光学薄膜

摘要： 基于谷物色选原理,设计了一种三路谷物色选光学系统的新型分光器件。该分光器件采用不规则棱镜组减少光路尺寸,根据全反射原理、谷物色选机内部空间条件及CCD传感器规格设计棱镜结构,实现光路的折转,并根据光线的传播路径设计相应的光学滤光膜,实现棱镜的分色。对所研制的新型分光器件进行系统测试,并根据光谱响应效果对其进行分析优化。测试结果表明,在400~930 nm工作波段内,该分光器件能够实现蓝绿光、红光、近红外光三路分光,该新型谷物色选系统具有清晰的分辨率,能够有效提高谷物色选系统的筛选效率。

摘要： 为了促进光学薄膜研究领域的发展,引领薄膜理论、技术和应用的深度融合,《光子学报》拟于2022年第9期推出“光学薄膜”专题,面向国内外从事该领域的专家、学者、研究生等征稿,集中展示和探讨光学薄膜领域的研究成果和研究进展,促进该研究和应用的进步与创新。

摘要： 了促进光学薄膜研究领域的发展,引领薄膜理论、技术和应用的深度融合,《光子学报》拟于2022年第9期推出“光学薄膜”专题,面向国内外从事该领域的专家、学者、研究生等征稿,集中展示和探讨光学薄膜领域的研究成果和研究进展,促进该研究和应用的进步与创新。

摘要： 为了促进光学薄膜研究领域的发展,引领薄膜理论、技术和应用的深度融合,《光子学报》拟于2022年第9期推出“光学薄膜”专题,面向国内外从事该领域的专家、学者、研究生等征稿,集中展示和探讨光学薄膜领域的研究成果和研究进展,促进该研究和应用的进步与创新。

摘要： 军用光电系统通常包含白光成像、微光夜视、激光测距、激光制导、红外探测等多项功能,而短波通滤光膜以其特有的光学特性可以对这些光谱区域进行区分选择,便于实现光电系统的多光路设计,因此得到了广泛的应用。通过阐述短波通滤光膜设计方法和对称膜堆等效折射率特性,分析了膜系结构产生高级次截止带的原因是高级次带等效折射率为虚数,提出了利用等效折射率法抑制高级次截止带展宽通带制备短波通滤光膜的技术,所设计出的多单元周期的短波通滤光膜膜系标准结构在高级次带等效折射率为实数,使得高级次截止带变为了通带,利用离子源辅助技术制备膜层后,达到了在45°倾斜测试下400~900 nm,Tave≥92%,1064 nm,Tave≥92%,1570 nm,Rave≥92%的分光水平,膜层质量满足JB/T 8226.8—1999检测标准。同时随着多单元周期膜系结构中周期次数的增加,可以在不影响通带宽度的情况下,进一步提升截止深度,抑制杂散光干扰,优化超宽带短波通滤光膜光谱性能。

摘要： 目的提高新疆天文台南山观测基地ZZS1800-1/G真空镀膜机的膜厚均匀性指标。方法通过建立旋转行星夹具系统的膜厚分布模型,利用高精度数值计算,基于ZZS1800-1/G真空镀膜机,研究镀膜机结构参数与镜面几何结构对膜厚均匀性的影响,分析蒸发源位置、望远镜镜片参数与修正挡板形状的关系,并进行修正挡板的仿真设计与验证。结果在旋转行星夹具系统中,蒸发源与原点的距离对半径较大的镜面膜厚均匀性的影响最为明显。该距离600 mm以内,在镜面半径小于100 mm时,膜厚均匀性均低于1.7%;镜面半径为600 mm时,膜厚均匀性最佳,为23%。加入修正挡板后,膜厚均匀性理论计算值为0.035%。在镀半径为600 mm的镜片时,为保证均匀性小于1%,修正挡板的加工形变量要控制在2.2%以内。结论加入修正挡板可有效提高ZZS1800-1/G真空镀膜机的膜厚均匀性,本文建立的仿真模型可为ZZS1800-1/G真空镀膜机在实际镀膜工作时修正挡板的设计提供理论参考依据。

摘要： 为了促进光学薄膜研究领域的发展,引领薄膜理论、技术和应用的深度融合,《光子学报》拟于2022年第9期推出“光学薄膜”专题,面向国内外从事该领域的专家、学者、研究生等征稿,集中展示和探讨光学薄膜领域的研究成果和研究进展,促进该研究和应用的进步与创新。

摘要： 本文主要研究了一种采用金卤灯作为模拟太阳光源时太阳模拟设备中滤光片的设计方法。首先论述了模拟太阳光源的相对光谱辐照度比例及其光谱匹配度的计算过程。然后,根据金卤灯光谱的相对光谱辐照度比例分布,分析了滤光片的设计方法,并给出了其设计透射率曲线;计算了金卤灯光源结合滤光片后在不同波段的光谱匹配度,结果显示,光谱匹配度等级均达到了A级;对于大尺寸滤光片,为保证金卤灯光谱在不同波段的光谱匹配度等级均达到A级标准要求,滤光片的透射率曲线偏移量应控制在±10 nm范围内。最后,通过使用2000 W金卤灯结合本设计滤光片进行实际验证,最终整体光谱在各波段的光谱匹配度等级均达到了A级标准。

摘要： 波长为532 nm的绿色激光在大气层中有较强的穿透能力,可用于自由空间光通信和激光三维测绘,为了抑制背景光的干扰,需要半功率带宽小于100 pm的光谱滤波器。因此,设计并研制了基于光学干涉薄膜的超窄带滤光片。将五氧化二钽(Ta_(2)O_(5))和二氧化硅(SiO_(2))分别作为高低折射率膜层材料,将熔石英作为基片,采用双离子束溅射沉积方法制备出所设计的光学薄膜。利用可调谐激光器和功率计测量滤光片的透射光谱,其半功率带宽为(60±2)pm,透过率达到62.6%。

摘要： 目的提高TiO_(2)纳米粒子在复合光学薄膜中的分散性及光催化自清洁效率。方法以通过Stöber法制备的粒径为70、140 nm的SiO_(2)粒子与酸催化法制备的粒径为5 nm的TiO_(2)粒子为原料,分别使用硅烷偶联剂3–氨丙基三乙氧基硅烷(APTES,或KH550)与γ–缩水甘油醚氧丙基三乙氧基硅烷(GLYMO,或KH560)对2种纳米粒子进行表面改性。通过2种粒子表面的化学基团之间的化学键,将2种粒子进行偶联,形成了小粒子包覆大粒子的树莓形结构,并利用溶胶–凝胶法制备了光学涂层,通过紫外–可见分光光度计、红外光谱仪、激光粒度仪等多种表征设备对制备的复合纳米粒子及构筑的薄膜的结构、形貌和性能进行了分析。结果粒径较小的TiO_(2)纳米粒子通过表面基团的反应均匀地包覆在粒径较大的TiO_(2)纳米粒子表面形成树莓形的复合结构,构筑的薄膜具有较高的透光率(>90%),较好地保留了玻璃基底的透过率,在紫外辐照条件下可在120 min内完全降解有机污染物,具有高效的光催化自清洁功能。水接触角测试表明,膜层表面具有较高的亲水性,其接触角最低可达2.68°,因此具有较好的防雾性能。此外,膜层的透过率在耐摩擦试验中表现出较高的稳定性,摩擦测试前后透过率变化在1.0%以内。结论通过表面基团偶联的方法成功制备了树莓形复合纳米粒子,以该粒子构筑的涂层材料兼具透光性、高效光催化自清洁性以及防雾性能,并且具有良好的机械强度。

摘要： 在真空腔室内,合理布置不同折射率溅射孪生靶材,靶材采用平面靶或圆柱靶,反应磁控溅射沉积中闭环动态控制氧分压应用,薄膜沉积速率得到了显著提高,是普通磁控溅射的3～5倍.同时,利用磁控溅射薄膜致密的优点保证了光学薄膜质量,在线厚度监控系统实现镀膜产品的重复性和一致性.实际镀膜结果表明,大面积磁控光学镀膜设备的镀膜装载量是同等体积腔室的电子枪光学镀膜设备的～2倍(工件公转)与3～4倍(工件公转+自转),并且能够适用于大面积工件基材表面镀膜,高效的镀膜生产效率符合大规模工业化产品镀膜的需求.

摘要： 本文采用拉曼光谱技术分析,指出了采用离子束溅射镀制工艺镀制的光学薄膜基本微观结构是混晶结构,即薄膜中的二氧化钛存在一定量的锐钛矿相和金红石相共存现象；分析认为,具有一定金红石相含量的二氧化钛薄膜,有利于激光陀螺反射镜薄膜的工作稳定性.同时,指出了反射镜薄膜后处理温度,是加速反射镜薄膜相结构转化的最重要因素.

摘要： 介绍生物医学光学分析技术(包括分光光度分析、荧光分析、拉曼分析)以及其中应用的光学薄膜滤光器件，综述三种分析技术的原理与特点，分析生物医学应用光学薄膜滤光器件的核心技术要求，关键制造技术。提出生物医学光学薄膜滤光器件的技术发展趋势。

摘要： 对比分析了国内外现有光学薄膜环境适应性试验方法标准，介绍了GB/T26331-2010《光学薄膜元件环境适应性试验方法》国家标准的制定背景，制定原则、标准结构、主要内容及制定依据。

摘要： 自第一台激光器诞生以来,激光技术的发展一直推动着光学元器件的发展.在诸多的光学元器件之中,薄膜元件是关键器件之一.近年来,激光器的快速发展更是为光学薄膜带来了前所未有的机遇与挑战.激光系统对光学薄膜的性能要求主要包括:光谱性能、损伤阈值和面形精度.此外,对于一些特殊使用环境的系统而言,还要求薄膜元件具有良好的环境耐受性.

摘要： 本文运用C++语言通过变步长循环的优化算法开发数据处理程序,可利用两组数据确定了多周期真实厚度.通过计算SiO2、ZrO薄膜的折射率和单周期及多周期厚度,并与其它方法的计算结果进行对比分析,发现此方法计算结果可以达到较高的精度.对于有吸收的薄膜,利用量子力学原理计算粒子出现在某一点的概率,通过蒙特卡罗模拟的方式来测量粒子的位置,从而对粒子进行刷新.通过基于量子行为粒子群优化和模拟退火的混合算法设计的程序进行计算,可很快跳出局部极小收敛达到全局最优点.在保证精度的同时达到较快的收敛速度.

摘要： 简要介绍了中国乐凯集团有限公司，主要阐述了柔性显示和高阻隔封装技术以及透明高阻隔膜产业制造技术，最后论述了透明高阻隔膜产业发展趋势。

摘要： 简要介绍了中国乐凯集团有限公司，主要阐述了柔性显示和高阻隔封装技术以及透明高阻隔膜产业制造技术，最后论述了透明高阻隔膜产业发展趋势。

摘要： 简要介绍了中国乐凯集团有限公司，主要阐述了柔性显示和高阻隔封装技术以及透明高阻隔膜产业制造技术，最后论述了透明高阻隔膜产业发展趋势。

摘要： 简要介绍了中国乐凯集团有限公司，主要阐述了柔性显示和高阻隔封装技术以及透明高阻隔膜产业制造技术，最后论述了透明高阻隔膜产业发展趋势。

摘要： 一种光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其含有以30～98.9重量%的(甲基)丙烯酸烷基酯、1～50重量%的聚合性含芳香环单体、0.1～20重量%的含羟基单体作为单体单元共聚而成的、利用凝胶渗透色谱法的重均分子量为30万～120万的(甲基)丙烯酸类聚合物，(甲基)丙烯酸类聚合物不含含羧基单体作为单体单元，并且固体成分含量为20重量%以上，溶剂的含量为80重量%以下。

摘要： 本发明涉及一种光学薄膜用粘合剂层，其由水分散型粘合剂组合物形成，前述水分散型粘合剂组合物为含有玻璃化转变温度为-55°C以上且不足0°C的水分散型（甲基）丙烯酸系共聚物（A）、和玻璃化转变温度在0°C以上的水溶性或水分散性的成分（B）的水分散液，混合比例在（A）/（B）=50～97/3～50的范围内，前述成分（B）以最大部分的长度为1nm以上且200nm以下的结构域的形式存在，且雾度值为1%以下。该光学薄膜用粘合剂层具有良好的再加工性、再循环性、且可以满足耐久性。

摘要： 本发明提供一种光学薄膜的制造方法，其特征在于，利用刀具切割具有偏振片的光学薄膜坯料来制造光学薄膜，在切割上述光学薄膜坯料时，能够在将该偏振片加热至该偏振片的温度比气氛温度高的状态下进行切割。

摘要： 本发明的光学薄膜用水分散型粘合剂组合物含有核壳结构的乳液颗粒，在同一乳液颗粒内，玻璃化转变温度为-55°C以上且0°C以下的（甲基）丙烯酸系共聚物（A）和玻璃化转变温度为0°C以上且180°C以下的（甲基）丙烯酸系共聚物（B）中的任一种共聚物以核层的形式存在、另一种共聚物以壳层的形式存在，且所述共聚物（A）及共聚物（B）的至少任一种含有含羧基单体作为单体单元，所述共聚物（A）和共聚物（B）的玻璃化转变温度之差为50°C以上，且它们的比例为（A）/（B）=50~90/10~50（重量比率）的范围。本发明的光学薄膜用水分散型粘合剂组合物可以抑制加湿环境下的剥离及从高温加湿环境下取出至常温下并长时间保存时产生的经时剥离，且可以形成粘合剂层。

摘要： 本发明的光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其含有（甲基）丙烯酸系聚合物（A）以及具有聚醚骨架且在至少一个末端具有通式（1）：-SiR

摘要： 本发明的光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)以及具有聚醚骨架且在至少一个末端具有通式(1)：-SiRaM3-a所示的反应性甲硅烷基的聚醚化合物(B)，式中，R是可以具有取代基的、碳数1～20的一价有机基团，M是羟基或水解性基团，a是1～3的整数；其中，R存在多个时，多个R彼此可以相同也可以不同，M存在多个时，多个M彼此可以相同也可以不同。本发明的光学薄膜用粘合剂组合物能够形成下述粘合剂层：所述粘合剂层能够满足可容易地将光学薄膜从液晶面板等上没有残胶地剥离的再加工性、以及在贴合了光学薄膜的状态下不发生剥离、浮起等的耐久性。

摘要： 本发明的光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其含有（甲基）丙烯酸系聚合物（A）以及具有聚醚骨架且在至少一个末端具有通式（1）：-SiR

摘要： 本发明的光学薄膜用粘合剂组合物，其特征在于，其含有（甲基）丙烯酸系聚合物（A）以及具有聚醚骨架且在至少一个末端具有通式（1）：-SiR

摘要： 本发明提供一种可减轻辨识性问题而没有涂覆速度的降低等损害生产率的情况的光学薄膜用粘合剂层的制造方法、光学薄膜用粘合剂层、粘合型光学薄膜以及图像显示装置。所述制法包括涂覆工序（1)以及干燥工序（2），所述涂覆工序（1）为将含水分散液的水分散型粘合剂涂覆在脱模薄膜上的工序，所述水分散液含有水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物，所述干燥工序（2）为对所涂覆的水分散型粘合剂进行干燥的工序，其中，所述水分散型粘合剂在剪切速度4000（1/s）下的粘度为0.01～0.1Pa·s，在所述脱模薄膜上形成的所述光学薄膜用粘合剂层表面的表面粗糙度（Ra）为10～40nm，且所述光学薄膜用粘合剂层的雾度值为1%以下。

摘要： 本发明的光学薄膜用水分散型粘合剂组合物含有核壳结构的乳液颗粒，在同一乳液颗粒内，玻璃化转变温度为-55°C以上且0°C以下的（甲基）丙烯酸系共聚物（A）和玻璃化转变温度为0°C以上且180°C以下的（甲基）丙烯酸系共聚物（B）中的任一种共聚物以核层的形式存在、另一种共聚物以壳层的形式存在，且所述共聚物（A）及共聚物（B）的至少任一种含有含羧基单体作为单体单元，所述共聚物（A）和共聚物（B）的玻璃化转变温度之差为50°C以上，且它们的比例为（A）/（B）=50~90/10~50（重量比率）的范围。本发明的光学薄膜用水分散型粘合剂组合物可以抑制加湿环境下的剥离及从高温加湿环境下取出至常温下并长时间保存时产生的经时剥离，且可以形成粘合剂层。