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Optical/Laser Microlithography VII
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1.
Scattered light in photolithographic lenses
机译:
光刻镜头中的散射光
作者:
Joseph P. Kirk
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
2.
Using behavior modeling for proximity correction
机译:
使用行为建模进行邻近校正
作者:
Michael L. Rieger
;
Precim Co.
;
Portland
;
OR
;
USA
;
John P. Stirniman
;
Precim Co.
;
Beaverton
;
OR
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
3.
Enhanced lumped parameter model for photolithography
机译:
光刻的增强集总参数模型
作者:
Chris A. Mack
;
FINLE Technologies
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
4.
SiOxNy:H high-performance antireflective layer for current and future optical lithography
机译:
用于当前和未来光学光刻的SiOxNy:H高性能抗反射层
作者:
Tohru Ogawa
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Hiroyuki Nakano
;
Sony Corp.
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Tetsuo Gocho
;
Sony Corp.
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Toshiro Tsumori
;
Sony Corp.
;
Kanagawa-ken
;
Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
5.
Stepper stability improvement by a perfect self-calibration system,
机译:
完善的自校准系统可提高步进器的稳定性,
作者:
Shinji Kuniyoshi
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Susumu Komoriya
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Koohei Sekiguchi
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Takeshi Katoo
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira-shi
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
6.
Progression of overlay performance on a 0.5-NA broadband DUV wafer exposure system
机译:
0.5 NA宽带DUV晶圆曝光系统的覆盖性能提升
作者:
Joseph Vigil
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Gerald B. Elder
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
David J. Cronin
;
SVG Lithography Systems
;
Inc.
;
Wilton
;
CT
;
USA
;
Stan Draskiewicz
;
SVG Lithography Systems
;
Inc.
;
Wilton
;
CT
;
USA
;
Timothy J. Wiltshire
;
IBM Corp.
;
Hopewe
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
7.
Techniques for improving overlay on multilayer phase-shift masks
机译:
改善多层相移掩模上覆盖的技术
作者:
Henry C. Hamaker
;
Etec Systems Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Michael J. Bohan
;
Etec Systems Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Peter D. Buck
;
Etec Systems Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Claudia H. Geller
;
Etec Systems Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Takashi Makiyama
;
Etec System
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
8.
Recent advances of a KrF excimer laser on a plant's practical requirements
机译:
KrF准分子激光器在工厂实际应用中的最新进展
作者:
Yukio Kobayashi
;
Komatsu Ltd.
;
Hiratsuka-shi
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Takanobu Ishihara
;
Komatsu Ltd.
;
Hiratsuka-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hiroaki Nakarai
;
Komatsu Ltd.
;
Hiratsuka-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Noritoshi Itoh
;
Komatsu Ltd.
;
Hiratsuka-shi
;
Kanagawa
;
Japan
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
9.
Phase-shift mask issues for 193-nm lithography
机译:
193 nm光刻的相移掩模问题
作者:
Bruce W. Smith
;
Rochester Institute of Technology
;
Rochester
;
NY
;
USA
;
Suleyman Turgut
;
Rochester Institute of Technology
;
Rochester
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
10.
Phase-shifting masks: automated design and mask requirements
机译:
相移掩模:自动化设计和掩模要求
作者:
Yagyensh C. Pati
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Yao-Ting Wang
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Jen-Wei Liang
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Thomas Kailath
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
11.
Polarization and edge effects in photolithographic masks using three-dimensional rigorous simulation
机译:
使用三维严格模拟的光刻掩模中的偏振和边缘效应
作者:
Alfred K. Wong
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Andrew R. Neureuther
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
12.
Comparative study on optical proximity effect correction with various types of dummy patterns and its a
机译:
各种虚拟图案的光学邻近效应校正的比较研究及其应用
作者:
Chang-Jin Sohn
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-Eup
;
Yongin-Gun
;
Kyungki-Do
;
South Korea
;
Woo-Sung Han
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-eup Yongin-gun
;
Kyungki-do
;
South Korea
;
Ho-Young Kang
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Maedan
;
Dong
;
Suwo
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
13.
Comparison of I-line and deep-UV technologies for 0.35-um lithography
机译:
适用于0.35微米光刻的I线技术和深紫外技术的比较
作者:
Kevin J. Orvek
;
Digital Equipment Corp.
;
Hudson
;
MA
;
USA
;
Joseph J. Ferrari
;
Digital Equipment Corp.
;
Hudson
;
MA
;
USA
;
Sasha K. Dass
;
Digital Equipment Corp.
;
Hudson
;
MA
;
USA
;
Daniel A. Corliss
;
Digital Equipment Corp.
;
Hudson
;
MA
;
USA
;
James R. Buchanan
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
14.
Characteristics of standing-wave effect of off-axis illumination depending on two different resist systems and the polarization effect of ste
机译:
取决于两种不同光刻胶系统的离轴照明驻波效应的特性以及ste的偏振效应
作者:
Kee Ho Kim
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-Eup
;
Yongin-Gun
;
Kyungki-Do
;
South Korea
;
Woo-Sung Han
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-eup Yongin-gun
;
Kyungki-do
;
South Korea
;
Chul Hong Kim
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-Eup
;
Yongin-Gu
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
15.
Automated optical proximity correction: a rules-based a
机译:
自动光学邻近校正:基于规则的
作者:
Oberdan W. Otto
;
Trans Vector Technologies Inc.
;
Camarillo
;
CA
;
USA
;
Joseph G. Garofalo
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
K.K. Low
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Chi-Min Yuan
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Richard C. Henderson
;
Trans Vector Technologies I
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
16.
Attenuating phase-shift mask by thermal oxidation of chrome
机译:
通过铬的热氧化来衰减相移掩模
作者:
David S. OGrady
;
IBM Essex Junction
;
Jericho
;
VT
;
USA
;
Phil B. Wilber
;
IBM Essex Junction
;
Essex Junction
;
VT
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
17.
Innovative image formation: coherency controlled imaging
机译:
创新的图像形成:相干控制成像
作者:
Koichi Matsumoto
;
Nikon Corp.
;
Shinagawa-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Naomasa Shiraishi
;
Nikon Corp.
;
Shinagawa-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Yuichiro Takeuchi
;
Nikon Corp.
;
Shinagawa-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Shigeru Hirukawa
;
Nikon Corp.
;
Shinagawa-ku
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
18.
Investigation of proximity effects for a rim phase-shifting mask printed with annular illumination
机译:
环形照明印刷的边缘相移掩模的邻近效应研究
作者:
David M. Newmark
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Eric Tomacruz
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Sheila Vaidya
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Andrew R. Neureuther
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
19.
High-repetition-rate lasers for advanced DUV exposure tools
机译:
适用于高级DUV曝光工具的高重复频率激光器
作者:
Ulrich Rebhan
;
Lambda Physik GmbH
;
Goettingen
;
Federal Republic of Germany
;
Rainer Paetzel
;
Lambda Physik GmbH
;
Goettingen
;
Federal Republic of Germany
;
Hermann Buecher
;
Lambda Physik GmbH
;
Goettingen
;
Federal Republic of Germany
;
Michael W. Powell
;
Lambd
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
20.
Focusing and leveling based on wafer surface profile detection with interferometry for optical lithography
机译:
基于晶圆表面轮廓检测和干涉技术的光学平版聚焦和整平
作者:
Masahiro Watanabe
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Yokohama
;
Japan
;
Yoshitada Oshida
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Yokohama
;
Japan
;
Yasuhiko Nakayama
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Yokohama
;
Japan
;
Minoru Yoshida
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Yokohama
;
Japan
;
Ryuichi Funatsu
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Akira F
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
21.
Effects of transparent and transmission reduction reticle defects
机译:
透明和透射减少的掩模版缺陷的影响
作者:
Larry S. Zurbrick
;
KLA Instruments Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Steven Schuda
;
KLA Instruments Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
James N. Wiley
;
KLA Instruments Corp.
;
Menlo Park
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
22.
Fast proximity correction with zone sampling
机译:
带区域采样的快速接近校正
作者:
John P. Stirniman
;
Precim Co.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Michael L. Rieger
;
Precim Co.
;
Portland
;
OR
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
23.
Fabrication of phase-shifting masks employing multilayer films
机译:
使用多层膜的相移掩模的制造
作者:
T.C. Chieu
;
IBM Research Div.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Kwang K. Shih
;
IBM Research Div.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Derek B. Dove
;
IBM Research Div.
;
Yorktown Heightsn
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
24.
Experimental study of phase-shifting mask defect detection using phase-shifting interferometry
机译:
相移干涉法检测相移掩模缺陷的实验研究
作者:
Yiping Xu
;
WYKO Corp.
;
Tucson
;
AZ
;
USA
;
Donald K. Cohen
;
WYKO Corp.
;
Tucson
;
AZ
;
USA
;
John M. OConnor
;
Quantronix Corp.
;
Hauppauge
;
NY
;
USA
;
Kuo-Ching Liu
;
Quantronix Corp.
;
Hauppauge
;
NY
;
USA
;
Martin G. Cohen
;
Quantronix Corp.
;
Hauppauge
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
25.
Correcting for proximity effect widens process latitude
机译:
校正邻近效应扩大了工艺范围
作者:
Richard C. Henderson
;
Trans Vector Technologies Inc.
;
Westlake Village
;
CA
;
USA
;
Oberdan W. Otto
;
Trans Vector Technologies Inc.
;
Camarillo
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
26.
Optimization of the optical phase shift in attenuated phase-shifting masks and application to quarter-micrometer deep-UV lithography for logics
机译:
衰减相移掩模中光学相移的优化及其在四分之一微米深紫外光刻中的逻辑应用
作者:
Author(s): Kurt Ronse IMEC Leuven Belgium
;
Rainer Pforr IMEC Leuven Belgium
;
Ki-Ho Baik IMEC Ichon-Kun Kyoung-ki do South Korea
;
Rik Jonckheere IMEC Leuven Belgium
;
Luc Van den hove IMEC Leuven Belgium.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
27.
Application of CVD antireflective-layer process for sub-half-micrometer devices
机译:
CVD抗反射层工艺在半微米器件中的应用
作者:
Author(s): Hideaki Mito Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan
;
Yoshiyuki Tani Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan
;
Yoshimitsu Okuda Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan
;
Yoshihiro Todokoro Matsushita
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
28.
Lithographic performance at sub-300-nm design rules using a high-NA I-line stepper with optimized NA and (sigma) in conjunction with advanced PSM technology
机译:
使用具有优化的NA和(sigma)的高NA I线步进器以及先进的PSM技术,可在300 nm以下的设计规则下实现光刻性能
作者:
Author(s): Barton A. Katz ASM Lithography Inc. Tempe AZ USA
;
Richard Rogoff ASM Lithography Inc. Tempe AZ USA
;
James Foster ASM Lithography Inc. Tempe AZ USA
;
William T. Rericha Micron Semiconductor Inc. Boise ID USA
;
J.B. Rolfson Mic
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
29.
Programming of phase-shift mask simulation software and some important aspects
机译:
相移掩模仿真软件的编程和一些重要方面
作者:
Long Que
;
Institute of Optics
;
Electronics
;
Shuangliu
;
Chendu
;
Sichuan
;
China
;
Guoliang Sun
;
Institute of Optics
;
Electronics
;
Shuangliu
;
Chengdu
;
Sichuan
;
China
;
Boru Feng
;
Institute of Optics
;
Electronics
;
Shuangliu
;
Chendu
;
Sichuan
;
China.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
30.
Quarter-micrometer i-line lithography using an alternating phase-shift mask
机译:
使用交替相移掩模的四分之一微米i线光刻
作者:
Hung-Eil Kim
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ichon-kun
;
Kyungiki-do
;
South Korea
;
Young-Sik Kim
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ichon-kun
;
Kyong-do
;
Seoul
;
South Korea
;
Chul-Seung Lee
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ichon-
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
31.
Quarter-micrometer lithography system with oblique illumination and pupil filter
机译:
具有倾斜照明和光瞳滤光片的四分之一微米光刻系统
作者:
Seiji Orii
;
Canon Inc.
;
Utsunomiya-Shi
;
Japan
;
Tetsuya Sekino
;
Canon Inc.
;
Utsunomiya-Shi
;
Japan
;
Masakatsu Ohta
;
Canon Inc.
;
Utsunomiya-Shi
;
Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
32.
Overcoming global topography and improving lithographic performance using a transmittance controlled mask
机译:
使用透射率受控的掩模来克服整体形貌并提高光刻性能
作者:
Woo-Sung Han
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-eup Yongin-gun
;
Kyungki-do
;
South Korea
;
Chang-Jin Sohn
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-Eup
;
Yongin-Gun
;
Kyungki-Do
;
South Korea
;
Ho-Young Kang
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Maedan
;
Dong
;
Suwo
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
33.
Optimization of optical properties for single-layer halftone masks
机译:
单层半色调掩模的光学性能的优化
作者:
Shin-ichi Ito
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Hiroaki Hazama
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Takashi Kamo
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Hideya Miyazaki
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Hiroyuki Sato
;
Toshib
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
34.
Optimization of the optical phase shift in attenuated phase-shiftingmasks and application to quarter-micrometer deep-UV lithography for logics,
机译:
衰减相移掩模中光学相移的优化及其在四分之一微米深紫外光刻中的逻辑应用,
作者:
Kurt Ronse
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Rainer Pforr
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Ki-Ho Baik
;
IMEC
;
Ichon-Kun
;
Kyoung-ki do
;
South Korea
;
Rik Jonckheere
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Luc Van den hove
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
35.
Aerial image measurements on a commercial ste
机译:
商业Ste上的航空影像测量
作者:
Charles H. Fields
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
William N. Partlo
;
Cymer Laser Tech.
;
San Diego
;
CA
;
USA
;
William G. Oldham
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
36.
New phase-shifting method for high-resolution microlithography
机译:
高分辨率微光刻的新相移方法
作者:
Motoi Kido
;
Rice Univ.
;
Houston
;
TX
;
USA
;
Gabor Szabo
;
Jate Univ.
;
Szeged
;
Hungary
;
Joseph R. Cavallaro
;
Rice Univ.
;
Houston
;
TX
;
USA
;
William L. Wilson
;
Jr.
;
Rice Univ.
;
Houston
;
TX
;
USA
;
Frank K. Tittel
;
Rice Univ.
;
Houston
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
37.
New mask evaluation tool: the microlithography simulation microscope aerial image measurement system
机译:
新型掩模评估工具:微光刻模拟显微镜航拍图像测量系统
作者:
Russell A. Budd
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Derek B. Dove
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heightsn
;
NY
;
USA
;
John L. Staples
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
H.Nasse
;
Carl Z
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
38.
Application of the aerial image measurement system (AIMS)TM to theanalysis of binary mask imaging and resolution enhancement techniques,
机译:
航空影像测量系统(AIMS)TM在二值掩模成像和分辨率增强技术分析中的应用,
作者:
Ronald M. Martino
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Richard A. Ferguson
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Russell A. Budd
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
John L. Staples
;
IBM Thomas J. Wats
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
39.
0.5-um deep-UV photolithography manufacturing
机译:
0.5um深紫外光刻制造
作者:
Diana D. Dunn
;
IBM Essex Junction
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Katherine C. Norris
;
IBM Essex Junction
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Linda Somerville
;
IBM Essex Junction
;
Essex Junction
;
VT
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
40.
Metal layer resist process optimization by design of experiment
机译:
通过实验设计优化金属层抗蚀剂工艺
作者:
Gwo-Yuh Shiau
;
Industrial Technology Research Institute
;
Chutung
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
Hao-Tien D. Lee
;
Industrial Technology Research Institute
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
Hwang-Kuen Lin
;
Industrial Technology Research Institute
;
Chutung
;
Hsinchu
;
Taiwan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
41.
Lithographic performance at sub-300-nm design rules using a high-NAI-line stepper with optimized NA and (sigma) in conjunction with advanced PSMtechnology,
机译:
使用具有优化的NA和(sigma)的高NAI线步进器结合先进的PSM技术,可在300 nm以下的设计规则下实现光刻性能,
作者:
Barton A. Katz
;
ASM Lithography
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Richard Rogoff
;
ASM Lithography
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
James Foster
;
ASM Lithography
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
William T. Rericha
;
Micron Semiconductor
;
Inc.
;
Boise
;
ID
;
USA
;
J.B. Rolfson
;
Micron Semicon
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
42.
Manufacturing engineering use of data management to analyze and controlstepper performance in existing fabs and on stepper evaluations for new tools,
机译:
制造工程部门使用数据管理来分析和控制现有fab中的步进器性能以及对新工具的步进器评估,
作者:
Paul W. Ackmann
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Stuart L. Brown
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Richard Edwards
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Staci Oshelski
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
43.
1:1 catadioptric deep-UV optics with a full-circle available field
机译:
具有全视野的1:1折反射深紫外光学器件
作者:
Yudong Zhang
;
Fujian Institute of Research on the Structure of Matt er
;
Fuzhou
;
Fujian
;
China.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
44.
Zone-by-zone optimization of the dummy diffraction mask with auxiliary phase gratings
机译:
带有辅助相位光栅的伪衍射掩模的逐区优化
作者:
Yong-Ho Oh
;
Electronics
;
Telecommunications Research Institute
;
Daeduk Science Town
;
Daejeon
;
South Korea
;
Byung-Sun Park
;
Electronics
;
Telecommunications Research Institute
;
Daejeon
;
South Korea
;
Hai Bin Chung
;
Electronics
;
Telecommunications Research Ins
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
45.
Wide-field variable NA lens analysis for high-volume 0.5-um manufacturing
机译:
适用于0.5um大批量生产的广角可变NA透镜分析
作者:
Paul W. Ackmann
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Stuart L. Brown
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Richard Edwards
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
46.
Simulations on step-and-scan optical lithography
机译:
步进扫描光刻的仿真
作者:
Joerg Bischoff
;
FhG. Institut fuer Siliziumtechnologie
;
Ilmenau
;
Federal Republic of Germany
;
Wolfgang Henke
;
FhG. Institut fuer Siliziumtechnologie
;
Berlin
;
Federal Republic of Germany
;
Jan van der Werf
;
Philips Research Labs.
;
Eindhoven
;
Netherlands
;
Pe
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
47.
Small-field projection imaging system for deep-UV development
机译:
用于深紫外显影的小视场投影成像系统
作者:
Richard F. Hollman
;
Excimer Laser Systems
;
Inc.
;
Wayland
;
MA
;
USA
;
David J. Elliott
;
Excimer Laser Systems
;
Inc.
;
Wayland
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
48.
Some image modeling issues for I-line 5X phase-shifting masks
机译:
I线5X相移掩模的一些图像建模问题
作者:
Gregory L. Wojcik
;
Weidlinger Associates
;
Inc.
;
Los Altos
;
CA
;
USA
;
John Mould
;
Jr.
;
Weidlinger Associates
;
Inc.
;
Los Altos
;
CA
;
USA
;
Richard A. Ferguson
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Ronald M. Martino
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell Juncti
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
49.
Substrate contamination effects in the processing of chemically amplified DUV photoresists
机译:
化学放大DUV光刻胶加工中的基材污染效应
作者:
John L. Sturtevant
;
IBM Essex Junction
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Steven J. Holmes
;
IBM Essex Junction
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Stephen E. Knight
;
IBM Essex Junction
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Denis Poley
;
IBM Essex Junction
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Paul
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
50.
Process optimization for 0.35-um i-line lithography
机译:
0.35微米i线光刻的工艺优化
作者:
Cesar M. Garza
;
Sr.
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
William L. Krisa
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Anthony Yen
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
J.S. Shu
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
51.
Systematic design of phase-shifting masks
机译:
相移掩模的系统设计
作者:
Yao-Ting Wang
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Yagyensh C. Pati
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Jen-Wei Liang
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Thomas Kailath
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
52.
Sample-3D benchmarks including high-NA and thin-film effects
机译:
Sample-3D基准,包括高NA和薄膜效果
作者:
John J. Helmsen
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Michael S. Yeung
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Derek Lee
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Andrew R. Neureuther
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
53.
Reticle specific compensations to meet production overlay requirements for 64 MB and beyond
机译:
标配分划板的补偿,以满足64 MB及以上的生产覆盖要求
作者:
Richard Rogoff
;
ASM Lithography
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Syi-Sying Hong
;
United Microelectronics Corp.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
Doug Schramm
;
Micron Semiconductor
;
Boise
;
ID
;
USA
;
Greg Espin
;
Prometrix
;
Tempe
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
54.
Phase-shifter edge effects on attenuated phase-shifting mask image quality
机译:
移相器边缘对衰减的相移掩模图像质量的影响
作者:
Alfred K. Wong
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Richard A. Ferguson
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Andrew R. Neureuther
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
55.
Practical 0.35-um i-line lithography
机译:
实用的0.35um i线光刻
作者:
Paul F. Luehrmann
;
Jr.
;
ASM Lithography BV
;
Veldhoven
;
Netherlands
;
Stefan Wittekoek
;
ASM Lithography BV
;
Veldhoven
;
Netherlands
;
Steven G. Hansen
;
OCG Microelectronic Materials
;
Inc.
;
East Providence
;
RI
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
56.
Comprehensive evaluation of major phase-shift mask technologies for isolated gate structures in logic designs
机译:
综合评估逻辑设计中隔离栅结构的主要相移掩模技术
作者:
Lars W. Liebmann
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Thomas G. Newman
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Richard A. Ferguson
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Ronald M. Martino
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell Junction
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
57.
Comparison of deep-UV reflection control methods for interconnect layers
机译:
互连层深紫外反射控制方法的比较
作者:
Joseph J. Ferrari
;
Digital Equipment Corp.
;
Hudson
;
MA
;
USA
;
Sasha K. Dass
;
Digital Equipment Corp.
;
Hudson
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
58.
Combination of transmission and absorption mask for 0.3-um lithography
机译:
透射和吸收掩模的组合,用于0.3um光刻
作者:
Lothar Bauch
;
Institut fuer Halbleiterphysik Frankfurt (Oder) GmbH
;
Dresden
;
Federal Republic of Germany
;
Joachim J. Bauer
;
Institut fuer Halbleiterphysik Frankfurt (Oder) GmbH
;
Frankfurt (Oder)
;
Federal Republic of Germany
;
M.Boettcher
;
Institut fuer Hal
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
59.
Automated determination of CAD layout failures through focus: experiment and simulation
机译:
通过重点自动确定CAD布局故障:实验和仿真
作者:
Christopher A. Spence
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
John L. Nistler
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Eytan Barouch
;
Princeton Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Uwe Hollerbach
;
Princeton Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Steven A. Ors
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
60.
Attenuated phase-shifting mask with a single-layer absorptive shifter of CrO CrON MoSiO and MoSiON film
机译:
CrO CrON MoSiO和MoSiON膜的单层吸收性移位器的衰减型相移掩模
作者:
Masayuki Nakajima
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-City
;
Hyogo
;
Japan
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Junji Miyazaki
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo-ken
;
Japan
;
Haruhiko Kusunose
;
Mitsubishi Electric C
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
61.
Analyzing deep-UV lens aberrations using aerial image and latent image metrologies
机译:
使用航拍图像和潜像测量法分析深紫外透镜像差
作者:
Eric L. Raab
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Christophe Pierrat
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Charles H. Fields
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Robert L. Kostelak
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
William G. Oldha
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
62.
Analysis of microlithography in an open-architecture TCAD system
机译:
开放式TCAD系统中的微光刻分析
作者:
V.Axelrad
;
Technology Modeling Associates
;
Inc.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Victor V. Boksha
;
Technology Modeling Associates
;
Inc.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Y.Granik
;
Technology Modeling Associates
;
Inc.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Ognjen Milic
;
Technology Modeling Associat
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
63.
Quantitative stepper metrology using the focus monitor test mask,
机译:
使用聚焦监控器测试掩模进行定量步进测量,
作者:
Timothy A. Brunner
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Alexander L. Martin
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Ronald M. Martino
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Kit Ausschnitt
;
IBM Microelectronics
;
Brookfi
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
64.
Overlay and lens distortion in a modified illumination ste
机译:
改进的照明系统中的覆盖物和镜头变形
作者:
Chul-Seung Lee
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ichon-kun
;
Kyoungki-do
;
Seoul
;
South Korea
;
Jeong Soo Kim
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ichon-kun
;
Kyoung Ki Do
;
South Korea
;
Ik-Boum Hur
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ich
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
65.
Optimization of modified illumination for 0.25-um resist patterning
机译:
用于0.25um抗蚀剂构图的改进照明的优化
作者:
Keiichiro Tounai
;
NEC Corp.
;
Sagamihara
;
Kanagawa
;
Japan
;
Shuichi Hashimoto
;
NEC Corp.
;
Sagamihara
;
Kanagawa
;
Japan
;
Seiichi Shiraki
;
NEC Corp.
;
Sagamihara
;
Kanagawa
;
Japan
;
Kunihiko Kasama
;
NEC Corp.
;
Sagamihara
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
66.
Optimizing distortion for a large-field submicrometer lens
机译:
优化大视场亚微米透镜的畸变
作者:
Shiow-Hwei Hwang
;
Ultratech Stepper
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Bruce J. Ruff
;
Ultratech Stepper
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
67.
Optimizing numerical aperture and partial coherence to reduce proximity effect in deep-UV lithography
机译:
优化数值孔径和部分相干以减少深紫外光刻中的邻近效应
作者:
Raymond A. Cirelli
;
ATT Bell Labs.
;
Somerville
;
NJ
;
USA
;
Eric L. Raab
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Robert L. Kostelak
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Sheila Vaidya
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
68.
Optimized registration model for 2:1 ste
机译:
针对2:1 ste的优化注册模型
作者:
Warren W. Flack
;
Ultratech Stepper
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
Gary E. Flores
;
Ultratech Stepper
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Joseph C. Pellegrini
;
New Vision Systems
;
Inc.
;
Watertown
;
MA
;
USA
;
Mark Merrill
;
KLA Instruments Corp.
;
Campbell
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
69.
Aerial image of 3D phase-shifted reticle: 3D fast aerial image model
机译:
3D相移光罩的航拍图像:3D快速航拍图像模型
作者:
Eytan Barouch
;
Princeton Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Uwe Hollerbach
;
Clarkson Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Steven A. Orszag
;
Princeton Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
70.
Aerial image analysis of quarter-micrometer patterns on a 0.5-NA excimer ste
机译:
在0.5 NA准分子Ste上的四分之一微米图案的航空图像分析
作者:
Ulrich Boettiger
;
IBM Germany GmbH
;
Boeblingen
;
Federal Republic of Germany
;
Thomas Fischer
;
IBM Germany GmbH
;
Sindelfingen
;
Federal Republic of Germany
;
A.Grassmann
;
IBM Germany GmbH
;
Boeblingen
;
Federal Republic of Germany
;
Holger Moritz
;
IBM Germany Gm
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
71.
Near-field nanofabrication with pipette-guided ArF excimer laser
机译:
用移液管引导的ArF准分子激光进行近场纳米加工
作者:
Michael Rudman
;
Hebrew Univ. of Jerusalem
;
Jerulsalem
;
Israel
;
Anatoly Shchemelinin
;
Hebrew Univ. of Jerusalem
;
Jerulsalem
;
Israel
;
Klony Lieberman
;
Hebrew Univ. of Jerusalem
;
Jerusalem
;
Israel
;
Aaron Lewis
;
Hebrew Univ. of Jerusalem
;
Jerusalem
;
Israel.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
72.
Multiple-exposure interferometric lithography
机译:
多次曝光光刻
作者:
Saleem H. Zaidi
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Steven R. Brueck
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
73.
Micrascan II overlay error analysis
机译:
Micrascan II覆盖误差分析
作者:
David J. Cronin
;
SVG Lithography Systems
;
Inc.
;
Wilton
;
CT
;
USA
;
Gregg M. Gallatin
;
SVG Lithography Systems
;
Inc.
;
Wilton
;
CT
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
74.
Minimization of total overlay errors when matching nonconcentric exposure fields
机译:
匹配非同心曝光场时,将总覆盖误差降至最低
作者:
Moshe E. Preil
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Terry M. Manchester
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Anna M. Minvielle
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Robert J. Chung
;
ASM Lithography
;
Sunnyvale
;
CA
;
U
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
75.
Large-area phase-shift mask design
机译:
大面积相移掩模设计
作者:
Nicolas B. Cobb
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Avideh Zakhor
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
76.
Improvement of the focus exposure latitude using optimized illumination and mask design
机译:
使用优化的照明和蒙版设计改善焦点曝光范围
作者:
Rainer Pforr
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Kurt Ronse
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Patrick Jaenen
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Rik Jonckheere
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Luc Van den hove
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Peter van Oorschot
;
ASM Lithography BV
;
Veldhoven
;
Netherlands
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
77.
Interpreting cost of ownership for mix-and-match lithography
机译:
解释混合匹配光刻的拥有成本
作者:
Alan L. Levine
;
Ultratech Stepper
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Albert S. Bergendahl
;
Bergendahl Enterprises
;
Jericho
;
VT
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
78.
I-line photoresist evaluations for contact hole performance with attenuated phase-shift reticles
机译:
I-line光刻胶评估相移掩模版的接触孔性能
作者:
William L. Krisa
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Cesar M. Garza
;
Sr.
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Anthony Yen
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
J.S. Shu
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
79.
Focusing and leveling system using position-sensitive detectors for the wafer ste
机译:
使用位置敏感检测器的晶圆对准和调平系统
作者:
Doh H. Kim
;
Electronics
;
Telecommunications Research Institute
;
Yoosung Gu
;
Taejeon
;
South Korea
;
Won I. Jang
;
Electronics
;
Telecommunications Research Institute
;
Daeduk Science Town
;
Daejeon
;
South Korea
;
Boo Y. Choi
;
Electronics
;
Telecommunications Resea
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
80.
Fundamental analysis on fabrication of 256-MB DRAM using phase-shift mask technology
机译:
使用相移掩膜技术制造256 MB DRAM的基础分析
作者:
Young-Mog Ham
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ichon-kun
;
Kyongki-do
;
South Korea
;
Young-Sik Kim
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ichon-kun
;
Kyong-do
;
Seoul
;
South Korea
;
Ik-Boum Hur
;
Hyundai Electronics Industries Co.
;
Ltd.
;
Ichon-kun
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
81.
High-spectral-brightness operation of narrow-linewidth KrF laser for microlithography
机译:
窄线宽KrF激光微光刻的高光谱亮度操作
作者:
Alexander N. Novoselov
;
Scientific Research Institute ZENIT
;
Moscow
;
Russia
;
Boris A. Konstantinov
;
Scientific Research Institute ZENIT
;
Zelenograd
;
Russia
;
Victor G. Nikiforov
;
Scientific Research Institute ZENIT
;
Moscow
;
Russia
;
Boris F. Trinchuk
;
Scien
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
82.
Experimental verification of high-numerical-aperture effects in photoresist
机译:
光刻胶中的高数值孔径效应的实验验证
作者:
Donis G. Flagello
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Tom D. Milster
;
Optical Sciences Ctr./Univ. of Arizona
;
Tucson
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
83.
Exposure of a halftone mask by conventional and off-axis illumination
机译:
通过常规和离轴照明曝光半色调掩模
作者:
Hye-Keun Oh
;
Hanyang Univ.
;
Sadang-Dong Dong-Jak-Gu
;
Seoul
;
South Korea
;
Jung-Woung Goo
;
Hanyang Univ.
;
Kyunggi-Do
;
South Korea
;
Sug-Soon Yim
;
Hanyang Univ.
;
Kyunggi-Do
;
South Korea
;
Tak-Hyun Yoon
;
Hanyang Univ.
;
Kyunggi-Do
;
South Korea
;
Seung-Wook Park
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
84.
Evaluation of new attenuating phase-shifting mask techniques
机译:
评估新的衰减相移掩模技术
作者:
Kevin D. Lucas
;
Carnegie Mellon Univ.
;
Pittsburgh
;
PA
;
USA
;
Andrzej J. Strojwas
;
Carnegie Mellon Univ.
;
Pittsburgh
;
PA
;
USA
;
K.K. Low
;
SEMATECH/Motorola
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
85.
Estimation of attenuated phase-shifting mask fabrication latitude using an optical exposure-defocus methodology
机译:
使用光学曝光-散焦方法估计衰减相移掩模的制造范围
作者:
Minoru Sugawara
;
Sony Corp.
;
Atsugi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hiroichi Kawahira
;
Sony Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Keisuke Tsudaka
;
Sony Corp.
;
Atsugi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Akihiro Ogura
;
Sony Corp.
;
Atsugi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Satoru Nozawa
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
86.
Determining metal interconnect imaging capability
机译:
确定金属互连成像能力
作者:
Stuart L. Brown
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Greg A. Goodwin
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Wayne H. Ostrout
;
Shipley Co. Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
87.
Effective light source optimization with the modified beam for depth-of-focus enhancements
机译:
使用改良的光束进行有效的光源优化,以增强景深
作者:
Tohru Ogawa
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Masaya Uematsu
;
Sony Corp.
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Toshiyuki Ishimaru
;
Sony Corp.
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Mitsumori Kimura
;
Sony Corp.
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Toshiro Tsumori
;
Sony Corp.
;
Kanagawa-ken
;
J
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
88.
Effect of shifter edge angle and lens aberration on the pattern profile in the edge-line phase-shift method
机译:
边缘线相移法中移位器边缘角度和透镜像差对图案轮廓的影响
作者:
Mitsunori Nakatani
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Hyogo
;
Japan
;
Hiroshi Matsuoka
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Hyogo
;
Japan
;
Hirofumi Nakano
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Hyogo
;
Japan
;
Kazuya Kamon
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Kazuhiko Sa
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
89.
Deep-UV photolithography cluster performance
机译:
深紫外光刻群集性能
作者:
Noreen Harned
;
SVG Lithography Systems
;
Inc.
;
Wilton
;
CT
;
USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
90.
Comparison of phase-shift mask types for submicrometer contact hole definition
机译:
亚微米接触孔定义的相移掩模类型比较
作者:
Zheng Cui
;
Rutherford Appleton Lab.
;
Chilton
;
Didcot
;
Oxon
;
United Kingdom
;
Brian Martin
;
GEC Plessey Semiconductors Ltd.
;
Roborough
;
Plymouth
;
Devon
;
United Kingdom
;
Philip D. Prewett
;
Rutherford Appleton Lab.
;
Abingdon
;
Oxon
;
United Kingdom
;
Steve Johns
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
91.
Quantitative stepper metrology using the focus monitor test mask
机译:
使用聚焦监控器测试掩模进行定量步进计量
作者:
Author(s): Timothy A. Brunner IBM Microelectronics Hopewell Junction NY USA
;
Alexander L. Martin IBM Microelectronics Hopewell Junction NY USA
;
Ronald M. Martino IBM Microelectronics Hopewell Junction NY USA
;
Kit Ausschnitt IBM Microelectroni
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
92.
Application of the aerial image measurement system (AIMS)TM to the analysis of binary mask imaging and resolution enhancement techniques
机译:
航空影像测量系统(AIMS)TM在二值掩模成像和分辨率增强技术分析中的应用
作者:
Author(s): Ronald M. Martino IBM Microelectronics Hopewell Junction NY USA
;
Richard A. Ferguson IBM Microelectronics Hopewell Junction NY USA
;
Russell A. Budd IBM Thomas J. Watson Research Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
John L. Staples IBM Tho
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
93.
Impact of attenuated mask topography on lithographic performance
机译:
衰减掩模的形貌对光刻性能的影响
作者:
Author(s): Richard A. Ferguson IBM Microelectronics Hopewell Junction NY USA
;
William J. Adair IBM Essex Junction Essex Junction VT USA
;
David S. OGrady IBM Essex Junction Jericho VT USA
;
Ronald M. Martino IBM Microelectronics Hopewell Junc
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
94.
Stepper stability improvement by a perfect self-calibration system
机译:
完善的自校准系统提高了步进器的稳定性
作者:
Author(s): Shinji Kuniyoshi Hitachi Ltd. Kodaira-shi Tokyo Japan
;
Susumu Komoriya Hitachi Ltd. Kodaira-shi Tokyo Japan
;
Koohei Sekiguchi Hitachi Ltd. Kodaira-shi Tokyo Japan
;
Takeshi Katoo Hitachi Ltd. Kodaira-shi Tokyo Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
95.
Application of subresolution phase-shift mask with G-line stepper for sub-half-micrometer gate GaAs circuits
机译:
具有G线步进器的亚分辨率相移掩模在半微米栅极GaAs电路中的应用
作者:
Author(s): Yih-Cheng Shih ATT Bell Labs. Macungie PA USA
;
Joseph G. Garofalo ATT Bell Labs. Murray Hill NJ USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
96.
Manufacturing engineering use of data management to analyze and control stepper performance in existing fabs and on stepper evaluations for new tools
机译:
制造工程使用数据管理来分析和控制现有晶圆厂中的步进器性能以及对新工具的步进器评估
作者:
Author(s): Paul W. Ackmann Advanced Micro Devices Inc. Austin TX USA
;
Stuart L. Brown Advanced Micro Devices Inc. Austin TX USA
;
Richard Edwards Advanced Micro Devices Inc. Austin TX USA
;
Staci Oshelski Advanced Micro Devices Inc. Austin
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VII》
|
1994年
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