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全国薄膜学术讨论会

召开年：1999
召开地：上海
出版时间： 1999-10

主办单位：中国真空学会;中国电子学会;中国光学学会;中国物理学会;中国机械工程学会;中国仪器仪表学会;中国材料研究会

会议文集：全国薄膜学术讨论会会议论文集

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1.真空阴极电弧沉积碳氮膜的研究
- 袁镇海;付志强;邓其森;林松盛;郑健红;戴达煌
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
2.碳氮膜的沉积工艺及结构研究
- 付志强;袁镇海;邓其森;林松盛;郑健红;戴达煌
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 碳氮膜;
- 沉积;
- 工艺;
- 薄膜;
- 类金刚石;
3.CH<,4>和C<,6>H<,6>为原料制备类金刚石薄膜的最佳成膜条件的比较研究
- 严学俭;梁风;刘斌;盛陵海
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- CH,4;
- C,6H,6;
- 制备;
- 类金刚石;
- 薄膜;
- 成膜条件;
- 甲烷;
4.氮化碳超硬复合膜的结构分析
- 吴大维;傅德君;刘传胜;高鹏;叶明生
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
5.离子镀ITO透明导电膜
- 芦春光;缪同群;金南善;李懋廉
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 离子镀;
- 透明导电膜;
6.铟锡合金低温反应溅射制备透明导电薄膜研究
- 颜悦;沈玫;幻建超;张云阁
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
7.国外电容器卷绕镀膜设备的最新发展
- 谭晓华
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
8.类金刚石薄膜的新进展
- 袁镇海;付志强;林松盛;邓其森;谢红希
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
9.离子束辅助沉积制备钛合金薄膜
- 向伟;戴晶怡;方仁昌
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 离子束;
- 沉积;
- 制备;
- 钛合金;
- 薄膜;
10.大型电容薄膜卷绕真空镀膜机的研制
- 贺永云
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文通过对大型电容薄膜卷绕真空镀膜机（ＣＲＣ－６５０／ＭＰ）的研制介绍，着重叙述该机结构特点，蒸发系统的设计，说明该设备可广泛运用ＢＯＰＰ、ＯＰＰ、ＰＥＴ、ＰＣ等带材上蒸镀在电容膜，国内目前具有先进性能的电容器用多功能卷绕真空镀膜机。
11.玻璃基底上氧化镁(MgO)薄膜的结构特性
- 喻志农;郑德修;孙鉴
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
12.电子产品成膜技术的动向
- 伊藤隆生
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
13.离子渗金属中离析行为的研究
- 李成明;张勇;田林海;王建明;徐重
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
14.真空离子渗硫技术及设备特点
- 凌国伟;倪翰;萧域星
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文简要介绍了离子渗硫技术，论述了当前离子渗硫技术的发展、应用的一些方面。提出了有关设备的几个关键问题。
15.磁过滤电弧的研究与应用
- 朱武飚;李正阳;曹尔妍;吴承康
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 磁过滤;
- 多弧离子镀膜;
16.Al-Ti合金溅射薄膜的性能研究
- 吴丽君;夏慧;袁冠森;刘安生;王晓华
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
17.金属离子注入系统成膜技术研究
- 李中岳;王平
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 金属;
- 离子注入;
- 成膜;
- 薄膜;
- 金属;
- 表面处理;
18.溶胶-凝胶法制备二氧化钛薄膜的亲水性能研究
- 杨锡良;沈杰;陈凯;杜与雄;董昊;陈华仙;章壮健
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
19.Ta<,2>O<,5>薄膜的溶胶凝胶法制备
- 艾琳;张勤远;吴广明;沈军;王珏
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
20.大平面阴极靶磁控溅射铁磁性材料薄膜的研究
- 戴法震
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
21.真空镀膜技术的最新进展
- 姜燮昌
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文介绍了旋转磁控溅身和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶Ｃ－Ｍａｇ、孪生磁控溅射靶Ｔｗｉｎ－Ｍａｇ和旋转磁控柱状弧的特性及其应用。该文还对ＬＯＷ－ｅ膜和ＩＴＯ膜的制备工艺和设备进行了分析研究，并指出今后发展方向。
22.光信息存储与真空技术
- 戎霭伦
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：任何一种ＤＶＤ光盘都是由信息记录层、介质保护层、金属反射层……等薄膜组成的二层、三层或多层光匹配的薄膜体系。不同膜要用不同的真空演积技术制备。各制备单元最终连成完整的光盘生产线。该文着重论述各类光盘薄膜材料的真空淀积技术和相应的生产线，旨在探讨光盘生产线国产化的前景。
23.离子镀硬质膜技术的最新进展和展望
- 闻立时;黄荣芳
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
24.金刚石膜的制备及其应用研究--最近进展和展望
- 金曾孙
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
25.我国化学气相沉积金刚石膜产业化前景及其问题浅析
- 吕反修;唐伟忠
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
26.光学薄膜制备用无栅等离子体源
- 尤大伟;李晓谦;王宇
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文介绍一种新型无栅等离子体源辅助成膜技术。该技术的核心部分元栅等离子体源（ＧＩＳ）可在Φ１Ｍ的范围内形成均匀的等离子体，离子流密度高达０．５ｍＡ／ｃｍ〈’２〉，而所需阳极电流仅为４０Ａ、阳极功率３ｋＷ、Φ１Ｍ的范围内郭子流的均匀性为±１５℅，离子能量为５０ｅＶ－１５０ｅＶ。由于ＧＩＳ源的阴极抗氧化，使用寿命长，非常适合应用于光学镀膜。
27.彩色显象管用多功能镀膜机的研制
- 卜忍安;王文江;张劲涛
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
28.硬质合金刀具的金刚石涂层的研究
- 袁镇海;付志强;邓其森;郑健红;林松盛;罗广南
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 硬质合金;
- 刀具;
- 类金刚石;
- 涂层;
- 薄膜;
- 沉积;
29.纳米复合薄膜的制备及其应用研究
- 韩高荣
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
30.低辐射(LOW-E)镀膜玻璃的市场前景--大势所趋
- 董镛
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
31.广东省光学薄膜产业与技术的发展概况
- 江绍基;吕刚宁
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 光学薄膜;
32.软X射线多层膜的研究及发展
- 薛钰芝;林纪宁;沈长斌
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文简要叙述软Ｘ射线多层膜的构成及有关理论，举例说明软Ｘ射多层膜反射镜在信息科学、软Ｘ射线显微镜等方面的应有和。进而阐明了目前研究的热点问题及进展，并介绍我们的工作。
- 软X射线多层膜;
- 光学薄膜;
33.镶嵌在SiO<,2>薄膜中的锗纳米晶粒的光致发光
- 董业民;吴雪梅;诸葛兰剑;姚伟国
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 镶嵌;
- SiO,2;
- 薄膜;
- 锗;
- 晶粒;
- 光致发光;
- 二氧化硅;
- 半导体;
34.掺杂nc-Si:H膜的显微结构与电导特性研究
- 彭英才;刘明;何宇亮
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 掺杂;
- 显微;
- 结构;
- 电导特性;
- 薄膜;
- 纳米硅膜;
35.用于PDP的MgO膜的制备及性能研究
- 王晶铧
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
36.发展中的磁流体技术
- 侯鹤岚;张振厚;李云奇
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
37.离子束薄膜合成及其应用
- 柳襄怀
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文报道中国科学院离子束开放研究实验室在离子束薄膜合成研究和应用方面的发展和现状。着重介绍离子束辅助沉积薄膜合成、真空磁过滤弧源沉积薄膜生长，以及离子注入ＳＯＩ材料合成的方法及其物理过程，同时对离子束会成薄膜在工业及国防上的应用也进行了探讨。
- 离子束;
- 薄膜;
- 合成;
- 新材料;
38.科技进步与经济发展
- 马俊如
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
39.有机电双稳薄膜的进展
- 华中一;陈国荣;徐伟
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 薄膜;
- 电双稳材料;
40.C,Si和C-Si-Ge-Sn薄膜材料
- 梁骏吾
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
41.离子束强化膜层在印制板刀具上的应用研究
- 徐滨士;张振学;朱绍华;谭俊
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文介绍了几种离子束表面强化技术，研究了其工艺特，并对强化膜层的特点，结构及成分等进行了分析研究，根据优化的工艺印制板钻头和铣刀进行了强化，取得了良好的应用效果。
- 离子束;
- 印制板;
- 刀具;
- 薄膜;
42.PCVD的布气技术研究
- 黄邵江;谢红希;侯惠君
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
43.高清晰度投影镜头新进展
- 杜旭日;郭亨群
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
44.进入2000年的刀具涂层技术
- 陈维喜
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文从以下三个方面：⑴刀具涂层技术的应有和；⑵新涂层的发展；⑶ＣＶＤ、ＰＶＤ两种刀具涂层技术相互补充，叙述几十年来刀具层技术发展概况，目前达到的水平及今后的发展趋势。
45.磁控溅射靶材
- 夏慧;吴丽君;韩雪
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 靶材;
- 磁控溅射;
46.空心阴极离子镀ZrN膜的制备、组织及性能
- 肖宏清;黄燕宾;朱绍华;张雷
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 离子镀;
- ZrN;
- 薄膜;
- 制备;
- 刀具;
47.电弧离子镀中脉冲偏压对TiN薄膜性能的影响
- 李正阳;朱武飚;张勇;曹尔妍
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
48.高速钢刀具Ti(C,N)复合膜的工艺研制简介
- 王昆林;魏兴国;陆峥;刘桂荣;曹尔妍
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
49.脉冲多弧离子镀的研究
- 严一心;朱昌;杭凌侠;弥谦;蔡长龙
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
50.镀膜玻璃的节能作用
- 金弼
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
51.退火处理对CVD法硅镀膜玻璃结构和性能的影响
- 刘锋;韩高荣;赵高凌;张溪文
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 硅/碳化硅镀膜玻璃退火处理性能光污染;
52.在铁氧体移相器单元表面磁控溅射离子镀技术及工艺研究
- 毛德才;张秀娥
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
53.酞菁铜薄膜的制备及性能研究
- 黄勇刚;许建红;史国华;韩高荣
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
54.柔性基材高透明低方阻卷绕镀膜技术
- 彭传才;黄广连;胡云慧;余圣发;魏敏
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
55.实验参数对氮化铝薄膜结构的影响
- 武海顺;许小红;张聪杰;许小红;金志浩
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 氮化铝;
- 薄膜;
- 结构;
- 靶功率;
- 靶-基距;
56.等离子显示屏(PDP)中介质保护膜材料及成膜方法的评价
- 郑德修
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
57.离子束沉积类金刚石薄膜试验研究
- 林美娟;朱启良;过骐千;周灵平;李绍禄
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
58.反应磁控射制备二氧化钛薄膜的光催化特性研究
- 章壮健;张永熙;董昊;杨锡良;陈华仙;沈杰;蒋益明
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
59.离子注入航空轴承及其强化机理
- 朱启良;林美娟
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
60.离子束辅助沉积TiC薄膜的研究
- 向伟;李文治
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 离子束;
- 沉积;
- TiC;
- 薄膜;
- 碳化钛;
61.孪生靶溅射镀膜用高频PWM电源
- 李旭春;林治强;常越;穆科明;王怡德
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：孪生靶溅射镀膜是近年来反应溅射镀膜技术中的新进展。高频孪生靶溅射工艺不仅可以提高镀层的性能，而且还能大大提高镀膜的速度，节约能源，尤其是在光学镀膜技术领域中更为重要。高频ＰＷＭ电源则是实施孪生靶溅射镀膜的关键设备。该文对该电源的工作原理、结构以及性能特点进行了论述。
- 孪生靶溅射镀膜;
- 高频PWM电源;
62.涂层基镀质量及其影响因素
- 刘际伟;胡贵生
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
63.微光机电系统的发展趋势
- 蔡炳初
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 微光机电系统;
- MOEMS;
64.低压人造金刚石薄膜生长和现代热力学
- 王季陶
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
65.PHEDP、PSⅡ和ECR等离子体材料表面改性及制膜
- 杨思泽;李兵;任育峰;刘赤子;吴杏芳;韦鲲;付莺
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 离子体;
- 材料;
- 改性;
- 薄膜;
- 制备;
66.薄膜工艺中的低温等离子体技术
- 江南
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
67.人造原子及组装薄膜在纳米光电子学中的应用
- 陈坤基;徐岭;徐骏;李伟
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
68.纳米半导体膜与纳米技术进展
- 林鸿溢
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：纳米半导体硅（ｎｓ－Ｓｉ：Ｈ）薄膜是利用等离子体增强化学气相淀积（ＰＥＣＶＤ）方法制备的，制备条件可以很好地进行调节控制，纳米硅薄膜由中组元组成，纳米尺度晶粒组元和晶料间的界面组元，即晶态相和晶界相组成，这对发展半导体器件，例如量子功能器件和薄膜敏感器件等是特别有价值的。
69.纳米多层膜中铁的亚稳结构及其导常磁学行为
- 潘峰
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 纳米;
- 多层膜;
- 铁;
- 亚稳结构;
- 磁学;
- 薄膜;
70.化学气相淀积技术和无机膜
- 孟广耀;彭定坤
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文系统总结了化学气相淀积技术在无机分离膜这一新型领域中的应用和发展近况，综合报道了作者所在实验室近几年来的研究进展，并从无机分离膜的超薄化、实用化出发，列举了该领域有待进行的科学和技术基础研究课题。
71.微波和微波ECR等离子体在薄膜加工中的应用研究
- 任兆杏;邬钦崇;梁荣庆
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
- 微波;
- ECR;
- 等离子体;
- 薄膜;
72.等离子体显示(PDP)技术在进展及展望
- 薛文进
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：等离子体显示（ＰＤＰ）技术已成为当前大屏幕采色壁挂式高清晰度电视的首选技术，该文概述了ＰＤＰ技术和产业的发展现状，认为其产品性能已达相当水平，规模生产技术日趋成熟，低成该技术取得明显进展，市场前景十分可观，指出进一步提高产品性能，尤其是降低价格是ＰＤＰ今后发展的主要课题。
73.真空镀膜聚焦型太阳能热处理炉
- 刘剑虹;陈建平
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
74.表面工程技术的发展向
- 许樵府
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
摘要：该文叙述了表面工程技术的发展动向，并指出表面强化的发展方向应该是采用复合工艺和实行设计、工艺与设备三结合的方法来提高工件承受应用状态下适用某种特性要求或延长使用寿命的能力。
75.提高LBO晶体薄膜质量的方法
- 官月英
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年
76.退火自理CVD法硅镀膜玻璃结构和性能的影响
- 刘锋;韩高荣;赵高凌;张溪文
- 《全国薄膜学术讨论会》 | 1999年