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IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
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1.
Fluctuation Smoothing Production Control at IBM's 200mm Wafer Fabricator: Extensions, Application and the Multi-Flow Production Index (MFPx)
机译:
IBM 200mm晶圆制造商的波动平滑生产控制:扩展,应用和多流量生产指数(MFPX)
作者:
Morrison J.R.
;
Dews E.
;
LaFreniere J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
2.
Yield Improvement Using Fail Signature Detection Algorithm (FSDA)
机译:
使用失败签名检测算法(FSDA)产生提高
作者:
Anand Inani
;
Richard Burch
;
Brian Stine
;
Joseph Kim
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Yield Ramp;
FSDA;
Yield Spatial Pattern;
3.
Improving Gate Poly CD Bias Control Using Voltage Controller Interface
机译:
使用电压控制器接口改善栅极多CD偏置控制
作者:
Cindy Daigle
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Gate Poly Etch;
Voltage Controller (VCI);
RF Match;
CD Bias;
Process Control;
4.
Improving Gate Poly CD Bias Control Using Voltage Controller Interface
机译:
使用电压控制器接口改善栅极多CD偏置控制
作者:
Daigle C.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
5.
Post Implant Strip Optimization for 90nm and Beyond Technologies
机译:
90nm及超出技术的后植入物条优化
作者:
Fuller N.C.M.
;
Chienfan Yu
;
Santiago A.
;
Mello K.
;
Molis S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
6.
Innovative Yield Modeling using Statistics
机译:
使用统计数据的创新产量建模
作者:
Kevin Anderson
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
7.
Si Crystallization Monitoring Using EBSD Technique
机译:
使用EBSD技术进行Si结晶监测
作者:
Youngjee Yoon
;
Jungtaek Lim
;
ChungSam Jun
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
EBSD;
Crystallization;
SRAM;
Single crystal silicon;
8.
A New Category of Particles at 65nm Technology and Below
机译:
在65nm技术和下面的新类别粒子
作者:
Rathei D.
;
Neuber A.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
9.
Si Crystallization Monitoring Using EBSD Technique
机译:
使用EBSD技术进行Si结晶监测
作者:
Youngjee Yoon
;
Jungtaek Lim
;
ChungSam Jun
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
10.
Innovative Yield Modeling using Statistics
机译:
使用统计数据的创新产量建模
作者:
Anderson K.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
11.
Post Implant Strip Optimization for 90nm and Beyond Technologies
机译:
90nm及超出技术的后植入物条优化
作者:
Nicholas C. M. Fuller
;
Anthony Santiago
;
Kevin Mello
;
Chienfan Yu
;
Steve Molis
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Implant;
Plasma Strip;
End Point;
Defectivity;
Yield;
12.
Evaluating deep trench profile by Fourier Transform Infrared spectroscopy
机译:
傅里叶变换红外光谱评估深沟概况
作者:
Mike Wang
;
Tony Cheng
;
Chung-I Chang
;
Tings Wang
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
DRAM;
Deep trench;
FTIR;
Capacitance;
13.
Yield Improvement Using Fail Signature Detection Algorithm (FSDA)
机译:
使用失败签名检测算法(FSDA)产生提高
作者:
Inani A.
;
Burch R.
;
Stine B.
;
Kim J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
14.
Daily Indicator Review Team (DIRT)
机译:
每日指标审查团队(DIRT)
作者:
Camacho D.
;
Newlon D.
;
Murphy A.
;
Moran M.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
15.
A New Category of Particles at 65nm Technology and Below
机译:
在65nm技术和下面的新类别粒子
作者:
Dieter Rathei
;
Andreas Neuber
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Particle size distribution;
Yield models;
Ultrafine particles;
Semiconductor manufacturing;
Defect density;
16.
Daily Indicator Review Team
机译:
每日指标审查团队
作者:
Dimas Camacho
;
Dave Newlon
;
Anthony Murphy
;
Mike Moran
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Sort;
Continuous Improvement;
Productivity;
Manufacturing Performance;
17.
Evaluating deep trench profile by Fourier Transform Infrared spectroscopy
机译:
傅里叶变换红外光谱评估深沟概况
作者:
Wang M.
;
Cheng T.
;
Chung-I Chang
;
Tings Wang
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
18.
Detectivity Performance of Full Field Immersion Photolithography Tool
机译:
全场浸没光刻工具的探测性能
作者:
Katsushi Nakano
;
Shirou Nagaoka
;
Soichi Owa
;
Irfan Malik
;
Tetsuya Yamamoto
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Immersion-specific defects;
Immersion Photolithography;
Immersion resists;
19.
Defectivity Performance of Full Field Immersion Photolithography Tool
机译:
全场浸没光刻工具的缺陷性能
作者:
Nakano K.
;
Malik I.
;
Yamamoto T.
;
Nagaoka S.
;
Owa S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
20.
A Method of Manufacturing a Low Defect, Low Stress Pre-metal Dielectric Stack for High Reliability and MEMs Applications
机译:
一种制造低缺陷,低应力预金属介质堆的方法,用于高可靠性和MEMS应用
作者:
John J. Naughton
;
Mark M. Nelson
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
BPSG;
PSG;
CMP;
PETEOS;
PECVD;
Micro Scratching;
Planarization;
ILD;
Pre Metal Dielectric (PMD);
21.
Deep Trench Resistance and leakage Reduction - Poly 1 Doping Process Optimization in High Volume DRAM Manufacturing for 300mm Factory
机译:
深度沟槽抗性和泄漏减少 - 300mm厂的高批量DRAM制造中的多1掺杂工艺优化
作者:
Min-Soo Kim
;
William Cooper
;
Brian Simonson
;
David Ricks
;
Eric McDaniel
;
Roderick Miller
;
Richard Chapman
;
Thomas Taylor
;
Robert Fuller
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
300mm DRAM manufacturing;
N+ doped poly-silicon;
Deep Trench (DT) technology;
Node leakage;
Signal margin;
Yield enhancement;
Process optimization;
Furnace loading effect;
22.
Optimization of Ultrasonic Cleaning for Erosion-Sensitive Microelectronic Components
机译:
腐蚀敏感微电子元件超声波清洗优化
作者:
Nagarajan R.
;
Diwan M.
;
Awasthi P.
;
Shukla A.
;
Sharma P.
;
Goodson M.
;
Awad S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
23.
New methodology for ultra-fast detection and reduction of non-visual defects at the 90nm node and below using comprehensive e-test structure infrastructure and inline DualBeam FIB
机译:
使用全面的电子测试结构基础架构和内联双波FIB在90nm节点和下面的超快速检测和减少非视觉缺陷的新方法
作者:
Michael B. Schmidt
;
Hyong H. Kang
;
Larry Dworkin
;
Kenneth R. Harris
;
Sherry F. Lee
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Failure Analysis;
Non-visual Defects;
Defect Localization;
Advanced Metrology;
Yield enhancement;
Voltage Contrast;
24.
New Tool for Targeting Energy Improvements in Semiconductor Manufacturing Equipment
机译:
用于定位半导体制造设备的能量改进的新工具
作者:
Phil Naughton
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Energy;
Energy Conversion Factor;
Total Equivalent Energy;
25.
Control of Contact Hole Distortion by Using Polymer Deposition Process (PDP) for sub-65nm Technology and Beyond
机译:
使用聚合物沉积工艺(PDP)对Sub-65nm技术及更远来控制接触孔失真的控制
作者:
Judy Wang
;
Shing-li Sung
;
Shawming Ma
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
PDP;
Distortion;
Contact etch;
Dielectric etch;
26.
A Best Known Method for Forming a Multi-Fab Cost Reduction Infrastructure and Applying Innovative Cost Reduction Techniques in Diffusion
机译:
一种形成多工厂成本减少基础设施的最佳已知方法,并在扩散中应用创新成本降低技术
作者:
Harel Hershkovitz
;
Manoj Batra
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
27.
Optimization of Ultrasonic Cleaning for Erosion-Sensitive Microelectronic Components
机译:
腐蚀敏感微电子元件超声波清洗优化
作者:
R. Nagarajan
;
M. Diwan
;
P. Awasthi
;
A. Shukla
;
P. Sharma
;
M. Goodson
;
S. Awad
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Ultrasonic;
Cavitation;
Erosion;
Cleaning;
Silicon wafer;
28.
Cycle Time Approximations for the G/G/m Queue Subject to Server Failures and Cycle Time Offsets with Applications
机译:
G / G / M队列的循环时间近似于服务器故障和使用应用程序的循环时间偏移
作者:
Morrison J.R.
;
Martin D.P.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
29.
Challenges and Methodology of Fab-to-fab CD-SEM Matching
机译:
Fab-to-Fab CD-SEM匹配的挑战和方法
作者:
Thomas Marschner
;
Uwe Kramer
;
Kerstin Muehlstaedt
;
Alessandra Navarra
;
Christian Stief
;
Stefano Ventola
;
Dieter Gscheidlen
;
Uwe Groh
;
Jasen Moffitt
;
Tricia Burroughs
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Advanced Metrology;
CD SEM;
Matching;
Litho-Metrology;
30.
The Development of the Non-contact Electrical Leakage Property Measurement System for the High-K Dielectric Materials on DRAM Capacitors
机译:
DRAM电容器高k电介质材料的非接触电漏性能测量系统的开发
作者:
Yusin Yang
;
Byung Sug Lee
;
Misung Lee
;
Chung Sam Jun
;
Tae Sung Kim
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
High-K material;
Al{sub}2O{sub}3;
Hf0{sub}2;
Storage capacitor;
Kelvin probe;
Electrical leakage property;
31.
Cycle Time Approximations for the G/G/m Queue Subject to Server Failures and Cycle Time Offsets with Applications
机译:
G / G / M队列的循环时间近似于服务器故障和使用应用程序的循环时间偏移
作者:
James R. Morrison
;
Donald P. Martin
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Approximate performance evaluation;
G/G/m queue;
Cycle time;
Server failures;
Cycle time offsets;
Hold time;
32.
Control of Contact Hole Distortion by Using Polymer Deposition Process (PDP) for sub-65nm Technology and Beyond
机译:
使用聚合物沉积工艺(PDP)对Sub-65nm技术及更远来控制接触孔失真的控制
作者:
Wang J.
;
Shing-li Sung
;
Shawming Ma
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
33.
Novel Sustainable and Structured Model, System and Methodology for Engineering Competency Development
机译:
工程能力发展的新型可持续和结构化模型,系统和方法
作者:
Ronnie Choo Hean Ng
;
Sook Chien Chan
;
Victor Kam Kien Wong
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Technical Training;
Employee Development;
Emerging Skills;
Increasing Productivity;
Effective recruiting amp;
Hiring;
34.
New methodology for ultra-fast detection and reduction of non-visual defects at the 90nm node and below using comprehensive e-test structure infrastructure and in-line DualBeamTM FIB
机译:
使用全面的电子测试结构基础设施和在线DualbeamTM FIB的超快速检测和降低非快速检测和减少非视觉缺陷的新方法
作者:
Schmidt M.B.
;
Kang H.H.
;
Dworkin L.
;
Harris K.R.
;
Lee S.F.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
35.
A Method of Manufacturing a Low Defect, Low Stress Pre-metal Dielectric Stack for High Reliability and MEMs Applications
机译:
一种制造低缺陷,低应力预金属介质堆的方法,用于高可靠性和MEMS应用
作者:
Naughton J.J.
;
Nelson M.M.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
36.
The Development of the Non-contact Electrical Leakage Property Measurement System for the High-K Dielectric Materials on DRAM Capacitors
机译:
DRAM电容器高k电介质材料的非接触电漏性能测量系统的开发
作者:
Yusin Yang
;
Chung Sam Jun
;
Tae Sung Kim
;
Byung Sug Lee
;
Misung Lee
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
37.
A Best Known Method for Forming a Multi-Fab Cost Reduction Infrastructure and Applying Innovative Cost Reduction Techniques in Diffusion.
机译:
一种形成多工厂成本减少基础设施的最佳已知方法,并在扩散中应用创新成本降低技术。
作者:
Hershkovitz H.
;
Batra M.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
38.
Novel Sustainable and Structured Model, System and Methodology for Engineering Competency Development
机译:
工程能力发展的新型可持续和结构化模型,系统和方法
作者:
Ronnie Choo Hean Ng
;
Sook Chien Chan
;
Victor Kam Kien Wong
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
39.
Infusion processing for advanced transistor manufacturing
机译:
高级晶体管制造的输液处理
作者:
Wes Skinner
;
Matt Gwinn
;
John Hautala
;
Takashi Kuroi
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Infusion doping;
Ultra shallow junctions;
Poly doping;
SiGe;
40.
Methods for Fast Yield Learning in A DRAM Wafer Fab using a Remote Packaging and Test Site
机译:
使用远程封装和测试站点的DRAM晶圆厂快速收益率的方法
作者:
Robert Trahan
;
Richard Chapman
;
Nathan Gumaer
;
Winford Hill
;
Ana Bicho
;
Marco Gomes
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
41.
Deep Trench Resistance and leakage Reduction -- Poly1 Doping Process Optimization in High Volume DRAM Manufacturing for 300mm Factory
机译:
深度沟槽抗性和泄漏减少 - 300毫米工厂大量DRAM制造中的Poly1掺杂工艺优化
作者:
Min-Soo Kim
;
Cooper W.
;
Simonson B.
;
Ricks D.
;
McDaniel E.
;
Miller R.
;
Chapman R.
;
Taylor T.
;
Fuller R.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
42.
Infusion processing for advanced transistor manufacturing
机译:
高级晶体管制造的输液处理
作者:
Skinner W.
;
Gwinn M.
;
Hautala J.
;
Kuroi T.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
43.
New Tool for Targeting Energy Improvements in Semiconductor Manufacturing Equipment
机译:
用于定位半导体制造设备的能量改进的新工具
作者:
Naughton P.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
44.
Methods for Fast Yield Learning in A DRAM Wafer Fab using a Remote Packaging and Test Site.
机译:
使用远程封装和测试部位在DRAM晶片Fab中快速屈服的方法。
作者:
Trahan R.
;
Hill W.
;
Chapman R.
;
Bicho A.
;
Gumaer N.
;
Gomes M.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
45.
Challenges and Methodology of Fab-to-fab CD-SEM Matching
机译:
Fab-to-Fab CD-SEM匹配的挑战和方法
作者:
Marschner T.
;
Kramer U.
;
Muehlstaedt K.
;
Navarra A.
;
Moffitt J.
;
Stief C.
;
Ventola S.
;
Gscheidlen D.
;
Groh U.
;
Burroughs T.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
46.
Flash FEOL Edge Detectivity-Ultra Thin Co{sub}xSi{sub}y Fiber Detectivity Detection, Characterizations, Root Cause Identification and Fixes to Eliminate Failures at Sort Yield
机译:
flash feol边缘探测 - 超薄co {sub} xsi {sub} y光纤探测检测,表征,根本原因识别和修复,以消除排序产量的故障
作者:
Mike Meyer
;
Dan Sutton
;
Mike Laura
;
Mike Covert
;
Dan Sutton
;
Chris Raeder
;
Chris Foster
;
David Price
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
FEOL Killer Defects;
CoSi Defects;
CMP Polish;
Yield Improvement;
Photo Overlay;
Poly Si Gate Etch;
E-beam inspection (EBI);
ULoop;
ES31;
47.
Flash FEOL Edge Defectivity -- Ultra Thin CoxSiy Fiber Defectivity Detection, Characterizations, Root Cause Identification and Fixes to Eliminate Failures at Sort Yield
机译:
Flash Feol边缘缺陷 - 超薄Coxsiy纤维缺陷检测,特征,根本原因识别和修复,以消除排序产量的故障
作者:
Pressley L.
;
Meyer M.
;
Sutton D.
;
Covert M.
;
Raeder C.
;
Foster C.
;
Price D.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
48.
Performance of Polarised Illuminators in Hyper NA Lithography Tools
机译:
超高性光刻工具中的偏振光器的性能
作者:
Tomoyuki Matsuyama
;
Hisashi Nishinaga
;
Noriaki Tokuda
;
Shigeru Hirukawa
;
Osamu Tanitsu
;
Soichi Owa
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Polarized Illumination;
Hyper NA lithography;
Immersion lithography;
49.
Detection of Resistive Shorts and Opens using Voltage Contrast Inspection
机译:
检测电阻短路,并使用电压对比检查打开
作者:
Patterson O.D.
;
Wildman H.
;
Gal D.
;
Wu K.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
50.
Detection of Resistive Shorts and Opens using Voltage Contrast Inspection
机译:
检测电阻短路,并使用电压对比检查打开
作者:
Oliver D. Patterson
;
Horatio Wildman
;
Doron Gal
;
Kevin Wu
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
E-beam inspection;
Inspection SEM;
Voltage contrast;
Programmed defects;
Soft failures;
Resistive opens and shorts;
51.
An Empirical Study of Photomask Manufacturing Productivity
机译:
光掩模制造生产率的实证研究
作者:
C. Neil Berglund
;
Charles M. Weber
;
Cesar Castitla
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Photomask;
Manufacturing;
Productivity;
52.
Short-Interval Detailed Production Scheduling in 300mm Semiconductor Manufacturing using Mixed Integer and Constraint Programming
机译:
使用混合整数和约束编程300mm半导体制造的短间隔详细生产
作者:
Bixby R.
;
Burda R.
;
Miller D.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
53.
Performance of Polarized Illuminators in Hyper NA Lithography Tools
机译:
超高性光刻工具中的偏振光器的性能
作者:
Matsuyama T.
;
Tokuda N.
;
Tanitsu O.
;
Owa S.
;
Hirukawa S.
;
Nishinaga H.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
54.
An Empirical Study of Photomask Manufacturing Productivity
机译:
光掩模制造生产率的实证研究
作者:
Berglund C.N.
;
Weber C.M.
;
Castilla C.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
55.
Short-Interval Detailed Production Scheduling in 300mm Semiconductor Manufacturing using Mixed Integer and Constraint Programming
机译:
使用混合整数和约束编程300mm半导体制造的短间隔详细生产
作者:
Robert Bixby
;
Rich Burda
;
David Miller
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Short-Interval Detailed Production Scheduling;
Mixed Integer Programming (MIP);
Constraint Programming (CP);
Cycle time;
56.
From Atoms and Molecules to Information and Knowledge: New Driving Forces in Manufacturing
机译:
从原子和分子到信息和知识:制造业的新推动力
作者:
Meieran E.S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
57.
Semi-quantitative Analysis Techniques for AMC Monitoring
机译:
AMC监测的半定量分析技术
作者:
Mei Leng Kwan
;
Muller C.
;
See Boon Tan
;
Thomas R.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
58.
From Atoms and Molecules to Information and Knowledge: New Driving Forces in Manufacturing
机译:
从原子和分子到信息和知识:制造业的新推动力
作者:
Eugene S. Meieran
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Knowledge-sharing;
Manufacturing;
Semiconductors;
59.
Semi-quantitative Analysis Techniques for AMC Monitoring
机译:
AMC监测的半定量分析技术
作者:
Mei Leng Kwan
;
Chris Muller
;
See Boon Tan
;
Raymond Thomas
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Airborne molecular contamination;
AMC;
Impingers;
Reactivity monitors;
Semiquantitative monitoring;
Surface molecular contaminations;
Witness wafer;
60.
Application of Back-side Alignment of Thick Layers for the Manufacturing of Advanced Power Devices
机译:
厚层背面对准在高级电力装置制造中的应用
作者:
Jung Kil Lee
;
Rodney Chisholm
;
Mark van der Heijden
;
Keith Best
;
Peter ten Berge
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Back-side alignment;
Thick layers;
Overlay;
Cycle time reduction;
Cost reduction;
61.
Advanced Process Monitoring and Control Methods for Poly Gate CD Targeting
机译:
聚闸CD靶向的先进过程监控方法
作者:
Underwood J.
;
Gray J.
;
Shepherd N.
;
Caldwell M.
;
Neel M.
;
Darlington B.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
62.
Enabling Facility Re-Use for 300mm Semiconductor Manufacturing via Integration of Automated Material Handling System and Facility Design
机译:
通过集成自动材料处理系统和设施设计,使设施能够重新使用300mm半导体制造
作者:
Seall S.
;
Steele D.C.
;
Jung M.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
63.
Enabling Facility Re-Use for 300mm Semiconductor Manufacturing via Integration of Automated Material Handling System and Facility Design
机译:
通过集成自动材料处理系统和设施设计,使设施能够重新使用300mm半导体制造
作者:
Steve Seall
;
Douglas C. Steele
;
Melvin Jung
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
300mm conversion;
Automated Material Handling Systems (AMHS);
Facility design and re-use;
64.
Incorporating SIMS Structures in Product Wafers in Order to Perform SIMS and other Material Analysis and Achieve Wafer Level Information about the Front-End Processing
机译:
在产品晶片中结合SIMS结构,以执行SIMS和其他材料分析并实现有关前端处理的晶圆级信息
作者:
Thanas Budri
;
Loren Krott
;
Neil Patel
;
Aaron Smith
;
Burcay Gurcan
;
Kendra Crocker
;
Randy Supczak
;
Craig Printy
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
SIMS;
Electron Beam Probe;
SIMS Test Structures;
Photo Global Alignment Marks;
65.
Curriculum Development for Semiconductor Industry in Malaysia: A Case Study of Technical Development Programs for Technicians and Engineers in Wafer Manufacturing Company
机译:
马来西亚半导体产业课程开发 - 以晶圆制造公司技术人员和工程师技术开发计划为例
作者:
Abdullah bin Lin
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Curriculum development;
Career development;
Semiconductor wafer fabrication;
Nanotechnology;
Retention;
66.
Application of Back-side Alignment of Thick Layers for the Manufacturing of Advanced Power Devices
机译:
厚层背面对准在高级电力装置制造中的应用
作者:
Jung Kil Lee
;
Chisholm R.
;
van der Heijden M.
;
Best K.
;
ten Berge P.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
67.
Curriculum Development for Semiconductor Industry in Malaysia: A Case Study of Technical Development Programs for Technicians and Engineers in Wafer Manufacturing Company
机译:
马来西亚半导体产业课程开发 - 以晶圆制造公司技术人员和工程师技术开发计划为例
作者:
Abdullah bin Lin
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
68.
Incorporating SIMS Structures in Product Wafers in Order to Perform SIMS and other Material Analysis and Achieve Wafer Level Information about the Front-End Processing
机译:
在产品晶片中结合SIMS结构,以执行SIMS和其他材料分析并实现有关前端处理的晶圆级信息
作者:
Budri T.
;
Krott L.
;
Patel N.
;
Smith A.
;
Gurcan B.
;
Crocker K.
;
Supczak R.
;
Printy C.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
69.
Advanced Process Monitoring and Control Methods for Poly Gate CD Targeting
机译:
聚闸CD靶向的先进过程监控方法
作者:
J. Underwood
;
J. Gray
;
N. Shepherd
;
M. Caldwel
;
M. Neel
;
B. Darlington
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Advanced Process Control (APC);
Polysilicon Etch;
Process Monitor and Control;
Semiconductor Manufacturing;
Lithographic exposure control;
70.
Deep Trench Top Collar Oxide Etching for DRAM Manufacturing
机译:
DRAM制造的深沟顶部轴环氧化物蚀刻
作者:
Guowen Zheng
;
Gary Skinner
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
DRAM;
Etching;
Oxide;
Deposition;
Endpoint;
71.
Cycle Time Perspectives for Small Transfer Batch Size
机译:
小型转移批量尺寸的周期时间透视
作者:
D. Rex Wright
;
Tom Chang
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Cycle Time;
Lot Size;
Automated Material Handling System (AMHS);
Transport Batch Size;
X-Factor;
72.
Throughput Enhancement in Electron Beam Direct Writing by Multiple-cell Shot Technique for Logic Devices
机译:
逻辑设备多池拍摄技术电子束直接写入吞吐量增强
作者:
Kosai S.
;
Magoshi S.
;
Inanami R.
;
Hamada M.
;
Hatori F.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
73.
Deep Trench Top Collar Oxide Etching for DRAM Manufacturing
机译:
DRAM制造的深沟顶部轴环氧化物蚀刻
作者:
Guowen Zheng
;
Skinner G.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
74.
Dielectric Engineering on Cell Capacitor for Advanced Trench DRAM
机译:
高级沟槽DRAM电池电容器介电工程
作者:
Chien-Kang Kao
;
Chun-Yao Wang
;
Ku A.
;
Chih-Ming Chang
;
Chia-Ming Kuo
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
75.
Throughput Enhancement in Electron Beam Direct Writing by Multiple-cell Shot Technique for Logic Devices
机译:
逻辑设备多池拍摄技术电子束直接写入吞吐量增强
作者:
Shohei Kosai
;
Ryoichi Inanami
;
Mototsugu Hamada
;
Shunko Magoshi
;
Fumitoshi Hatori
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Electron Beam Direct Writing (EBDW);
Character Projection (CP);
Standard Cell (SC);
Multiple-Cell Shot;
Search Area;
76.
Semantically Enabled Media in Equipment Service Documentation Leads to Lower Cost Operations
机译:
设备服务文档中的语义启用媒体导致降低成本运营
作者:
Cort Keller
;
Dan Peters
;
Eduardo Gamez
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Semantically Enabled Media;
DITA;
SEMI-E36;
EPSS;
Performance;
Maintenance;
Equipment;
Manual;
Schematic;
Procedure;
Service;
Documentation;
77.
Dielectric Engineering on Cell Capacitor for Advanced Trench DRAM
机译:
高级沟槽DRAM电池电容器介电工程
作者:
Chien-Kang Kao
;
Chih-Ming Chang
;
Chia-Ming Kuo
;
Chun-Yao Wang
;
Alex Ku
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Capacitor;
Dielectric;
Nitridation;
Band Structure;
DRAM;
78.
Semantically Enabled Media in Equipment Service Documentation Leads to Lower Cost Operations
机译:
设备服务文档中的语义启用媒体导致降低成本运营
作者:
Keller C.
;
Peters D.
;
Gamez E.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
79.
Cycle Time Perspectives for Small Transfer Batch Size
机译:
小型转移批量尺寸的周期时间透视
作者:
Wright D.R.
;
Chang T.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
80.
Single Electron Transistor Fabrication using Focused Ion Beam direct write technique
机译:
单电子晶体管制造采用聚焦离子束直接写技术
作者:
Kumar Karre P.S.
;
Bergstrom P.L.
;
Govind M.
;
Karna S.P.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
81.
Blended Learning -- Neither Shaken nor Stirred
机译:
混合学习 - 既不动摇也没有搅动
作者:
Simington B.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
82.
Single Electron Transistor Fabrication using Focused Ion Beam direct write technique
机译:
单电子晶体管制造采用聚焦离子束直接写技术
作者:
P. Santosh Kumar Karre
;
Paul L. Bergstrom
;
Mallik Govind
;
Shashi P. Kama
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Single Electron Transistors (SETs);
Focused Ion Beam (FIB);
Scanning Electron Microscopy (SEM);
Quantum Islands;
Tunnel Junctions;
83.
Dynamic Wet-Furnace Dispatching/Scheduling in Wafer Fab
机译:
晶圆厂的动态湿式炉调度/调度
作者:
Myoungsoo Ham
;
Raiford M.
;
Dillard F.
;
Risner W.
;
Knisely M.
;
Harrington J.
;
Murtha T.
;
HyungTae Park
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
84.
Blended Learning-Neither Shaken nor Stirred
机译:
混合学习 - 既没有动摇也不搅动
作者:
Bob Simington
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Training;
Learning;
e-Learning;
Technology-Delivered Training;
Blended Learning;
ILT;
WBT;
EPSS;
Performance Management;
85.
Dynamic Wet-Furnace Dispatching/Scheduling in Wafer Fab
机译:
晶圆厂的动态湿式炉调度/调度
作者:
Myoungsoo Ham
;
Michael Raiford
;
Frank Dillard
;
Meghan Knisely
;
James Harrington
;
Tom Murtha
;
Wayne Risner
;
HyungTae Park
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Wet;
Furnace;
Dispatching;
Scheduling;
Queue time restriction;
Pull;
86.
Can You Reduce the Amount of CDs Measured, While Retaining the Required Sensitivity of Statistical Process Control (SPC)?
机译:
您是否可以减少测量的CD量,同时保留统计过程控制所需的敏感性(SPC)?
作者:
Anna Eidelman
;
Jacqueline Asscher
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Sampling;
CD control;
Advanced SPC;
ARL;
87.
Corporate Partnerships Establish an Asynchronous Learning Initiative with the University of the Philippines, College of Engineering
机译:
企业伙伴关系建立了与菲律宾大学,工程学院的异步学习倡议
作者:
Saquilayan M.C.
;
Tulao J.
;
Benitez M.T.
;
Hall T.
;
Jensen R.P.
;
Que N.S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
88.
Evaporation vs. Sputtering of metal layers on the Backside of Silicon wafers
机译:
硅晶片背面的金属层的蒸发与溅射
作者:
Ciacchi M.
;
Eder H.
;
Hirscher H.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
89.
High and Hyper NA Immersion Lithography using Advanced Patterning Film APF TM
机译:
使用先进的Patterning薄膜APF TM高且超级NA浸入光刻
作者:
van der Reijden M.J.
;
Op de Beeck M.
;
Sleeckx E.
;
Jaenen P.
;
Kunnen E.
;
Degroote B.
;
Wendy Yeh
;
Schreutelkamp R.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
90.
Corporate Partnerships Establish an Asynchronous Learning Initiative with the University of the Philippines, College of Engineering
机译:
企业伙伴关系建立了与菲律宾大学,工程学院的异步学习倡议
作者:
Ma Cristina Saquilayan
;
Tomas Hall
;
Norbert S. Que
;
Joselito Tulao
;
Randal P. Jensen
;
Maria Teresa Benitez
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Distance Learning;
Asynchronous Distance Learning;
Distributed Graduate Instruction;
DIGRI;
91.
The Effect of Wafer Substrate Resistance on Inter Poly Oxide Thickness Variation
机译:
晶片衬底电阻对多氧化物厚度变化的影响
作者:
Towner J.M.
;
Naughton J.J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
92.
Formation and Reduction of Embedded Contamination Defects Detected after FEOL Poly Patterning
机译:
在Feol Poly Patterning之后检测到嵌入污染缺陷的形成和减少
作者:
Chienfan Yu
;
Arndt R.
;
Ronsheim P.
;
Lawrence M.St.
;
Hong Lin
;
Zaitz M.
;
Colwill B.
;
Bruley J.
;
Crispo G.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
93.
High and Hyper NA Immersion Lithography using Advanced Patterning Film APF
机译:
使用先进的图案化薄膜高且高Na浸入光刻APF
作者:
Marc J. van der Reijden
;
Maaike Op de Beeck
;
Erik Sleeckx
;
Patrick Jaenen
;
Eddy Kunnen
;
Bart Degroote
;
Wendy Yeh
;
Robert Schreutelkamp
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Lithography advances and challenges;
Immersion Lithography;
APF;
DARC193;
(Organic)-ARC;
94.
Metal Layer Monitoring in DRAM Production by use of Spectroscopic Ellipsometry-based Scatterometry
机译:
通过使用光谱椭圆形散射测定法在DRAM生产中监测金属层监测
作者:
Wang M.
;
Cheng T.
;
Chen J.
;
Chung I Chang
;
Tings Wang
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
95.
Fluctuation Smoothing Production Control at IBM's 200mm Wafer Fabricator: Extensions, Application and the Multi-Flow Production Index
机译:
IBM 200mm晶圆制造商的波动平滑生产控制:延伸,应用和多流量生产指标
作者:
James R. Morrison
;
Elizabeth Dews
;
John LaFreniere
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Fluctuation smoothing;
Production control;
WIP management;
96.
Developing Project and Program Managers: A Blended Learning Approach
机译:
开发项目和计划经理:混合学习方法
作者:
Carbone T.A.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
97.
The Effect of Wafer Substrate Resistance on Inter Poly Oxide Thickness Variation
机译:
晶片衬底电阻对多氧化物厚度变化的影响
作者:
Janet M. Towner
;
John J. Naughton
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Capacitor oxide;
PECVD TEOS deposition;
Electrostatic charging;
98.
Achieving Reduced Production Cycle Times Via Effective Control of Key Factors of the P-K Equation
机译:
通过有效地控制P-K方程的关键因素来实现降低的生产周期时间
作者:
Kalir A.
;
Bouhnik S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
99.
Formation and Reduction of Embedded Contamination Defects Detected after FEOL Poly Patterning
机译:
在Feol Poly Patterning之后检测到嵌入污染缺陷的形成和减少
作者:
Chienfan Yu
;
Russ Arndt
;
Paul Ronsheim
;
Mary St. Lawrence
;
Hong Lin
;
Mary Zaitz
;
Bryant Colwill
;
John Bruley
;
Gary Crispo
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Embedded contamination;
Trace metallic;
Defect source analysis (DSA);
100.
Metal Layer Monitoring in DRAM Production by use of Spectroscopic Ellipsometry-based Scatterometry
机译:
通过使用光谱椭圆形散射测定法在DRAM生产中监测金属层监测
作者:
Mike Wang
;
Jay Chen
;
Tony Cheng
;
Chung_I Chang
;
Tings Wang
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Spectroscopic Ellipsometry (SE);
Critical Dimension (CD);
Scanning Electron Microscope (SEM);
Wafer acceptance test (WAT);
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