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An Evaluation of 4X Reticles for 250nm DUV Lithography

机译：评估250nm DUV光刻的4X颗粒

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来源
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》|2001年||共1页
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作者
Sewell H.; Deluca N.; Institute of Electric and Electronic Engineer;
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正文语种
中图分类自动化技术、计算机技术;
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