Run-to-run; Advanced Process Control (APC); Control structure; Kalman filters; Exponentially Weighted Moving Average (EWMA); Thin Films; High Density Plasma (HDP); Chemical Vapor Deposition (CVD);
机译:反馈控制的整合和对氧化铪薄膜的等离子体增强原子层沉积的反馈控制和运行控制
机译:PECVD系统的运行控制:应用于多尺度三维CFD模型的硅薄膜沉积
机译:通过控制ZnO薄膜生长的Vl / ll比并使用改良的薄膜晶体管层结构来改善金属有机化学气相沉积生长的ZnO薄膜晶体管的特性
机译:为运行间控制选择最佳控制结构-薄膜示例
机译:反馈控制的整合和运行控制对氧化铪薄膜的等离子体增强的原子层沉积
机译:使用改进的运行间控制算法优化餐前胰岛素剂量的临床更新
机译:反馈控制的整合和对氧化铪薄膜的等离子体增强原子层沉积的反馈控制和运行控制
机译:用于高T(sub c)超导体和其他多组分氧化物薄膜和分层结构的计算机控制离子束沉积系统。