增透膜

摘要： 将微纳半球谐振腔与微机械加速度计结构相结合,设计了一种基于半球谐振腔的微光学加速度计。首先分析了微光学加速度计的基本工作原理,接着分析了反射膜和增透膜材料对微纳腔影响规律,并利用时域有限差分(FDTD)光学仿真软件进行仿真测试,研究了不同膜厚对谐振腔谐振效果的影响。最后基于光强解调原理,利用仿真软件得到光强信号与变化腔长的关系,实现了对输出光强信号的解调,从仿真角度验证了本方案的可行性。

摘要： 3~5 µm波段是重要的大气窗口,该波段内的4.6 µm半导体激光器广泛应用于痕量气体检测、自由空间光通信和定向红外对抗等领域。随着4.6 µm半导体激光器应用领域的不断拓展,对器件的性能要求越来越高。腔面镀膜是半导体激光器的一个重要但是相对薄弱的器件工艺。随着半导体激光器输出光功率的提升,以及波长向中远红外推进,具有抗激光损伤和高稳定性的光学薄膜成为制约半导体激光器进一步发展的主要因素之一。薄膜的激光损伤阈值、环境稳定性、宽带隙、应力影响、吸收损耗、散射损耗、机械强度等因素都会影响薄膜在激光器中的性能。本文主要总结了4.6 μm波段附近半导体激光器腔面薄膜的报道。

摘要： 智能温室大棚采用无土栽培,能有效地解决农产品安全隐患,近几年得到了快速的发展。其中保温和光照是温室大棚农业生产中的重要工作,因此选择一种适合的覆盖材料尤为重要。通过分析塑料薄膜和玻璃两种温室大棚覆盖材料的优缺点,得出超白压延镀膜玻璃可作为智能温室大棚覆盖材料的首选。基于超白压延玻璃的镀膜工艺,通过分析对比,采用弯月面法镀双面双层增透膜的超白香梨纹玻璃,具有无污染、使用寿命长、大棚利用率高、综合保温效果好、光照均匀、可见光透光率高等优异性能,可作为智能温室大棚透光保温材料进行重点推广应用。

摘要： 设计在单一玻璃结构中加入具有周期性空气球形微纳结构,从而逐层改变空气的折射率,达到类似传统的多层的抗反射薄膜性能,或者更优。运用FDTD软件对二氧化硅薄膜展开仿真模拟,探究二氧化硅薄膜中的微纳球型结构对可见光吸收性能的影响,利用FDTD软件模拟了微纳球形的结构尺寸、占空比、分布周期对二氧化硅微纳球形薄膜抗反射性能的影响规律,还模拟了不同颜色光照下对应微纳球型结构的反射率。最后得到抗反射效果最好的二氧化硅微纳球型结构的相关参数。

摘要： 针对抗反射膜引入的附加位相,分析了衍射光学元件的衍射效率,提出了含有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法.以工作在可见光波段的衍射光学元件为例,对比分析了采用传统方法和优化方法设计的衍射光学元件的衍射效率.结果表明:抗反射膜对衍射光学元件的衍射效率和带宽积分平均衍射效率的影响是不可忽略的.针对正入射和30°斜入射两种工作状态,采用优化设计方法得到的衍射光学元件的带宽积分平均衍射效率高于94％.

摘要： 本文研究制备了可应用于高功率CO_(2)激光器的CVD金刚石窗口。首先使用环形天线-椭球谐振腔式MPCVD装置沉积制备直径2英寸(1英寸=2.54 cm)金刚石自支撑膜,然后将膜片双面抛光,激光切割成矩形基片,再采用蒸镀法在基片表面制备中心波长在10.6μm的增透膜,最终制备得到金刚石光学窗口。采用傅里叶红外透射谱、热导仪、爆破试验台测试了金刚石基片镀膜前后的红外透过率、热导率和爆破强度。利用自行搭建的光学平台,测试了CVD金刚石基片增透膜能承受的激光功率密度。结果显示CVD金刚石基片在10.6μm处的透过率为70.9%,利用光谱计算的吸收系数为0.06 cm^(-1),热导率>19.5 W/(cm·K),爆破强度>5.62 MPa,镀膜后的透过率为99.2%,增透膜可承受的激光功率密度>995 W/mm2。

摘要： 采用垂直无籽晶气相升华法生长出直径37 mm的优质硒化镉(CdSe)单晶体,并沿光轴方向切割出20 mm×20 mm×3 mm的CdSe波片初胚。经研磨和抛光,在2~20μm波段CdSe波片的红外透过率约为70%。为进一步提高波片的透过率,采用Essential-Macleod软件辅助设计方案,选用YF3和ZnS为双层增透膜材料,并获得最佳的膜系厚度。镀膜后的CdSe波片在6~12μm波段透过率达到90%,在10.5μm处的透过率最高,峰值高达99%。

摘要： CVD金刚石膜因特有的物理化学性质,具有发展成为新一代光学材料的前景。但由于CVD金刚石膜自身局限性导致其理论透过率不到71%,在金刚石膜表面镀制增透膜,通过改变增透膜组成成分、显微组织和晶体结构,可有效地改善CVD金刚石膜自身理论透过率的问题。首先,介绍了CVD金刚石表面镀制单层增透膜增透原理,并总结了物理和化学气相沉积技术制备增透膜的优缺点。然后,重点综述了近年来CVD金刚石表面氮化物、金属氧化物和稀土金属氧化物等增透膜材料的研究进展,详细分析了增透膜制备参数、热处理工艺、衬底表面改性和掺杂工艺对增透膜整体组织和性能影响的规律。其中优化增透膜沉积温度、氧分压和热处理等工艺参数,是通过改变增透膜微观组织形貌以及晶体结构来提高其光学透过性能,而改变衬底表面结构能够通过改变增透膜与基体之间的成键方式来提升界面结合能力,而稀土元素掺杂方式是通过改变增透膜化学组成成分来改善增透膜的光学透过性能,并指出掺杂元素成型机理和影响机制。最后,展望了未来CVD金刚石表面增透膜的发展方向。

摘要： 增透膜在光学设备、太阳电池等方面具有广泛应用,其在空间太阳电池玻璃盖片上的应用尤其重要.介绍了单层、多层增透薄膜的增透原理、设计方案、制备方法及研究成果,并对单层及多层增透膜的研究做了总结和展望.

摘要： 基非均匀膜理论提出的折射率分层模型,将非均匀膜层分为N个均匀子层,应用光学薄膜特征矩阵对其进行理论分析.应用膜系设计软件模拟ZrO2和CeO2的负非均匀性对增透膜光谱特性的影响.研究结果表明:负非均匀性使多层增透膜的反射率增大,在参考波长处的光谱特性变差,使整个反射光谱曲线朝长波方向漂移,从而导致整个膜系的光谱特性偏离理想情形.

摘要： 基于非均匀膜理论提出的折射率分层模型,将非均匀膜层分为N个均匀子层,应用光学薄膜特征矩阵对其进行理论分析。应用膜系设计软件模拟ZrO和CeO的负非均匀性对增透膜光谱特性的影响。研究结果表明:负非均匀性使多层增透膜的反射率增大,在参考波长处的光谱特性变差,使整个反射光谱曲线朝长波方向漂移,从而导致整个膜系的光谱特性偏离理想情形。

摘要： 本文设计并制作了以Si3N4作增透膜的Si基Ge量子点红外探测器.采用气态源分子束外延(GSMBE)方法在Si(100)衬底上生长了20层的自组织Ge量子点.在此基础上,流水制作了p-i-n结构的量子点红外探测器.为了提高探测器的响应度,采用Si3N4作为增透膜以增强探测器对入射光的吸收.用传输矩阵方法模拟的结果显示,185上nm厚的Si3N4增透膜可以使探测器在1310 nm波长处具有较高的吸收率.根据此结果,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法在探测器表面淀积了185 nm的Si3N4.在室温下,测得量子点探测器在1.31μm处的响应度为8.5 mA/W,跟没有增透膜的器件相比,响应度提高了将近30倍.

摘要： 重点介绍与清华大学联合研发的中温太阳能真空集热管(以下简称中温管)相关技术及其应用范畴，从其太阳选择性吸收涂层技术、罩玻璃管增透膜技术、双效真空维持技术、支承件设计与改进及中温管的相关检测系统等方面进行详细介绍，并简单介绍其应用领域。该产品吸收比高达0.96，180°C时发射比仅为0.05，中温系统最高工作温度可达160°C，在150°C时系统效率已超过45％。

摘要： 采用飞秒脉冲激光沉积法在硅晶片基底上镀类金刚石(DLC)膜，为了提高3～5μm段基底上的红外透过率，对其制备工艺进行了研究。经过大量的实验，对沉积工艺参数进行优化分析，从而总结出一套有效的脉冲激光沉积DLC膜工艺来制备优良的光学保护增透膜。相对于传统的工艺，该工艺大大提高了3～5μm段平均红外透过率。

摘要： 本文介绍了专用光伏玻璃光谱透射比在光伏玻璃中的应用,并详细阐述了超白压花玻璃镀增透膜前后的性能变化,可预见随着太阳能光伏产业在全球的飞速发展,国内相关企业必然会遇到一次发展的契机。

摘要： 薄膜偏振分光镜是光学引擎重要的薄膜元件。它要求在420～680nm波段范围内，能最大限度地分开P光(高透)和S光(高反)。本文基于MacNeille薄膜设计原理，以玻璃为基底，采用折射率高低不同的2种薄膜材料TiO2(n＝2.32)和SiO2(n＝1.46)，利用Mass膜系设计软件进行膜系设计，在理论上设计了一种宽带偏振分光镜，得到了在430～700 nm波段，透射比可以达到99％的薄膜偏振分光镜直角通光面上的增透膜。该偏振分光膜在400～700 nm比较宽的波带内，S光反射比可以达到95％，P光的透射比在90％左右。另外对样品的性能测试方法做了设计。

摘要： 本文建立了适用于高频测量的3ω测试系统.对于薄膜/衬底复合结构,在低频范围内采用斜率-求差-3ω法,同时确定了单层薄膜和衬底的导热系数.采用低频和高频测量相结合的方法测量了Nd:YAG晶体和(111)面上微/纳米ZrO2/SiO2多层增透薄膜中各层的导热系数.进行了不确定度分析.建立的测量原理和测试系统可用于基体表面多层薄膜以及微纳米器件热物性的表征.

摘要： 采用转换矩阵的处理方法，计算出了光场在GaN基激光器腔面和薄膜介质中的分布，提出了不改变光功率输出时，降低前后腔面光功率、提高GaN基激光器光学灾变损伤阈值的镀膜设计方法，并进行了理论计算。

摘要： 采用转换矩阵的处理方法，计算出了光场在GaN基激光器腔面和薄膜介质中的分布，提出了不改变光功率输出时，降低前后腔面光功率、提高GaN基激光器光学灾变损伤阈值的镀膜设计方法，并进行了理论计算。

摘要： 本发明涉及玻璃增透膜清洗领域，具体而言，提供了一种用于清洗玻璃增透膜的清洗剂及玻璃增透膜的清洗工艺。所述清洗剂包括第一清洗剂和第二清洗剂；第一清洗剂主要由碱金属氢氧化物、稀硫酸、溶解剂、润湿剂和水制备而成；第二清洗剂主要由有机酸、甲醇和/或乙醇、表面活性剂和水制备而成。该清洗剂能够有效清洗玻璃增透膜，提高增透膜的清洁度，增强透射光的强度，提高产品质量，还能避免增透膜在清洗的过程中被损坏，提高产品良率。

摘要： 本发明公开了一种超硬类金刚石增透膜、具有增透膜的红外材料及其制备方法和应用，属于光学材料领域，其中增透膜包括无定型类金刚石膜层和四面体类金刚石膜层，所述的四面体类金刚石膜层为所述的增透膜的表层。本发明的增透膜具有耐重摩擦，同时红外透过率高的优点。

摘要： 本发明公开了一种集成有增透膜的光伏型碲镉汞红外焦平面及增透膜制备方法，该方法可以在保持碲镉汞红外焦平面模块结构的情况下，采用磁控溅射制备方法，通过工艺参数优化，低温生长了在特定的工作波段3.5～5um具有良好的增透射特性的增透薄膜，同时保证薄膜与碲镉汞红外探测器芯片衬底表面有很好的附着性，在高低温度变化过程中不脱落不改变性能。

摘要： 本申请提供一种增透膜及其制备方法、增透膜制备装置，增透膜制备方法包括以下步骤：(1)配制基础溶胶，基础溶胶中包含正硅酸乙酯、乙醇和水；(2)然后向基础溶胶内通入氨气，得到含饱和氨气的溶胶；(3)将溶胶涂覆在基片的表面形成膜层；(4)使膜层处于温度为T1的含有氨气、乙醇和水的饱和蒸汽中，同时使基片远离膜层的表面的温度为T2，陈化处理2h至72h；其中，0°C＜T1≤10°C，30°C＜T2≤60°C，T1和T2的差值30°C≤ΔT＜60°C；(5)在120°C至250°C的空气中干燥固化；(6)在450°C至750°C热处理后得到增透膜。上述制备方法简单，得到的增透膜也具有良好的增透效果。

摘要： 本申请实施例提供一种增透膜层组件、增透膜层组件制程方法及显示装置，该增透膜层组件包括：阵列基板、像素定义层、发光像素以及透明导电层。所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面。所述像素定义层设置在所述第一面，所述像素定义层设置有若干个通孔。所述发光像素设置有若干个，并对应设置在所述通孔内。所述透明导电层设置在所述像素定义层远离所述第一面的一侧，所述透明导电层通过所述像素定义层延伸至所述发光像素，并连接至少两个所述发光像素。本申请实施例提供的增透膜层组件，能够避免大量光线损失，有效增强穿透度，应用于屏下摄像头技术能够提高摄像头的捕光能力。

摘要： 本发明涉及玻璃增透膜清洗领域，具体而言，提供了一种用于清洗玻璃增透膜的清洗剂及玻璃增透膜的清洗工艺。所述清洗剂包括第一清洗剂和第二清洗剂；第一清洗剂主要由碱金属氢氧化物、稀硫酸、溶解剂、润湿剂和水制备而成；第二清洗剂主要由有机酸、甲醇和/或乙醇、表面活性剂和水制备而成。该清洗剂能够有效清洗玻璃增透膜，提高增透膜的清洁度，增强透射光的强度，提高产品质量，还能避免增透膜在清洗的过程中被损坏，提高产品良率。

摘要： 本发明公开了一种超硬类金刚石增透膜、具有增透膜的红外材料及其制备方法和应用，属于光学材料领域，其中增透膜包括无定型类金刚石膜层和四面体类金刚石膜层，所述的四面体类金刚石膜层为所述的增透膜的表层。本发明的增透膜具有耐重摩擦，同时红外透过率高的优点。

摘要： 本发明公开了一种集成有增透膜的光伏型碲镉汞红外焦平面及增透膜制备方法，该方法可以在保持碲镉汞红外焦平面模块结构的情况下，采用磁控溅射制备方法，通过工艺参数优化，低温生长了在特定的工作波段3.5～5um具有良好的增透射特性的增透薄膜，同时保证薄膜与碲镉汞红外探测器芯片衬底表面有很好的附着性，在高低温度变化过程中不脱落不改变性能。

摘要： 红外增透膜封闭式白炽灯及红外增透膜的制备方法是飞机着陆、滑行用的红外增透膜封闭式白炽灯，由透镜，发光体，反射罩，导丝及接触片构成，发光体焊接在导丝上构成装架件，置于反射罩的焦点上，透镜与反射罩进行边缘封接形成密封的玻璃腔体，在反射罩抛物面的内壁上镀有红外增透膜，红外增透膜采用蒸镀镀膜方法，蒸镀的步骤为镀前除气、先镀ZnS，后镀SiO2，交替均匀蒸镀，最后将其老化坚固，采用红外增透膜取代铝膜可以在有效地解决了PAR灯炸屏问题的同时，提高了灯泡发光强度和寿命，降低了质量损失，提高了社会经济效益。

摘要： 本实用新型涉及一种防窥增透膜及显示器件。该防窥增透膜的微透镜为凸透镜结构，可以对光线起到折射的作用，减少光线的全反射，引导光线射出，提高光线出射效率；并且至少有部分微透镜具有防窥侧面，其各处相对于基底部的斜率大于其他侧面在同一高度处相对于基底部的斜率，这样可以实现在显示屏的不同侧具有不同视角的功能，在视角较小的侧或方向上就可以实现光学防窥功能。该防窥增透膜可以避免使用传统光学防窥膜带来的亮度降低的问题，在实现光学防窥功能的同时，还可以提高器件的出光效率，因而有利于提高显示器件的寿命。