:
Tilke A.T.
;
Culmsee M.
;
Jaiswal R.
;
Hampp R.
;
Conti R.
;
Galiano M.
;
Stapelmann C.
;
Wille W.
;
Jain A.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
14.
Simulation Study of Robust Dispatching Algorithm for Mixed VLSl Manufacturing
机译:
混合VLSL制造稳健调度算法的仿真研究
作者:
Saito K.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
15.
Simulation Study of Robust Dispatching Algorithm for Mixed VLSI Manufacturing
机译:
混合VLSI制造鲁棒调度算法的仿真研究
作者:
Kazuyuki Saito
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
VLSI assembly;
Dispatch;
Cycle Time;
Setup;
Availability;
16.
Simulation and Design of an HDP-CVD Process for Planar Spacer Applications for Future DRAM Cell Concepts
机译:
用于未来DRAM概念的平面间隔应用HDP-CVD过程的仿真与设计
作者:
Weber H.
;
Radecker J.
;
Schulze-Icking-Konert G.
;
Bloking J.
;
Sabisch W.
;
Kersch A.
;
Whitesell H.
;
Lee Y.S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
17.
Point-of-Use Ultra-Pure Water for Immersion Lithography
机译:
用于浸入光刻的使用点超纯水
作者:
Clarke M.E.
;
Xia A.
;
Smith J.
;
Parekh B.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
18.
The Grand Pareto: A Methodology for Identifying and Quantifying Yield Detractors in a Technology for Volume Semiconductor Manufacturing
机译:
Grand Pareto:一种用于在批量半导体制造技术中识别和量化产量折断剂的方法
作者:
Zachary Berndlmaier
;
Jonathan Winslow
;
Rao Desineni
;
Alisa Blauberg
;
Benjamin Chu
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
19.
Development of a Shock Vibration Spec for 300mm Wafer AMHS Handling
机译:
开发震动和振动规格300mm晶圆AMHS处理
作者:
Steele J.
;
Biswas T.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
20.
Experimental Evaluation of Second Harmonic Generation for Non-Invasive Contamination Detection in SOI Wafers
机译:
SOI晶片中非侵入性污染检测二次谐波产生的实验评价
作者:
Michael L. Alles
;
Robert Pasternak
;
Norman H. Tolk
;
Ronald D. Schrimpf
;
Daniel M. Fleetwood
;
Robert W. Standley
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Second Harmonic Generation (SHG);
Silicon-On-Insulator (SOI);
Non-invasive;
Metrology;
Interface;
Contamination;
21.
Gap-Fill Technology with High Aspect Ratio Process for 45nm CMOS and beyond
机译:
高纵横比工艺差距填充技术,45nm CMOS及以后
作者:
A. T. Tilke
;
R. Hampp
;
C. Stapelmann
;
M. Culmsee
;
R. Conti
;
W. Wille
;
R. Jaiswal
;
M. Galiano
;
A. Jain
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Shallow Trench Isolation (STI);
High Aspect Ratio Process (HARP);
High Density Plasma (HDP);
Aspect Ratio (AR);
45nm CMOS;
22.
Simulation and Design of an HDP-CVD Process for Planar Spacer Applications for Future DRAM Cell Concepts
机译:
用于未来DRAM概念的平面间隔应用HDP-CVD过程的仿真与设计
作者:
H. Weber
;
J. Radecker
;
G. Schulze-Icking-Konert
;
J. Bloking
;
W. Sabisch
;
A. Kersch
;
H. Whitesell
;
Y. S. Lee
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
23.
Development of a Shock Vibration Spec for 300mm Wafer AMHS Handling
机译:
开发震动和振动规格300mm晶圆AMHS处理
作者:
Jay Steele
;
Tamal Biswas
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
300mm semiconductor automation;
AMHS;
Shock;
Vibration;
24.
The Grand Pareto: A Methodology for Identifying and Quantifying Yield Detractors in a Technology for Volume Semiconductor Manufacturing
机译:
Grand Pareto:一种用于在批量半导体制造技术中识别和量化产量折断剂的方法
作者:
Berndlmaier Z.
;
Winslow J.
;
Desineni R.
;
Blauberg A.
;
Chu B.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
25.
Brightfieid iADC Applications for Yield Learning and Excursion Monitoring
机译:
BrightFieid IADC用于产量学习和游览监测的应用
作者:
John Wittenzellner
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
26.
Brightfield iADC Applications for Yield Learning and Excursion Monitoring
机译:
BrightField IADC应用程序的屈服学习和游览监控
作者:
Wittenzellner J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
27.
Novel Methods for Identification and Analysis of Various Yield Problems in Semiconductor Manufacturing
机译:
半导体制造中各种产量问题的鉴定与分析新方法
作者:
Chang Huhn Lee
;
Hyung Dong Woo
;
Seog Hee Kang
;
Seok Woo Hong
;
Jae Cheol Lee
;
Kyu Whan Chong
;
Kyung Seok Oh
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Semiconductor manufacturing;
Yield analysis;
Software;
Statistical analysis;
Pattern recognition;
Clustering;
K-means;
ANOVA;
Kruscal-Wallis;
Scheffe test;
Feature vector;
28.
Experimental Evaluation of Second Harmonic Generation for Non-Invasive Contamination Detection in SOI Wafers
机译:
SOI晶片中非侵入性污染检测二次谐波产生的实验评价
作者:
Alles M.L.
;
Schrimpf R.D.
;
Fleetwood D.M.
;
Pasternak R.
;
Tolk N.H.
;
Standley R.W.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
29.
Prognostic/Diagnostic Health Management System (PHM) for Fab Efficiency
机译:
用于FAB效率的预后/诊断健康管理系统(PHM)
作者:
Chin Sun
;
Bisland S.G.
;
Nguyen K.
;
Long Vu
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
30.
AMHS Software Solutions to Increase Manufacturing System Performance
机译:
AMHS软件解决方案可以提高制造系统性能
作者:
Tony Wiethoff
;
Casey Swearingen
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
AMHS Performance;
Proactive Vehicle Staging;
Priority;
Parallel Port Delivery;
Dynamic Vehicle Re-Allocation;
31.
F A R O S -- Fully Automated Robotic Sorter Cluster Use for Single Wafer Tracking in Semiconductor Manufacturing
机译:
F A R O S - 全自动机器人分拣机集群用于半导体制造中的单晶片跟踪
作者:
Heinlein F.
;
Kuehn A.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
32.
Robust Defect Detection System Using Double Reference Image Averaging for High Throughput SEM Inspection Tool
机译:
使用双参考图像对高吞吐量SEM检查工具进行双参考图像的鲁棒缺陷检测系统
作者:
Hiroi T.
;
Okuda H.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
33.
AMHS Software Solutions to Increase Manufacturing System Performance
机译:
AMHS软件解决方案可以提高制造系统性能
作者:
Wiethoff T.
;
Swearingen C.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
34.
Robust Defect Detection System Using Double Reference Image Averaging for High Throughput SEM Inspection Tool
机译:
使用双参考图像对高吞吐量SEM检查工具进行双参考图像的鲁棒缺陷检测系统
作者:
Takashi Hiroi
;
Hirohito Okuda
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Scanning Electron Microscopy (SEM);
Inspection;
Defect Judgment;
Image Processing System;
35.
Pattern Based Prediction for Plasma Etch
机译:
基于模式的等离子体蚀刻预测
作者:
Kwaku O. Abrokwah
;
P. R. Chidambaram
;
Duane S. Boning
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Pattern Density;
Reactive Ion Etch (RIE);
Aspect Ratio Dependent Etch (ARDE);
Feature Level Variation;
Die Level Variation;
Microloading;
Pattern Dependency;
36.
Choosing Optimal Control Structure for Run-to-Run Control - A Thin Film Example
机译:
选择跑步控制的最佳控制结构 - 薄膜示例
作者:
Patel N.S.
;
Rajagopal R.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
37.
Prognostic/Diagnostic Health Management System (PHM) for Fab Efficiency
机译:
用于FAB效率的预后/诊断健康管理系统(PHM)
作者:
Chin Sun
;
Kevin Nguyen
;
Long Vu
;
Scott G. Bisland
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Knowledge Management (KM);
Prognostics;
Diagnostics;
Health Management;
Rule-based;
Factory Automation (FA);
Equipment Integration (EI);
Manufacturing Execution Systems (MES);
Fault Detection and Classification (FDC);
38.
FAROS-Fully Automated Robotic Sorter Cluster Use for Single Wafer Tracking in Semiconductor Manufacturing
机译:
Faros完全自动机器人分拣机集群用于半导体制造中的单晶片跟踪
作者:
Frank Heinlein
;
Andreas Kuehn
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Automation;
Robotics;
Single Wafer Tracking;
Randomization;
Manufacturing Efficiency;
39.
Choosing Optimal Control Structure for Run-to-Run Control - A Thin Film Example
机译:
选择跑步控制的最佳控制结构 - 薄膜示例
作者:
Nital S. Patel
;
Ramkumar Rajagopal
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Run-to-run;
Advanced Process Control (APC);
Control structure;
Kalman filters;
Exponentially Weighted Moving Average (EWMA);
Thin Films;
High Density Plasma (HDP);
Chemical Vapor Deposition (CVD);
40.
Pattern Based Prediction for Plasma Etch
机译:
基于模式的等离子体蚀刻预测
作者:
Abrokwah K.O.
;
Chidambaram P.
;
Boning D.S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
41.
Litho area cycle time reduction in an advanced 300mm semiconductor manufacturing line
机译:
Litho区域循环时间减少了先进的300mm半导体制造线
作者:
van der Eerden J.
;
Walbrick W.
;
Niesing H.
;
Saenger T.
;
Schuurhuis R.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
42.
High Volume Manufacturing Ramp In 90nm Dual Stress Liner Technology
机译:
90nm双应力衬垫技术的大容量制造坡道
作者:
R. Gehres
;
R. Malik
;
R. Amos
;
J. Brown
;
S. Butt
;
A. Chan
;
C. Collins
;
B. Colwill
;
B. Davies
;
A. Gabor
;
N. Le
;
P. Undo
;
K. Mello
;
E. Meyette
;
V. Nastasi
;
D. P. Prakash
;
T. Rust
;
A. Santiago
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Dual Stress Liner;
90nm;
300mm manufacturing;
SOT;
43.
Yield Improvement Using a Fast Product Wafer Level Monitoring System
机译:
使用快速产品晶圆级监测系统产生改进
作者:
Michele Squicciarini
;
Christopher Hess
;
Irfan Saadat
;
Anand Inani
;
Yun Lin
;
Hideki Matsuhashi
;
Ron Lindley
;
Nobuchika Akiya
;
Edward F. Kaste
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
44.
Metrology Delay Time Reduction in Lithography with an Enhanced AMHS using Local FOUP Buffering
机译:
使用当地FOUP缓冲的增强AMH的光刻延迟时间减少
作者:
Vinay Shah
;
Englhardt E.
;
Koshti S.
;
Armer H.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
45.
MES Validation using FAB-wide Equipment Simulation
机译:
MES验证使用Fab-宽设备仿真
作者:
Khiam Wei Ow
;
Aik Giap Koh
;
Hwee Kiang Khoo
;
Chih Chuan Shih
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
46.
Robust Real-Time Thin Film Thickness Estimation
机译:
坚固的实时薄膜厚度估计
作者:
Choon Meng Kiew
;
Tay A.
;
Weng Khuen Ho
;
Khiang Wee Lim
;
Lee J.H.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
47.
High Volume Manufacturing Ramp In 90nm Dual Stress Liner Technology
机译:
90nm双应力衬垫技术的大容量制造坡道
作者:
Gehres R.
;
Malik R.
;
Amos R.
;
Brown J.
;
Butt S.
;
Chan A.
;
Collins C.
;
Colwill B.
;
Davies B.
;
Gabor A.
;
Le N.
;
Lindo P.
;
Mello K.
;
Meyette E.
;
Nastasi V.
;
Patrick J.
;
Piper A.
;
Prakash D.P.
;
Rust T.
;
Santiago A.
;
Su T.
;
Van Roijen R.
;
Rutten M.
;
Slisher
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
48.
Robust Real-Time Thin Film Thickness Estimation
机译:
坚固的实时薄膜厚度估计
作者:
Choon Meng Kiew
;
Arthur Tay
;
Jay H. Lee
;
Weng Khuen Ho
;
Khiang Wee Lim
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Semiconductor Manufacturing;
Microlithography;
Photoresist Development;
Film Thickness Estimation;
Optical Spectrometry;
49.
Metrology Delay Time Reduction in Lithography with an Enhanced AMHS using Local FOUR Buffering
机译:
使用当地四缓冲的增强AMH的光刻延迟时间减少
作者:
Vinay Shah
;
Eric Englhardt
;
Sushant Koshti
;
Helen Armer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Metrology delay time;
Litho cell cycle time;
Send-ahead wafers;
Integrated metrology;
AMHS;
Small lot manufacturing;
50.
Litho area cycle time reduction in an advanced 300mm semiconductor manufacturing line
机译:
Litho区域循环时间减少了先进的300mm半导体制造线
作者:
Joris van der Eerdert
;
Tim Saenger
;
Walter Walbrick
;
Henk Niesing
;
Ron Schuurhuis
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Cycle time;
Litho area;
Modeling;
EPT;
Effective utilization;
Cluster uptime;
51.
MES Validation using FAB-wide Equipment Simulation
机译:
MES验证使用Fab-宽设备仿真
作者:
Khiam Wei Ow
;
Aik Giap Koh
;
Hwee Kiang Khoo
;
Chih Chuan Shih
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
52.
Yield Improvement Using a Fast Product Wafer Level Monitoring System
机译:
使用快速产品晶圆级监测系统产生改进
作者:
Hess C.
;
Saadat I.
;
Inani A.
;
Yun Lin
;
Matsuhashi H.
;
Squicciarini M.
;
Lindley R.
;
Akiya N.
;
Kaste E.F.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
53.
Smaller is Better? Maximization of Good Chips per Wafer by Co-Optimization of Yield and Chip Area
机译:
较小更好?通过共同优化产量和芯片区域最大化晶片的良好芯片
作者:
Hanno Melzner
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Yield;
Chip area;
Linear shrink;
Critical Area;
Redundancy;
54.
Smaller is Better? Maximization of Good Chips per Wafer by Co-Optimization of Yield and Chip Area
机译:
较小更好?通过共同优化产量和芯片区域最大化晶片的良好芯片
作者:
Melzner H.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
55.
Holistic Cycle Time Analysis and Improvement Project within a 200mm Lithography 1-line Production Area
机译:
200毫米光刻的整体周期时间分析和改进项目1线生产区域
作者:
Thomas Zarbock
;
Frank Lehmann
;
Jens Fellendorf
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
WIP Flow Management;
Intrinsic Equipment Efficiency (IEE);
Single Minute Exchange of Die (SMED);
Simulation;
56.
Holistic Cycle Time Analysis and Improvement Project within a 200mm Lithography I-line Production Area
机译:
200毫米光刻I线生产区内的整体周期时间分析和改进项目
作者:
Zarbock T.
;
Lehmann F.
;
Fellendorf J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
57.
Full Field, ArF Immersion Projection Tool
机译:
全场,ARF浸没投影工具
作者:
Soichi Owa
;
Kenichi Shiraishi
;
Shirou Nagaoka
;
Tomoharu Fujiwara
;
Yuuki Ishii
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Immersion lithography;
Overlay;
Defectivity;
Polarized illumination;
Catadioptric optics;
58.
Full Field, ArF Immersion Projection Tool
机译:
全场,ARF浸没投影工具
作者:
Owa S.
;
Fujiwara T.
;
Ishii Y.
;
Shiraishi K.
;
Nagaoka S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
59.
Clean Dicing of Compound Semiconductors Using the Water-Jet Guided Laser Technology
机译:
使用喷射引导激光技术清洁化合物半导体的切割
作者:
Perrottet D.
;
Green S.
;
Richerzhagen B.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
60.
Single-Wafer vs. Batch Wet Surface Preparation in BEOL: a Comparison of Polymer Cleans using Inorganic Chemicals in Flash Memory Production
机译:
BEOL中的单晶片与批湿表面制剂:在闪存生产中使用无机化学品的聚合物清洁比较
作者:
Terri Couteau
;
Gary Dawson
;
John Halladay
;
Leo Archer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
BEOL;
Dilute sulfuric-peroxide (DSP);
Polymer removal;
Inorganic chemical;
Single-wafer vs. batch;
Flash memory;
Contact clean;
61.
Clean Dicing of Compound Semiconductors Using the Water-Jet Guided Laser Technology
机译:
使用喷射引导激光技术清洁化合物半导体的切割
作者:
Delphine Perrottet
;
Sean Green
;
Bernold Richerzhagen
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Laser dicing;
Water jet-guided laser;
Laser-Microjet;
Compound semiconductors;
Wafer edge grinding;
62.
Single-Wafer vs. Batch Wet Surface Preparation in BEOL: a Comparison of Polymer Cleans using Inorganic Chemicals in Flash Memory Production
机译:
BEOL中的单晶片与批湿表面制剂:在闪存生产中使用无机化学品的聚合物清洁比较
作者:
Couteau T.
;
Dawson G.
;
Halladay J.
;
Archer L.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
63.
Early detection of crystal defects in the device process flow by electron beam inspection
机译:
通过电子束检验,早期检测装置过程中的晶体缺陷
作者:
O. Moreau
;
A. Kang
;
V. Mantovani
;
I. Mica
;
M. L. Polignano
;
L. Avaro
;
C Pastore
;
G. Pavia
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Dislocations;
Leakage current;
E beam inspection;
Voltage contrast detection;
64.
Low-K and Interconnect Stacks - a Status Report
机译:
Low-K和互连堆栈 - 状态报告
作者:
Dick James
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
65.
Low-K and Interconnect Stacks -- a Status Report
机译:
Low-K和互连堆栈 - 状态报告
作者:
James D.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
66.
Early detection of crystal defects in the device process flow by electron beam inspection
机译:
通过电子束检验,早期检测装置过程中的晶体缺陷
作者:
Moreau O.
;
Kang A.
;
Mantovani V.
;
Mica I.
;
Polignano M.L.
;
Avaro L.
;
Pastore C.
;
Pavia G.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
67.
Performance Evaluation of Serial Photolithography Clusters: Queueing Models, Throughput and Workload Sequencing
机译:
串行光刻簇的性能评估:排队模型,吞吐量和工作负载排序
作者:
Morrison J.R.
;
Bortnick B.
;
Martin D.P.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
68.
Performance Evaluation of Serial Photolithography Clusters: Queueing Models, Throughput and Workload Sequencing
机译:
串行光刻簇的性能评估:排队模型,吞吐量和工作负载排序
作者:
James R. Morrison
;
Beverly Bortnick
;
Donald P. Martin
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Cluster tools;
Queueing models;
Photolithography performance evaluation;
Throughput;
Cycle time;
Workload sequencing;
69.
First Look at Across-chip Performance Variation Using Non Contact, Performance-Based Metrology
机译:
首先使用非接触,基于性能的计量的芯片平移性能变化
作者:
Majid Babazadeh
;
Jose Estabil
;
Bertrand Borot
;
Gloria Johnson
;
Nader Pakdaman
;
Wim Doedel
;
James Vickers
;
Gary Steinbrueck
;
Jean Galvier
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Across-Chip Linewidth Variation (ACLV);
Across-chip variation;
In-field uniformity;
In-line metrology;
Non-contact probe;
Embedded Ring Oscillator;
DFM;
70.
First Look at Across-chip Performance Variation Using Non-Contact, Performance-Based Metrology
机译:
首先使用非联系人,基于性能的计量学
作者:
Babazadeh M.
;
Johnson G.
;
Vickers J.
;
Estabil J.
;
Pakdaman N.
;
Steinbrueck G.
;
Borot B.
;
Doedel W.
;
Galvier J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
71.
Scheduling Semiconductor Manufacturing Plants to Reduce Mean and Variance of Cycle-Time
机译:
调度半导体制造工厂以减少循环时间的平均值和方差
作者:
Lu S.C.H.
;
Ramaswamy D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
72.
Isolating the Killer Defect: Process Analysis using Particle Map to Probe Map Correlation
机译:
隔离杀手缺陷:使用粒子图进行处理分析探测地图相关性
作者:
Carman E.
;
Lawrence C.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
73.
A Sampled Data Approach To Yield Modeling And Analysis
机译:
一种采样的数据方法来屈服建模和分析
作者:
ODonoghue G.
;
Cheek G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
74.
Statistical Optimization Of Aluminum Etch In The Ame 8330 Utilizing Total Productive Maintenance
机译:
AME 8330中铝蚀刻的统计优化利用总生产力维护
作者:
Guy B.K.
;
Herron B.I.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
75.
Integration of Technical Support Into Manufacturing at IBM's 200-mm Wafer Facility
机译:
在IBM的200毫米晶圆设施中将技术支持整合到制造中
作者:
McClure S.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
76.
Automatic Defect Classification Using Fuzzy Logic
机译:
采用模糊逻辑自动缺陷分类
作者:
Luria M.
;
Adin E.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
77.
Cost of Ownership Model for Process Gas Improvements
机译:
工艺天然气改进的所有权模型成本
作者:
Kellam M.
;
Osburn C.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
78.
FAST Particle Detection for In-Situ Reactor Analysis
机译:
原位反应堆分析的快速粒子检测
作者:
Whitlock W.H.
;
Tapp F.L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
79.
Worldwide On-line Documentation/data Retrieval System
机译:
全球在线文档/数据检索系统
作者:
Lucas D.
;
Robinson M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
80.
Analytical optimization of the Plasma Clean Cycle for a Nitride PECVD System as evaluated by Cost of Ownership
机译:
通过所有权成本评估的氮化物PECVD系统等离子体清洁循环的分析优化
作者:
Langan J.
;
Sui Yuan Lynn
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
81.
An Evaluation of Surface Finish and Flush-Up Procedures for High Purity HCI Gas Distribution Systems
机译:
高纯度HCI气体分配系统表面光洁度和冲洗程序的评价
作者:
Duguid R.
;
Coder S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
82.
Process Improvements and Empowerment in a Vlsi Pilot Line
机译:
在VLSI试验线中的过程改进和赋权
作者:
Conway J.
;
Maimon J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
83.
Cost Analysis for a Multiple Product / Multiple Process Factory: Application of SEMATECH's Future Factory Design Methodology
机译:
多产品/多过程工厂的成本分析:Sematech未来工厂设计方法的应用
作者:
Neacy E.
;
Abt N.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
84.
The Evolution of Self-directed Work Teams Within a Collective Bargaining Environment
机译:
集体谈判环境中自主工作团队的演变
作者:
Bishop R.A.
;
Murphy R.E.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
85.
Microelectronics Manufacturing Education
机译:
微电子制造教育
作者:
Fuller L.F.
;
Pearson R.E.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
86.
IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
机译:
IEEE /半高级半导体制造会议和研讨会
作者:
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
87.
Open Software Architecture for the Semiconductor Industry
机译:
开放半导体行业的软件架构
作者:
Kramer J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
88.
Software Engineering for Semiconductor Manufacturing Equipment Suppliers
机译:
半导体制造设备供应商的软件工程
作者:
Baudoin C.R.
;
Kantor J.P.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
89.
Global Consistency of UHP Gas Supply APIMS Certification of On-Site Nitrogen Plants
机译:
UHP气体供应APIMS认证现场氮植物的全局一致性
作者:
Ezell E.
;
Nakayasu T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
90.
Silicon Glen: the Scottish Electronics Cluster
机译:
硅胶:苏格兰电子集群
作者:
Perry J.A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
91.
Research Directions for VLSI at Minimum Capital Cost
机译:
最低资本成本的VLSI研究方向
作者:
Bois D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
92.
An Evaluation of 4X Reticles for 250nm DUV Lithography
机译:
评估250nm DUV光刻的4X颗粒
作者:
Sewell H.
;
Deluca N.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
93.
Opportunities for Gigascale Integration (GSI) Beyond 2003
机译:
2003年超越吉斯卡尔集成的机会(GSI)
作者:
Meindl J.D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
94.
The Deployment of TPM in the First 8' Wafer Pilot Line in Taiwan
机译:
在台湾前8“晶圆试验线的TPM部署
作者:
Liu D.
;
Yang J.M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
95.
Future Technological and Economic Prospects for VLSI
机译:
VLSI未来的技术和经济前景
作者:
Komiya H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
96.
Framework for an Advanced Inspection Program
机译:
高级检查计划的框架
作者:
Cappel R.
;
Nasr M.B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
97.
Cost Reduction in U.s. Semiconductor Fabrication Environment
机译:
美国的成本减少半导体制造环境
作者:
Joseph V.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
98.
Technical Feasibility of Self Directed Work Team Concept in Supervisorless Semiconductor Fabrication Environment Using CIM Based Real-Time Productivity Monitors
机译:
基于CIM的实时生产力监视器,基于CIM的监控半导体制造环境中自我定向工作团队概念的技术可行性
作者:
Joseph V.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
99.
Fab of the Future
机译:
未来的工厂
作者:
Art D.
;
OHalloran M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
100.
The MMST Future-Factory Vision
机译:
MMST未来工厂的愿景
作者:
Doering R.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
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