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酞菁铜

酞菁铜的相关文献在1989年到2022年内共计202篇,主要集中在化学、无线电电子学、电信技术、化学工业 等领域,其中期刊论文115篇、会议论文9篇、专利文献67300篇;相关期刊72种,包括哈尔滨理工大学学报、吉林大学学报(理学版)、大连交通大学学报等; 相关会议8种,包括第十三届全国工程电介质学术会议、2010年第九届中国国际纳米科技(西安)研讨会、第五届全国环境化学大会会议等;酞菁铜的相关文献由524位作者贡献,包括王东兴、郑起硕、郑铉锡等。

酞菁铜—发文量

期刊论文>

论文:115 占比:0.17%

会议论文>

论文:9 占比:0.01%

专利文献>

论文:67300 占比:99.82%

总计:67424篇

酞菁铜—发文趋势图

酞菁铜

-研究学者

  • 王东兴
  • 郑起硕
  • 郑铉锡
  • 金东润
  • 韩尚旻
  • 卢启芳
  • 夏道成
  • 李贤秀
  • 郭恩言
  • 魏明志
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

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    • 冯树波; 任振立; 韩桂强; 刘振法
    • 摘要: 研究了尿素-氯化胆碱低共熔溶剂中催化合成酞菁铜的工艺。考察了反应温度、反应时间、原料配比和催化剂用量等因素对反应过程和酞菁铜收率的影响,提出了可能的反应机理。采用红外光谱(FT-IR)、紫外-可见光谱(UV-visible)、热重-差式扫描量热仪(TGA-DSC)和X射线衍射(XRD)表征了反应产物及中间体的分子结构。实验结果表明:尿素-氯化胆碱低共熔溶剂可起到溶剂、原料以及催化剂的三重作用,促进了酞菁环的形成,避免了使用传统工艺中所用的戊醇、三氯苯或高沸点烷基苯等有毒、有害有机溶剂,以及昂贵的1,8-二氮杂环[5,4,0]十一烯-7(DBU)有机碱催化剂,为酞菁铜的绿色合成和产物精制提供了有价值的信息。
    • 摘要: 近日,劳伦斯伯克利国家实验室、DESY、欧洲XFEL和德国弗赖贝格工业大学的科学家们在《自然通讯》上报告了他们发现的一种隐藏的电荷产生途径。这种途径可以帮助研究人员开发出更高效的方法,将太阳光转化为电力或氢气等太阳能燃料。研究人员用超短的红外和X射线激光照射酞菁铜:富勒烯(Cu Pc:C60)材料,以290飞秒的时间分辨率研究其电荷产生机制。
    • 董雨新; 陈伟; 单秋杰
    • 摘要: 利用浸渍法将苯乙氧基酞菁铜(CuPc)负载到SBA-15分子筛上制备CuPc/SBA-15催化剂,利用UV-Vis、FT-IR、TG/DTG、XRD、BET、TEM等进行表征.探究不同条件下催化剂对亚甲基蓝(MB)的光催化降解性能,优化条件:MB初始质量浓度3 mg/L,pH 4,CuPc/SBA-151.0 g/L,H2O2体积分数1.0%.优化条件下,降解率为87.32%,重复使用5次后降解率仍可达82.19%,说明催化剂具有良好的催化活性和稳定性.
    • 孙洋; 闫闯; 谢强; 史超; 张梁; 王丽娟; 孙丽晶
    • 摘要: 在二氧化硅衬底上依次真空沉积p-六联苯(p-6P)和酞菁铜(CuPc)构成双异质诱导层,研究了不同衬底温度下双异质诱导层对红荧烯薄膜形貌的影响,以及红荧烯分子在双异质诱导层上的生长过程.分析发现,第二诱导层酞菁铜的局部有序性对红荧烯薄膜的结晶度有直接影响.随着衬底温度的升高,酞菁铜薄膜有序区域面积增大,红荧烯的棒状晶粒也逐渐增大.当酞菁铜和红荧烯的衬底温度均为90°C,红荧烯蒸镀厚度为20 nm时,红荧烯薄膜形成高度有序、内部连接及具有特定方向的棒状晶畴.利用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)分析了红荧烯薄膜的晶体结构,发现经过双异质诱导后的红荧烯薄膜转变为多晶形态.另外,红荧烯薄膜晶体管性能也明显提高,开态电流提高了约3个数量级,迁移率提高了30倍,阈值电压降低了20 V.%Inducing growth method was used to improve the crystallinity of rubrene thin films. Heterogeneous inducing bilayers were formed with vacuum deposition p-sexiphenyl(p-6P) and copper phthalocyanine(CuPc) on silicon dioxide substrates. The influence of various substrate temperatures on the morphology of rubrene films was investigated. And the growth process of rubrene molecules on heterogeneous inducing bilayer was analyzed. The results showed that the crystalline rubrene films were formed by the partly ordered films of the second CuPc inducing layer. The ordered areas of CuPc films increased with the substrate temperature. The rod-like crystals of rubrene films also gradually became larger. When the substrate temperatures of CuPc and rubrene were both 90 °C and the rubrene thickness was 20 nm, the rubrene films formed highly ordered and interconnected rob-like grains with desirable molecular orientation. The rubrene films on heterogeneous bilayers were polycrystalline structure by X-ray diffraction and transmission electron microscope analyses. And the performance of organic thin film transistor devices with the heterogeneous bilayer was obviously improved. The open-state current was improved by about 3 orders of magnitude, the mobility was raised by 30 times, and the threshold voltage was reduced by 20 V.
    • 赵百川
    • 摘要: 酞菁铜是一种重要的多功能高分子有机半导体材料,由于其特殊的化学结构,使其具有优异的耐热性,耐酸、碱性和耐化学品的性能,因此,是一种用途广泛的有机中间体.除了大量用于有机颜料及有机染料的生产外,在光学、电子、催化、原子能等高科技领域内也日益发挥着重要的作用.其中电学性能主要取决于酞菁铜内载流子迁移率的大小.本文详细介绍了酞菁铜薄膜热蒸发工艺,制作了ITO/CuPc/金属结构,测试了其电流-电压特性,并分析了在不同薄膜面积下其导电能力的变化.
    • 李文佳; 任舰; 苏丽娜
    • 摘要: 本实验采用真空镀膜技术,在不同的蒸发电流、基板温度和退火温度下制备酞菁铜薄膜.通过激光扫描显微镜(LSM)测试薄膜的表面形貌和粗糙度,讨论不同处理工艺对薄膜表面形貌的影响.每组实验粗糙度变化趋势总是先减后增.结果表明,基板不加热、蒸发电流采用100A且制备后进行90°C退火处理制备出的酞菁铜薄膜粗糙度最小,表面最光滑.此外,经过高温处理(基板加热或制备后退火)的酞菁铜薄膜会出现"裂痕".
    • 王洁; 王晓东; 俞娟; 黄培
    • 摘要: The polyimide/phthalocyanine copper (PI/CuPc) composite films with different CuPc contents were prepared by in-situ polymerization staring from CuPc in the solution of polyamic acid.Then the effect of CuPc contents on the photoelectric performances,mechanical properties and thermal stability of the PI composite film was investigated.The results show that the addition of CuPc can improve the thermal stability of the composite film,of which the glass transition temperature is about 356 °C.With the increasing of CuPc content,the tensile strength of the composite film has the trend of first increase and following decrease,and it reaches the maximum with the 3% CuPc addition,while its elastic modulus has a rising trend.The photoelectric performances of the PI composite films are significantly improved when adding suitable content of CuPc,the maximum absorption wavelength is 718 nm in the visible light region and the antistatic effect is good with the CuPc content of 7%.%通过原位聚合法在聚酰胺酸溶液中加入酞菁铜粉末,制备不同酞菁铜质量分数的聚酰亚胺/酞菁铜复合薄膜,研究了不同酞菁铜含量对复合薄膜力学性能、光电性能和热稳定性能的影响.结果表明,酞菁铜的加入能够保持复合薄膜的热稳定性,其玻璃化转变温度在356°C左右;复合薄膜的拉伸强度随酞菁铜含量的增加呈现先上升后下降的趋势,当含量为3%时拉伸强度达到最大,而薄膜的弹性模量处于上升的趋势;同时添加一定的酞菁铜,可以有效地改善聚酰亚胺复合薄膜的光电性能,使其在可见光区的最大吸收波长为718 nm,含量为7%时,薄膜的抗静电效果良好.
    • 霍海波; 麻华丽; 杨卫飞; 丁佩; 曾凡光
    • 摘要: 采用化学气相沉积法(CVD)以酞菁铜(CuPc)为催化剂、甲烷为碳源在二氧化硅(SiO2)基底上合成了碳纳米管薄膜(CNTs),经过扫描电镜(SEM)表征发现,合成的碳纳采管外径较大,范围约在140~280nm,长度约在10μm以上.拉曼光谱分析表明合成的碳纳米管为无定形(α-CNTs)结构.通过透射电镜(TEM)可以看出所制备α-CNTs管内中空,管壁厚度不均匀,约为20~100nm.采用二极管结构,在真空室中真空度为2×10-4pa时进行了场发射特性测试,测试结果表明SiO2 (α-CNTs)薄膜的场发射开启场强为1.05V/um.通过计算得出薄膜的场增强因子为1.32×10 4,结果表明SiO2 (α-CNTs)具有良好的场发射特性.
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