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Evaluation of new attenuating phase-shifting mask techniques

机译：评估新的衰减相移掩模技术

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来源
《Optical/Laser Microlithography VII》|1994年|p.489-500|共12页
会议地点 San Jose CA(US)
作者
Kevin D. Lucas; Carnegie Mellon Univ.; Pittsburgh; PA; USA; Andrzej J. Strojwas; Carnegie Mellon Univ.; Pittsburgh; PA; USA; K.K. Low; SEMATECH/Motorola; Austin; TX; USA.;
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作者单位

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类无线电电子学、电信技术;
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