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High Volume Manufacturing Ramp In 90nm Dual Stress Liner Technology

机译：90nm双应力衬垫技术的大容量制造坡道

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《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》|2006年||共6页
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Gehres R.; Malik R.; Amos R.; Brown J.; Butt S.; Chan A.; Collins C.; Colwill B.; Davies B.; Gabor A.; Le N.; Lindo P.; Mello K.; Meyette E.; Nastasi V.; Patrick J.; Piper A.; Prakash D.P.; Rust T.; Santiago A.; Su T.; Van Roijen R.; Rutten M.; Slisher;
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