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IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
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1.
Key considerations in the development of defect sampling methodologies
机译:
缺陷采样方法开发的关键考虑因素
作者:
McIntyre M.
;
Nurani R.K.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
2.
The effectiveness of defect-to-yield correlations semiconductor manufacture
机译:
缺陷对产量相关性的有效性半导体制造
作者:
Zinke K.
;
Spencer R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
3.
The SHOP tracking and notification system
机译:
商店跟踪和通知系统
作者:
Trexler R.J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
4.
Dispositioning defective but reworkable product
机译:
处置有缺陷但可再加工的产品
作者:
Lagacy L.
;
Gaboriault M. Jr.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
5.
Reduction of shorts between polysilicon word lines on a 4 Meg DRAM product
机译:
在4 Meg DRAM产品上减少多晶硅字线之间的短裤
作者:
Todoroff J.A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
6.
Fluorine induced formation of intermetal dielectric defects
机译:
氟诱导成矿介电缺陷的形成
作者:
Tiemessen M.
;
Wang P.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
7.
A new chemistry for a high-density plasma etcher that improves etch rate loading on the TiN ARC layer when geometries are below 0.5 micron
机译:
当几何时,用于高密度等离子体蚀刻器的新化学,可提高锡弧层上的蚀刻速率载荷。
作者:
Abraham S.C.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
8.
Using queueing curve approximations in a fab to determine productivity improvements
机译:
使用FAB中的排队曲线近似来确定生产率改进
作者:
Sattler L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
9.
Cycle time improvement in manufacturing nitrided gate oxides for ULSI CMOS applications
机译:
ULSI CMOS应用中制造氮化栅氧化物的循环时间改进
作者:
Yoon G.
;
Epstein Y.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
10.
An advanced endpoint solution for 1 open area applications; contact and via
机译:
高级端点解决方案> 1%开放区域应用;联系和通过
作者:
Biolsi P.
;
Drachnik L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
11.
Constraint management through the drum-buffer-rope system
机译:
通过鼓缓冲绳系统的约束管理
作者:
Klusewitz G.
;
Rerick R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
12.
Comparative advantage through manufacturing execution systems
机译:
通过制造执行系统的比较优势
作者:
Scott D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
13.
Managing factory risk to improve customer satisfaction
机译:
管理工厂风险,以提高客户满意度
作者:
DePinto G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
14.
Waferless pattern recognition recipe creation using StatTrax
机译:
使用stattrax的仿真模式识别配方创建
作者:
Ridens M.G.
;
Wilson E.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
15.
Use of goal modeling and reliability engineering tools to accelerate availability improvement in new equipment development
机译:
使用目标建模和可靠性工程工具,以加速新设备开发的可用性改进
作者:
King A.J.
;
Rojhantalab H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
16.
Automated metrology qualification strategy IC measurement
机译:
自动计量资格策略IC测量
作者:
Chain E.E.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
17.
Capacity planning for development wafer fab expansion
机译:
开发晶圆FAB扩展的容量规划
作者:
Chou W.
;
Everton J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
18.
Manufacturing advancements in an organic SOG process by Ar/sup +/ implantation
机译:
AR / SUP + /植入有机晕船过程中的制造进步
作者:
Berti A.C.
;
Farina O.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
19.
Abnormal trend detection of sequence-disordered data using EWMA method wafer fabrication
机译:
使用EWMA方法β序列无序数据的异常趋势检测晶圆制作
作者:
Jr-Min Fan
;
Ruey-Shan Guo
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
20.
Quintuple ramp up slope by implementing cross-functional, self-directed work teams
机译:
通过实施交叉功能,自我导向的工作团队来Quintuple斜坡斜坡
作者:
Boebel F.G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
21.
Issues on the size and outline of killer defects and their influence on yield modeling
机译:
杀手缺陷大小和概述的问题及其对产量建模的影响
作者:
Hess C.
;
Weiland L.H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
22.
300 mm tool automation and its impact on fab design and OEE
机译:
300毫米工具自动化及其对Fab设计和OEE的影响
作者:
Weiss M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
23.
APC in the semiconductor industry, history and near term prognosis
机译:
APC在半导体行业,历史和近期预后
作者:
Barna G.G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
24.
Integrated measurement and analysis concept at SMST, a defect management system
机译:
SMST的综合测量和分析概念,缺陷管理系统
作者:
Tochtrop T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
25.
Yield risk cards at D2
机译:
在D2产生风险卡
作者:
Agostino T.
;
Dhar V.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
26.
The development and optimization of the photoresist module qualification procedure
机译:
光刻胶模块资格程序的开发与优化
作者:
Thornton J.
;
Goodner R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
27.
Defect reduction and cost savings through re-inventing RCA cleans
机译:
通过重新发明RCA清洁,减少缺陷和成本节约
作者:
Ouimet G.
;
Rath D.L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
28.
Automated metrology for increased throughput and reliability
机译:
自动计量,增加吞吐量和可靠性
作者:
Chain E.E.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
29.
The make-or-buy problem: a multidimensional perspective of foundry decisions
机译:
制作或购买问题:铸造决策的多维视角
作者:
Padillo J.M.
;
Meyersdorf D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
30.
Advanced yield enhancement: computer-based spatial pattern analysis. Part 1
机译:
高级产量增强:基于计算机的空间模式分析。第1部分
作者:
Fourmun Lee
;
Chatterjee A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
31.
The impact of data integration on yield enhancement
机译:
数据集成对产量增强的影响
作者:
Smith S.
;
Gondran C.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
32.
Production worthy 0.25 /spl mu/m polycide gate etch system
机译:
生产价值0.25 / SPL MU / M多纤维栅蚀刻系统
作者:
Olson K.
;
McCulloch L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
33.
Partnership for a rapid yield enhancement solution in a manufacturing environment on a 0.65 /spl mu/m triple level metal device
机译:
在0.65 / SPL MU / M三级金属装置的制造环境中为快速产量增强解决方案的伙伴关系
作者:
Kong G.Y.
;
Peterson J.W.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
34.
Engineering data analysis using Discovery semiconductor manufacture
机译:
使用Discovery 半导体制造工程数据分析
作者:
Fowler L.
;
Davis T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
35.
Semiconductor factory automation: designing for phased automation
机译:
半导体厂房自动化:为阶段自动化设计
作者:
Gardner D.C.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
36.
Operations management system for continuous flow manufacturing
机译:
连续流动制造运营管理系统
作者:
Ruelle O.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
37.
Exposure field matching of multiple step-and-scan systems to multiple step-and-repeat systems
机译:
将多个步骤和扫描系统的曝光场匹配到多个步骤和重复系统
作者:
Pellegrini J.
;
Sturtevant J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
38.
A systematic team approach for improving LPCVD silicon nitride reactor performance
机译:
改进LPCVD氮化硅反应器性能的系统团队方法
作者:
Pollard B.
;
Betti P.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
39.
A comparative analysis of run-to-run control algorithms in the semiconductor manufacturing industry
机译:
半导体制造业跑步控制算法的比较分析
作者:
Zhe Ning
;
Moyne J.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
40.
Integrated yield management: a systematic approach to yield management
机译:
综合产量管理:一种系统化管理的方法
作者:
Effron M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
41.
Holistic TOC for maximum profitability
机译:
全面TOC的最大盈利能力
作者:
Murphy R.E. Jr.
;
Dedera C.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
42.
Comparison of patterned wafer defect detection tools for general in-line monitors
机译:
普通在线显示器普通晶片缺陷检测工具的比较
作者:
Ceton R.
;
Goodner R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
43.
Real-time process monitoring semiconductor manufacturing line
机译:
实时过程监控半导体制造线
作者:
Bunkofske R.J.
;
Pascoe N.T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
44.
Throughput of steppers with off-axis illuminators: analysis and experiments
机译:
带轴外照觉器的吞吐量:分析与实验
作者:
Tyminski J.K.
;
McNamara S.J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
45.
ASMC 96 Invited Speakers
机译:
asmc 96邀请扬声器
作者:
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
46.
Implementation of an in-situ particle monitoring methodology in a production environment
机译:
在生产环境中实现原位粒子监测方法
作者:
Khawaja Y.
;
Felker S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
47.
Semiconductor business, process, product and fab influence on throughput, cycle time and chip cost
机译:
半导体业务,过程,产品和工厂对吞吐量,周期时间和芯片成本的影响
作者:
Kraft C.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1996年
48.
A statistical method for correlating in-line defectivity to probe yield
机译:
一种与探针产率相关缺陷的统计学方法
作者:
Durham J.
;
Roussel M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
49.
Development of dynamic tool PID/PWP limits to achieve product defect density goal
机译:
动态工具PID / PWP限制的开发实现产品缺陷密度目标
作者:
Jacobson L.
;
Hua Su
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
50.
Non-determinism and process variability in the design development process case study: Cypress Semiconductor
机译:
设计开发过程案例研究中的非确定性和过程变异性:柏树半导体
作者:
Popek T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
51.
Effects of defect propagation/growth on in-line defect based yield prediction
机译:
缺陷繁殖/生长对基于线缺陷的产量预测的影响
作者:
Nurani R.K.
;
Strojwas A.J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
52.
Modeling, scheduling, and dispatching in the dynamic environment of semiconductor manufacturing at FASL, Japan
机译:
在法斯尔,日本半导体制造动态环境中的建模,调度和调度
作者:
Pickett B.
;
Zuniga M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
53.
CTRAIN. A cross-training concept
机译:
Ctrain。交叉训练概念
作者:
Brandt L.
;
Fife G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
54.
The influence of copper contamination on gate oxide integrity
机译:
铜污染对栅极完整性的影响
作者:
Vermeire B.
;
Parks H.G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
55.
Today's LMS
机译:
今天的LMS
作者:
Sell R.F.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
56.
Determining product value based on consumption of factory constraints
机译:
基于工厂限制消耗确定产品价值
作者:
Witte J.D.
;
Ashline M.L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
57.
Faster time to market-key to communications equipment manufacturing success in the global marketplace
机译:
更快的时间到市场关键的通信设备在全球市场上的成功
作者:
Tsourikov V.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
58.
Microelectronic webucation, using the world wide web to provide educational material on microelectronic process engineering
机译:
微电子借方,采用万维网为微电子工艺工程提供教育材料
作者:
Pearson R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
59.
Greenfield planning using innovative analytical tools
机译:
使用创新分析工具的格林菲尔德规划
作者:
Lubash J.
;
Porter A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
60.
Real-time dispatch gets real-time results in AMD's Fab 25
机译:
实时调度在AMD的Fab中获得实时结果25
作者:
Appleton-Day K.
;
Shao L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
61.
Throughput time forecasting model
机译:
吞吐时间预测模型
作者:
Raddon A.
;
Grigsby B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
62.
Mask cycle time and serviceability improvement through capacity planning and scheduling software
机译:
通过容量规划和调度软件进行掩模循环时间和可维护性改进
作者:
Caron M.
;
Fronckowiak D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
63.
Historical data modeling determines future collection criteria
机译:
历史数据建模确定未来的收集标准
作者:
Gwin J.
;
Rodriguez R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
64.
Stepper registration analysis using Monte Carlo modeling
机译:
使用Monte Carlo建模步进注册分析
作者:
Waldo W.G.
;
Selinidis K.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
65.
Copy EXACTLY! A paradigm shift in technology transfer method
机译:
完全复制!技术转移方法的范式转变
作者:
McDonald C.J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
66.
Effective excursion detection and source isolation with defect inspection and classification
机译:
有效的偏移检测和缺陷检测和分类源隔离
作者:
Shindo W.
;
Wang E.H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
67.
BEOL yield predictions for SIA roadmap
机译:
SIA路线图的BEOL产量预测
作者:
Chan L.
;
Geuskens B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
68.
Implementation of a test wafer inventory tracking system to increase efficiency in monitor wafer usage
机译:
用于提高监测晶片使用效率的测试晶片库存跟踪系统的实现
作者:
Popovich S.B.
;
Chilton S.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
69.
Statistical process simulation with neural network single step feed-back for automatic process monitoring and control
机译:
具有神经网络的统计过程模拟,用于自动过程监控和控制的单步进料
作者:
Chen V.M.C.
;
Yung-Tao Lin
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
70.
Harnessing potential and developing skills: a picture of productivity gains in Photo. 2
机译:
利用潜力和发展技巧:照片中的生产力收益的图片。 2
作者:
Mack P.
;
Karakekes M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
71.
Development of cost effective sampling strategy for in-line monitoring
机译:
在线监测开发成本有效的采样策略
作者:
Tomlinson W.
;
Nurani R.K.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
72.
Improving overall fabricator performance using the continuous improvement methodology
机译:
使用持续改进方法改善整体制造商性能
作者:
Labanowski L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
73.
Reactive ion etch of silicon nitride spacer with high selectivity to oxide
机译:
具有高选择性氧化物的氮化硅间隔物的反应离子蚀刻
作者:
Regis J.M.
;
Joshi A.M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
74.
Yield enhancement techniques using neural network pattern detection
机译:
利用神经网络模式检测产生增强技术
作者:
Zinke K.
;
Nasr M.B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
75.
A new technique for automated wafer inspection and classification of particles and crystalline defects
机译:
一种新技术,用于自动晶圆检测和粒子分类和晶体缺陷
作者:
Lie Dou
;
Broderick M.-P.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
76.
Construction of a 'Grand Pareto' for line yield loss, by process loop using limited data sets
机译:
通过有限数据集的过程循环构建线屈服丢失的“大帕圈”
作者:
Li J.
;
McIntyre M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
77.
Potential benefits of using commercial simulators to test equipment control systems
机译:
使用商业模拟器来测试设备控制系统的潜在好处
作者:
Ruppel F.
;
Wysor W.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
78.
Optical flatness and alignment mark contrast in highly planar technologies
机译:
高度平面技术的光学平坦度和对准标记对比
作者:
Golz J.
;
Martin A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
79.
A novel approach to monitoring of plasma processing equipment and plasma damage without test structures
机译:
一种新的等离子体加工设备和血浆损坏的新方法,没有测试结构
作者:
Hoff A.
;
Nauka K.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
80.
Development of optimum annular illumination: a lithography-TCAD approach
机译:
开发最佳环形照明:光刻-TCAD方法
作者:
Li M.
;
Milor L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
81.
Modular approach to continuous process yield improvements
机译:
连续过程产量改进的模块化方法
作者:
Koepf R.
;
Hummel M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
82.
Fabless-foundry partnerships: research on coordination issues
机译:
Fabless-Foundry Partnerships:协调问题研究
作者:
Seshadri S.
;
Shanthikumar J.G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
83.
Overhead intrabay automation and microstocking. A virtual fab case study
机译:
开销的interabay自动化和微体。虚拟FAB案例研究
作者:
Campbell P.L.
;
Laitinen G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
84.
Advanced methods for analysis of wafer-to-wafer yield variation
机译:
用于分析晶片到晶圆屈服变化的先进方法
作者:
Pak J.
;
Kittler R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
85.
Analysis of electrical test data using a neural network approach
机译:
使用神经网络方法分析电气测试数据
作者:
Koppenhoefer B.
;
Wuerthner S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
86.
Manufacturing implementation of corona oxide silicon (COS) systems for diffusion furnace contamination monitoring
机译:
用于扩散炉污染监测电晕氧化硅(COS)系统的制造实施
作者:
Cosway R.G.
;
Catmull K.B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
87.
Effective in-line defect monitoring with variable wafer area coverage
机译:
可变晶圆面积覆盖的有效在线缺陷监控
作者:
Kuo W.W.
;
Akella R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
88.
Molecular contamination on silicon wafers: a theoretical study
机译:
硅晶片上的分子污染:理论研究
作者:
Sheng-Bai Zhu
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
89.
An accelerated maintenance technician training program
机译:
加速维护技术人员培训计划
作者:
Dauphinee J.
;
Barber H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
90.
Comparison of defect size distributions based on electrical and optical measurement procedures
机译:
基于电气和光学测量程序的缺陷尺寸分布比较
作者:
Hess C.
;
Weiland L.H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
91.
Modeling of defect propagation/growth for early yield impact prediction in VLSI fabrication
机译:
VLSI制造早期产量影响预测缺陷繁殖/增长的建模
作者:
Li X.
;
Strojwas A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
92.
Resistive extraction of polysilicon gate linewidth
机译:
多晶硅闸门线宽的电阻提取
作者:
Miles G.
;
Hook T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
93.
Estimates of integrated circuit yield components from in-line inspection data and post-process sort data
机译:
从线上检查数据和后处理后分类数据的集成电路产生组件的估计
作者:
Harris R.E.
;
Gandhi A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
94.
Cycle time reduction for semiconductor wafer fabrication facilities
机译:
半导体晶片制造设施的循环时间减少
作者:
Meyersdorf D.
;
Yang T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
95.
In-situ deposited WSi/sub x/ polycide for high frequency transistor gate structures
机译:
用于高频晶体管栅极结构的原位沉积WSI / Sub X / Polycide
作者:
Lu Z.
;
Golonka L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
96.
The role of self-directed work teams in a concurrent, multi-generation semiconductor process development effort
机译:
自主工作团队在并发的多代半导体过程开发工作中的作用
作者:
Weber C.
;
Rosner J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
97.
Incorporating manufacturing objectives into the semiconductor facility layout design process: A methodology and selected cases
机译:
将制造目标纳入半导体设施布局设计过程:方法和选定案例
作者:
Padillo J.M.
;
Meyersdorf D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
98.
The optimization of in-line scanner defect sizing using a circuit's layout and critical area
机译:
使用电路布局和关键区域优化在线扫描仪缺陷尺寸尺寸
作者:
Lee A.
;
Milor L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
99.
Evaluation of defect detection schemes for CMP process monitoring using rigorous 3-D EM simulations
机译:
使用严格的3-D EM模拟评估CMP过程监控缺陷检测方案
作者:
Swecker A.L.
;
Strojwas A.J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
100.
Graphical manufacturing monitoring system
机译:
图形制造监控系统
作者:
Yurtsever T.
;
Ying Chan
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
1997年
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