真空镀膜

摘要： 基于白酒塑料包装制品在存储过程中,由于燃油装载车辆排放尾气中的NO_(x)而导致出现气熏黄变现象,通过建造人工环境,研究了不同种类的白酒塑料包装制品在高浓度NO_(x)环境下的黄变、抗腐蚀性和热稳定性等的变化情况,以期确保高端白酒包装选材在正常使用、储存过程中不失效,避免防伪方面出现漏洞。结果表明,在超高浓度NO_(x)(2 480 mg/L)气氛下,烫金的醋纤维素(CA)制件与丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)真空镀膜件会失去金属颜色,导致包装上关键防伪标识无法辨别,影响包装防伪效果;CA制件与聚酰胺(PA)织布袋经NO_(x)试验后,缩短了制件的设计使用寿命;金属化包装制件、烫金膜等制件的表面涂层适当加厚,稳定剂适量增加,可一定程度上延长制件的稳定期;被NO_(x)侵蚀后,CA件与PA织布袋会因NO_(x)溶解或降解、烫金件与蓝色制件褪色、聚丙烯(PP)件脆化、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)件龟裂。

摘要： 目的提高新疆天文台南山观测基地ZZS1800-1/G真空镀膜机的膜厚均匀性指标。方法通过建立旋转行星夹具系统的膜厚分布模型,利用高精度数值计算,基于ZZS1800-1/G真空镀膜机,研究镀膜机结构参数与镜面几何结构对膜厚均匀性的影响,分析蒸发源位置、望远镜镜片参数与修正挡板形状的关系,并进行修正挡板的仿真设计与验证。结果在旋转行星夹具系统中,蒸发源与原点的距离对半径较大的镜面膜厚均匀性的影响最为明显。该距离600 mm以内,在镜面半径小于100 mm时,膜厚均匀性均低于1.7%;镜面半径为600 mm时,膜厚均匀性最佳,为23%。加入修正挡板后,膜厚均匀性理论计算值为0.035%。在镀半径为600 mm的镜片时,为保证均匀性小于1%,修正挡板的加工形变量要控制在2.2%以内。结论加入修正挡板可有效提高ZZS1800-1/G真空镀膜机的膜厚均匀性,本文建立的仿真模型可为ZZS1800-1/G真空镀膜机在实际镀膜工作时修正挡板的设计提供理论参考依据。

摘要： 为了提高GH05高温合金在高温高压水环境下的摩擦性能,在合金表面采用离子源辅助非平衡磁控溅射和多弧离子镀方法分别制备了Cr/DLC和CrN 2种涂层。采用FGD高压釜对涂层进行高温高压试验,采用扫描电子显微镜(SEM)观察涂层表面及截面形貌,采用UMT高温摩擦磨损试验机、台阶仪、纳米压痕仪分别研究了2种涂层高温高压试验前后的摩擦磨损性能、硬度和弹性模量。结果表明:高温高压试验后,CrN涂层的表面形貌和力学性能相较于高温高压前的CrN样品而言变化较小;但Cr/DLC涂层发生了明显的氧化,涂层结构疏松,结合力和硬度显著降低。另一方面,高温高压试验致使Cr/DLC涂层和CrN涂层在干摩擦和水环境下的摩擦系数均升高,可能是由于涂层表面发生了氧化及力学性能劣化。相比于Cr/DLC涂层摩擦性能的急剧下降,CrN涂层经过高温高压试验仍能保持较好的摩擦磨损性能;特别地,CrN涂层在水环境下的磨损率低至1.40×10^(-7) mm^(3)/(N?m),仅为相同试验条件下Cr/DLC涂层磨损率[8.73×10^(-6) mm^(3)/(N?m)]的1.60%,CrN涂层大幅提升了高温合金在苛刻工况下的服役性能.

摘要： 以酚醛环氧树脂、丙烯酸、催化剂、异佛尔酮二异氰酸酯、丙烯酸羟乙酯等原料合成了光热双重固化改性环氧丙烯酸酯树脂,讨论了丙烯酸和催化剂的用量对反应体系的影响。以光热双重固化环氧丙烯酸酯树脂为主体树脂,搭配活性单体、光引发剂、助引发剂、助剂和助溶剂等,配制成一种ABS塑料用光热双重固化真空镀膜涂料,通过性能测试表明,该涂料附着力好、硬度高。

摘要： VCT(Vacuum coating technology真空镀膜技术)是现阶段较为先进的材料合成及加工技术,系统经VC(Vacuum chamber真空室)、泵组、电源以及控制系统构成。VCT的电源是整个工艺的主要构成因子,VCT的电源性能会从根本影响镀膜工艺的流畅性和质量。目前RF辉光放电镀膜装置大多以RFPS(Radio Frequency power supply射频电源)为主,而经调整VC内环境去改变VC两侧偏压系数,具有较强的制约性。为了从根本改善镀膜工艺,要设计出RF和DC(直流电源powerDC)双系统,经调节DC的输出去改变VC两侧的负偏压系数,这也是现阶段业内所面对的主要课题。

摘要： VCT(Vacuum coating technology真空镀膜技术)是现阶段较为先进的材料合成及加工技术,系统经VC(Vacuum chamber真空室)、泵组、电源以及控制系统构成.VCT的电源是整个工艺的主要构成因子,VCT的电源性能会从根本影响镀膜工艺的流畅性和质量.目前RF辉光放电镀膜装置大多以RFPS(Radio Frequency power supply射频电源)为主,而经调整VC内环境去改变VC两侧偏压系数,具有较强的制约性.为了从根本改善镀膜工艺,要设计出RF和DC(直流电源powerDC)双系统,经调节DC的输出去改变VC两侧的负偏压系数,这也是现阶段业内所面对的主要课题.

摘要： 申请公布号:CN 112501948 A发明人:任继鹏韩文佳刘景君蔡文青申请人:山东纳美欣生物科技有限公司现行的古籍加固保存方式,多为装裱加固、丝网加固、Parylene真空镀膜等方式。其中,装裱为传统的古籍修复技艺,用纸覆托于古籍书画背面,用浆糊固定,再用绫、绢、纸等镶边,然后安装轴杆成版面;丝网加固用单根蚕丝织成,丝网上喷涂热熔胶,使用时用电熨斗熨烫,使之与纸张粘连;Parylene用独特的真空气相沉积工艺制备,由活性小分子在基材表面“生长”出完全敷形的聚合物薄膜涂层,能涂敷到纸张的表面及裂缝中。

摘要： 7年前,为了打破镀膜行业背后的卡脖子技术,一位掌握真空镀膜尖端技术,怀揣科技报国情怀的新加坡华侨在合肥市高新技术开发区永和路99号,开启了他的创业征程。一家专注于纳米薄膜装备制造、膜层工艺研发和纳米镀膜生产的科技企业在此诞生。

摘要： 为探究一种可实现向心溅射的圆筒式柱面磁控阴极靶,需要对靶装置内的磁场分布进行研究,进一步讨论靶结构参数对其磁场分布的影响规律。本文根据磁控靶的结构与工作原理,利用COMSOL Multiphysics有限元分析软件中AC/DC接口,对靶进行三维模型构建、划分网格和仿真计算。通过改变靶内磁体形状尺寸、磁轭形状以及结构排布,对靶面磁场的分布进行规律探究。最终确定新型圆筒式柱面磁控溅射阴极靶内的磁场结构参数,结果表明结构靶面磁场分布均匀且大小满足溅射要求的磁感应强度(20~50 mT),平行靶面均匀磁场区域达35%~40%左右。通过这类靶磁场结构的研究,为设计优化磁控阴极靶提供依据。

摘要： 钕铁硼作为第三代稀土永磁材料,在世界磁性材料领域占据着举足轻重的地位,在国防、航空航天、信息通讯、汽车、能源、节能环保、医疗器械等领域具有广泛应用,但钕铁硼永磁材料易被腐蚀的特点限制了其应用的进一步拓展.本文论述了钕铁硼永磁材料的物相组成、腐蚀过程和腐蚀产物,阐述了钕铁硼永磁材料高温氧化、湿热吸氢和电化学腐蚀等腐蚀特性.本文还从提升自身耐腐蚀性和表面涂层防护两方面总结了钕铁硼永磁材料腐蚀防护技术,重点阐述了电镀、化学镀、有机物涂层及物理气相沉积等技术的基本原理、研究进展和发展方向.钕铁硼腐蚀防护技术的研究是推动钕铁硼永磁材料应用领域扩展的关键.

摘要： 利用真空镀膜技术可以实现粉体表面包覆、粉体表面改性以及粉体制备.计算分析了真空镀膜法粉体包覆时粉体粒径与真空镀膜装备设计、工艺参数之间的关系,认为通过倾斜滚动或者中间筛网方法,可实现任何粒径粉体的均匀表面包覆镀膜.利用等离子体辅助气相沉积技术制备了纳微米片碳粉体,利用光学显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、比表面测试仪等分析了该纳微米片碳粉体的组成、结构及比表面积,通过浸渍法加载催化活性物质并测试了其加氢催化性能.随着3D打印、粉末冶金、注射成型等现代粉体加工技术的发展与精度要求的提高,以及高性能功能粉体在油墨、发光、显示、LED、催化、工模具、热学、能源等方面的关键作用,通过真空镀膜技术获得高性能功能粉体越来越多的成为消费电子、航空航天、军工科研等所有材料相关高技术领域关注的热点.

摘要： 采用霍尔离子源和电子枪蒸镀无机纳米氧化硅薄膜的方式,对聚丙烯锂电池隔膜表面进行真空镀膜处理.同时,研究了氧气离子源放电处理工艺和无机纳米氧化硅薄膜对隔膜表面润湿性能,隔膜表面形貌,孔隙率和耐温性能的影响.实验结果表明,未处理聚丙烯锂电池隔膜的接触角和孔隙率分别为118°和40％,经氧气离子源放电处理后,接触角降至17.2°,孔隙率提高到了65.2％.隔膜经电子枪蒸镀的无机纳米氧化硅薄膜表面处理后,隔膜的热稳定性也得到了显著的提高.

摘要： 本文通过对低温泵的原理进行阐述,重点介绍了低温泵与扩散泵、分子泵在真空镀膜设备上应用的优势,以及其应用的一些典型应用案例,从而证实了低温泵在真空镀膜领域应用的可行性,以及实现真空镀膜行业内扩散泵及分子泵的改造升级的必要性.

摘要： 低辐射(Low-e)玻璃是一种建筑节能玻璃,适合在任何气候环境下使用.低辐射玻璃是采用在线或者离线镀膜的方式进行加工,膜层具有极低的表面辐射率,非常符合节能降耗的社会发展要求.本文对低辐射玻璃的制程工艺(特别是离线真空镀膜技术)进行的简要的阐述并介绍了目前镀制Low-e玻璃的真空连续镀膜生产线的主要构造和技术特点，设备的第一个腔室是进片室，它的入口端和出口端都用真空锁阀紧密的密封起来。设备工作时，标准尺寸的玻璃通过打开的真空锁阀被送到进片室内，然后锁阀关闭，将真空抽到10-1mbar。这时开启出口锁阀将玻璃送入第二个腔室（过渡室）。在这里，将真空度继续抽到l0-2mbar或更高值。在第一片玻璃依次通过缓冲室和镀膜区的同时，可以将第二片玻璃送入进片室。镀膜室的数量和设计取决于要求的镀膜工艺以及预期的生产能力。膜层沉积完成后，玻璃通过过渡室然后再通过出片室并被输送到出口端，整个镀制过程就完成了。详细阐述了磁控溅射靶、镀膜控制、工作气体系统、抽真空系统等过程。

摘要： 真空泵是一个量大面广的产品,产量很大,产值不高,但它确实是一个直接影响到真空成套设备性能质量的必不可少的基础产品.真空泵的市场根据用户的需要而发生动态变化.目前,真空行业使用的大多数机械真空泵基本上都要用油、水或其它聚合物等流体充当泵的工作介质,在泵内起冷却、密封、润滑等多种作用.然而,此类机械真空泵内的流体介质也对制程产生了一定的制约,干泵需求应运而生.市场增长的主要驱动力来自于半导体工业的迅速发展以及干泵和分子泵应用领域的日益扩大.

摘要： 聚丙烯(PP)基材因具有低极性、低表面张力,高结晶性及弱边界效应等特点而难以附着.本文通过丙烯酸酯类单体及丙烯酰胺对氯化聚丙烯(CPP)进行接枝改性,探讨了丙烯酸酯类单体及丙烯酰胺含量、反应温度,反应时间等因素对CPP接枝率的影响.通过红外光谱对改性CPP进行表征并通过称重法测量接枝率.以改性后的CPP作为附着力促进剂,通过调节配方,制备了能一次涂覆于PP基材上而无需预处理的可UV固化的真空镀膜底漆,并达到了良好的附着效果.

摘要： 光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波长的波段形成高反射，国内绝大多数的光学显示镜片还是玻璃，本文以PC镜片作为基底，采用真空镀膜技术，尝试在碳酸聚酯（PC）镜片上镀高反射膜，研究了不同膜系结构（层数不同）的反射膜对特定波段的反射效果。研究结果表明，采用了7层膜的设计，PC在可见光区的400nm波段到700nm波段的最高反射率从9.5%左右上升到85%左右。PC在特定波长的波段的反射率得到了明显的提高。

摘要： 真空镀膜已经走过了近一个世纪的历程,随着薄膜材料的应用普及,对其性能提出了的越来越高的要求,薄膜制备工艺随之速度发展,其中一个主要特征便是薄膜制备过程的离子化或称为等离体化的过程.以往真空镀膜制备工艺中改变薄膜性质的主要手段是适度改变被镀工件的温度，通过温度来调节薄膜表面原子的能量，以得到相应的结构，此时出现了著名的TM模型。随着要求的提高仅仅提温度已经远远不能满足工艺的要求，在光学镀膜领域，莱宝光学发明离子束辅助束辅助沉积技术，在离子化过程中的另一个案例是PECVD(等离子增强化学气相沉积)，当研究者认识到等离子体可以较容易地通过电场磁场进行控制的特点后，将等离子体引入了化学气相沉积工艺中形成了PECVD工艺，阴极弧放电和空心阴极离子镀，更是一个典型的例证，各种离子源的出现与薄膜沉积的离化过程是同步发展的，由于离子源的能量可调，能量范围宽等特点，在现代镀膜工艺过程中被广泛采用。在各种等离子化的过程中有很多参数需要调整，其中关键参数例如等离子体密度、能量、电中性的控制、分布均匀性，以及污染的避免等，均是等离子体使用过程中需深入研究考虑的。只有对上述问题有了深入的理解，等离子技术应用才能获得成功，取得应有的效果。

摘要： 本文用真发镀膜机研制卢瑟福散射实验中的靶材料.在真空环境下用蒸发法在玻璃表面镀一层纳米级厚度的银箔,采取化学手段将薄箔从玻璃上取下,做卢瑟福散射实验后发现制作的银箔比5μm的金箔更接近理论值.

摘要： 本文用真发镀膜机研制卢瑟福散射实验中的靶材料.在真空环境下用蒸发法在玻璃表面镀一层纳米级厚度的银箔,采取化学手段将薄箔从玻璃上取下,做卢瑟福散射实验后发现制作的银箔比5μm的金箔更接近理论值.

摘要： 本申请涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，所述镀膜材料存放装置包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；连接真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭真空阀门；连接驱动装置的控制装置，用于控制驱动装置在镀膜过程中打开真空阀门，在镀膜后关闭真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护；该技术方案，避免了密封腔室内的镀膜材料与空气接触发生反应或者被吸附污染，保证了镀膜材料的纯度，使得在镀膜过程中，无需频繁清洁镀膜材料，提高了镀膜效率，也提升了镀膜效果。

摘要： 本申请涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，所述镀膜材料存放装置包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；连接真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭真空阀门；连接驱动装置的控制装置，用于控制驱动装置在镀膜过程中打开真空阀门，在镀膜后关闭真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护；该技术方案，避免了密封腔室内的镀膜材料与空气接触发生反应或者被吸附污染，保证了镀膜材料的纯度，使得在镀膜过程中，无需频繁清洁镀膜材料，提高了镀膜效率，也提升了镀膜效果。

摘要： 本发明提供一种真空镀膜方法，该方法包括以下步骤：将待镀膜工件置于真空镀膜室内的支架上；在待镀膜工件与镀膜源之间设置遮挡片；在工件表面进行真空镀膜，并在工件表面被遮挡片所遮挡的区域形成渐变镀层。本发明还涉及用于该方法的真空镀膜设备以及由该方法制得的镀膜元件和外壳。该真空镀膜方法通过在镀膜源和工件之间设置遮挡片，在镀膜时，可以在工件的特定区域形成厚度渐变的镀膜层。而且，镀膜后形成的镀膜元件或外壳的表面在外观上表现一致。在其实际使用时，可增加工件表面多样性效果，如可产生特定的光泽效果和光学效果。

摘要： 公开一种真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备，真空镀膜设备用抽真空机构包括：冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；安装所述冷阱组件的容纳腔室；所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道沿所述轴向延伸，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游；在一垂直于所述轴向的平面上，所述冷阱主体在该平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影外侧；连通所述容纳腔室的泵组件。本说明书所提供的真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备，能够节约真空腔室的空间，避免冷阱主体被污染，减小能耗损失，且不占用排气通道。

摘要： 本发明公开了一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法，属于真空镀膜技术领域。可变磁轨式装置包括靶材、电磁线圈组和电源模块，靶材包括待烧蚀面；电磁线圈组设置于所述靶材远离所述待烧蚀面的一侧，通过调节电磁线圈的电流参数，使电磁线圈组相互耦合产生磁拱来回移动的磁场，从而控制弧斑在待烧蚀面上来回移动，产生扫描的移动效果。增加弧斑的烧蚀面积，提高靶材利用率，避免热量集中，减少烧蚀过程中产生的液滴，提高涂层性能。在磁拱移动的过程中，磁场强度可以做到几乎不变，确保了溅镀的工艺参数的稳定性，有助于提高工艺稳定性；另外，磁场发生装置结构简单耐用，避免了复杂的机械运动结构长期使用时容易出现损坏的问题。

摘要： 本实用新型公开了一种手机真空镀膜用便于更换镀膜工具的真空镀膜机，包括机体、散热机构、真空机构、镀膜机构和镀膜槽机构，所述机体的左侧外壁连接有散热机构，所述机体的右侧外壁连接有真空机构，所述机体的内端中部安装有镀膜机构，所述机体的内壁下端安装有镀膜槽机构，所述镀膜机构还包括：镀膜电子枪；固定板，安装于所述镀膜电子枪的上端两侧。该手机真空镀膜用便于更换镀膜工具的真空镀膜机，设置的散热机构在使用前需要向水槽内注水，利用水的吸附性使海绵网一直处于湿润状态，通过散热扇叶加快海绵网上的水分蒸发以达到快速吸热，使得机体内部温度快速降低，并且通过真空机构进一步提高并维持机体室内的高真空度。

摘要： 本实用新型涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备，包括真空室本体、设置在真空室本体内顶部的加热源、设置在真空室本体底部的底座以及设置在真空室本体一侧表面的密封门；所述真空室本体内底部设置载料组件，所述载料组件底部设置传动组件，所述传动组件底部设置平移组件，所述平移组件包括调节丝杆，所述调节丝杆转动设置在凹槽内，所述凹槽开设在底座内下侧面上，所述调节丝杆上设置丝母，所述丝母一端与载台连接，所述载台一端与传动组件连接，所述调节丝杆一端与位于底座一侧表面的第一电机的驱动轴连接，本实用新型能够对基片进行快速移出以及顶升，便于基片的取放，且受热均匀，镀膜厚度均匀。

摘要： 本申请公开了真空镀膜的真空组件以及真空镀膜设备，其中真空组件用于在真空设备的阴极门和真空箱体之间建立可分离的真空管路，包括：固定端管路，包括与真空箱体连接的固定端支架和固定端真空管，固定端支架设有朝向阴极门的固定端法兰，固定端真空管的端部的外缘与固定端法兰的内缘密封配合；分离端管路，包括与阴极门连接的分离端支架和分离端真空管，分离端支架设有朝向固定端法兰的分离端法兰，分离端真空管的端部的外缘与分离端法兰的内缘密封配合；分离端支架上设有调平机构，调平机构用于调整分离端法兰相对于固定端法兰的空间位置和姿态，分离端法兰和固定端法兰之间设有对正机构。

摘要： 本实用新型提供一种真空镀膜设备真空室门的保护开关装置及真空镀膜设备，包括：支架(2)、光电开关(4)、移动触杆(5)、定位套座(9)与复位机构；定位套座(9)固定于真空室体法兰(10)的后面，移动触杆(5)设于定位套座(9)前端伸出设于真空室体法兰(10)上的通孔(12)；移动触杆(5)后端设有触头(13)，光电开关(4)通过支架(2)固定于真空室体法兰(10)上；关上真空室门，真空室门法兰(11)推动移动触杆(5)后移，触头(13)位于光电开关(4)的光感槽(14)中；打开真空室门，移动触杆(5)通过复位机构复位。使用寿命长，安全性好、可靠性高。

摘要： 本实用新型提供一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备，包括：加热源(1)、支柱(4)、多组传输机构与多块隔板(10)；每组传输机构包括传动轴(9)、两个轴承座(8)与多个滚轮(5)，传动轴(9)通过两个轴承座(8)安装于支柱(4)上，传动轴(9)上间隔固定滚轮(5)，滚轮(5)上还固定有橡胶圈(6)；隔板(10)通过螺钉(3)固定于支柱(4)上，隔板(10)上对应橡胶圈(6)的位置开有方孔(11)；其特征在于，所述的隔板(10)上在两传输机构间的位置设有凹槽(12)。有效解决了高温下隔板变形的问题。节约了成本。保证了基片传送系统的平稳运行以及镀膜环境的稳定性，确保了膜层质量，有效提高了真空镀膜设备的安全性和可靠性。