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Journal of Vacuum Science & Technology. B

Journal of Vacuum Science & Technology. B

SCIEICA

中文名称：真空科学与技术学报。乙

ISSN：1071-1023
出版周期：

发文量：6065

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1.Combining nanoimprint lithography and a molecular weight selective thermal reflow for the generation of mixed 3D structures

机译：结合纳米压印光刻和分子量选择性热回流以生成混合3D结构
- 作者：Arne Schleunitz;Christian Spreu;Marko Vogler;Hakan Atasoy;Helmut Schift
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
2.Evaluation of the curing process of UV resins in a 1,1,1,3,3-pentafluoropropane gas environment by photo differential scanning calorimetry and Fourier transform infrared spectroscopy

机译：用光差示扫描量热法和傅里叶变换红外光谱法评估1,5,1,1,3,3-五氟丙烷气体环境中UV树脂的固化过程
- 作者：Yohei Sawada;Yuichi Haruyama;Kazuhiro Kanda;Shinji Matsui;Makoto Okada;Hiroto Miyake;Takeshi Ohsaki;Yoshihiko Hirai;Hiroshi Hiroshima
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
3.Soft patterning on cylindrical surface of plastic optical fiber

机译：塑料光纤圆柱表面的软图案
- 作者：Harutaka Mekaru;Hideki Takagi;Akihiro Ohtomo;Mitsunori Kokubo;Hiroshi Goto
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
4.Suitability of thin poly(dimethylsiloxane) as an antisticking layer for UV nanoimprinting

机译：薄的聚二甲基硅氧烷作为防粘层用于紫外线纳米压印的适用性
- 作者：Makoto Okada;Yuichi Haruyama;Kazuhiro Kanda;Shinji Matsui
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
5.Atomic step patterning in nanoimprint lithography: Molecular dynamics study

机译：纳米压印光刻中的原子台阶图案化：分子动力学研究
- 作者：Kazuhiro Tada;Masaaki Yasuda;Geng Tan;Yumiko Miyake;Hiroaki Kawata;Mamoru Yoshimoto;Yoshihiko Hirai
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
6.Liquid transfer imprint lithography: A new route to residual layer thickness control

机译：液体转移压印光刻：控制残留层厚度的新途径
- 作者：Namil Koo;Jung Wuk Kim;Martin Otto;Christian Moormann;Heinrich Kurz
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
7.Mechanical characterization of a piezo-operated thermal imprint system

机译：压电操作热压印系统的机械特性
- 作者：Andre Mayer;Sakia Moellenbeck;Khalid Dhima;Si Wang;Hella-Christin Scheer
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
8.Characterization of pentafluoropropane dissolved UV-nanoimprint resin

机译：五氟丙烷溶解的UV-纳米压印树脂的表征
- 作者：Mika Chinen;Yohei Sawada;Yuichi Haruyama;Shinji Matsui;Makoto Okada;Hiroshi Hiroshima
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
9.Charging effects during focused electron beam induced deposition of silicon oxide

机译：聚焦电子束诱导的氧化硅沉积过程中的充电效应
- 作者：Sanne K. de Boer;Willem F. van Dorp;Jeff Th. M. De Hosson
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
10.Scanning proximal probe lithography for sub-10 nm resolution on calix[4]resorcinarene

机译：在杯[4]间苯二芳烃上扫描近端探针光刻，获得低于10 nm的分辨率
- 作者：Marcus Kaestner;Ivo W. Rangelow
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
11.Multitip atomic force microscope lithography system for high throughput nanopatterning

机译：用于高通量纳米图案化的多尖端原子力显微镜光刻系统
- 作者：Young Oh;Chulmin Choi;Kunbae Noh;Diana Villwock;Sungho Jin;Gwangmin Kwon;Haiwon Lee
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
12.Lithography-patterning-fidelity-aware electron-optical system design optimization

机译：光刻图案保真度感知电子光学系统设计优化
- 作者：Sheng-Yung Chen;Hoi-Tou Ng;Shiau-Yi Ma;Hsing-Hong Chen;Chun-Hung Liu;Kuen-Yu Tsai
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
13.Investigation of graphene piezoresistors for use as strain gauge sensors

机译：用作应变片传感器的石墨烯压敏电阻的研究
- 作者：Xing Chen;Xiaohu Zheng;Ji-Kwan Kim;Xinxin Li;Dong-Weon Lee
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
14.Quality factor enhancement on nanomechanical resonators utilizing stiction phenomena

机译：利用粘滞现象提高纳米机械谐振器的品质因数
- 作者：Hiroki Ashiba;Reo Kometani;Shinichi Warisawa;Sunao Ishihara
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
15.MEMS process compatibility of multiwall carbon nanotubes

机译：多壁碳纳米管的MEMS工艺兼容性
- 作者：Eugene H. Cook;David J. D. Carter
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
16.Comparison between ZEP and PMMA resists for nanoscale electron beam lithography experimentally and by numerical modeling

机译：ZEP和PMMA抗蚀剂在纳米级电子束光刻实验和数值模拟中的比较
- 作者：Kirill Koshelev;Mohammad Ali Mohammad;Taras Fito;Kenneth L. Westra;Steven K. Dew;Maria Stepanova
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
17.Comparison of hydrogen silsesquioxane development methods for sub-10 nm electron beam lithography using accurate linewidth inspection

机译：使用精确线宽检测比较亚硅倍半氧烷用于10纳米以下电子束光刻的显影方法
- 作者：D. S. Macintyre;S. Thorns
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
18.Secondary-electron signal level measurements of self-assembled monolayers for spatial-phase-locked electron-beam lithography

机译：用于空间锁相电子束光刻的自组装单分子层的二次电子信号能级测量
- 作者：Lin Lee Cheong;Jose M. Lobez;Euclid E. Moon;Jeffrey T. Hastings;Henry I. Smith
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
19.Experimental evaluation method of point spread functions used for proximity effects correction in electron beam lithography

机译：用于电子束光刻中的邻近效应校正的点扩展函数的实验评估方法
- 作者：Bengt A. Nilsson
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
20.Density multiplication of nanostructures fabricated by ultralow voltage electron beam lithography using PMMA as positive- and negative-tone resist

机译：使用PMMA作为正负抗蚀剂的超低压电子束光刻制造的纳米结构的密度倍增
- 作者：Adegboyega P. Adeyenuwo;Maria Stepanova;Steven K. Dew
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
21.Three-dimensional proximity effect correction for large-scale uniform patterns

机译：大规模均匀图案的三维邻近效应校正
- 作者：Q. Dai;S.-Y. Lee;S.-H. Lee;B.-G. Kim;H.-K. Cho
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
22.Model based hybrid proximity effect correction scheme combining dose modulation and shape adjustments

机译：基于模型的混合邻近效应校正方案，结合了剂量调制和形状调整
- 作者：Thomas Klimpel;Martin Schulz;Rainer Zimmermann;Hans-Juergen Stock;Alex Zepka
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
23.Electron bombardment of films used for reducing spurious charge in electrostatic electron optics

机译：电子轰击用于减少静电电子光学器件中杂散电荷的薄膜
- 作者：Juan R. Maldonado;Fabian Pease;Charles J. Hitzman;Alan D. Brodie;Paul Petric;Chris Bevis;Mark McCord;William M. Tong;Francoise Kidwingira;Piero Pianetta;Matt Bibee;Apurva Mehta;Ritwik Bhatia
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
24.Actinic characterization of extreme ultraviolet bump-type phase defects

机译：极端紫外凸点型相缺陷的光化特性
- 作者：Kenneth A. Goldberg;lacopo Mochi
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
25.Imaging of extreme-ultraviolet mask patterns using coherent extreme-ultraviolet scatterometry microscope based on coherent diffraction imaging

机译：基于相干衍射成像的相干极紫外散射显微镜对极紫外掩模图案的成像
- 作者：Tetsuo Harada;Masato Nakasuji;Teruhiko Kimura;Takeo Watanabe;Hiroo Kinoshita;Yutaka Nagata
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
26.Light trapping in plasmonic nanocavities on metal surfaces

机译：金属表面等离子纳米腔中的光捕获
- 作者：Aleksandr Polyakov;Howard A. Padmore;Xiaogan Liang;Scott Dhuey;Bruce Harteneck;James P. Schuck;Stefano Cabrini
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
27.Large area 3D helical photonic crystals

机译：大面积3D螺旋光子晶体
- 作者：A. K. Raub;S. R. J. Brueck
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
28.Coexistence of guided mode resonance and extraordinary optical transmission in metal/dielectric/metal photonic crystal slab

机译：金属/电介质/金属光子晶体平板中导模共振和非凡光学传输的共存
- 作者：Neil Ou;Jia-Hong Shyu;Huang-Ming Lee;Jong-Ching Wu
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
29.Nanofabrication of photonic crystal-based devices using electron beam spot lithography

机译：使用电子束点刻蚀技术的光子晶体基器件的纳米加工
- 作者：A. S. Jugessur;M. Yagnyukova;J. S. Aitchison
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
30.Twelve nanometer half-pitch W-Cr-HSQ trilayer process for soft x-ray tungsten zone plates

机译：十二纳米半间距W-Cr-HSQ三层工艺，用于软X射线钨制区板
- 作者：Julia Reinspach;Fredrik Uhlen;Hans M. Hertz;Anders Holmberg
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
31.New diamond nanofabrication process for hard x-ray zone plates

机译：硬X射线波带片的新金刚石纳米加工工艺
- 作者：Fredrik Uhlen;Sandra Lindqvist;Daniel Nilsson;Julia Reinspach;Ulrich Vogt;Hans M. Hertz;Anders Holmberg;Ray Barrett
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
32.Selective graphene growth from DLC thin film patterned by focused-ion-beam chemical vapor deposition

机译：通过聚焦离子束化学气相沉积从DLC薄膜中选择性生长石墨烯
- 作者：Taiki Hatakeyama;Reo Kometani;Shinichi Warisawa;Sunao Ishihara
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
33.Pulsed helium ion beam induced deposition: A means to high growth rates

机译：脉冲氦离子束诱导沉积：一种高增长率的手段
- 作者：Paul F. A. Alkemade;Hozanna Miro;Emile van Veldhoven;Diederik J. Maas;Daryl A. Smith;Philip D. Rack
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
34.Technology platform for the fabrication of titanium nanostructures

机译：钛纳米结构制造技术平台
- 作者：Serge Ecoffey;Marc Guilmain;Jean-Francois Morissette;Frederic Bourque;Jeremy Pont;Bruno Lee Sang;Dominique Drouin
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
35.Nanofabrication down to 10 nm on a plastic substrate

机译：在塑料基材上进行纳米加工，可低至10 nm
- 作者：Li Tao;Jongho Lee;Deji Akinwande
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
36.Fabrication of complex nanostructures of Poly(vinylidenefluoride- trifluoroethylene) by dual step hot-embossing

机译：双步热压印法制备聚偏二氟乙烯-三氟乙烯的复杂纳米结构
- 作者：Juan-juan Wen;Zhen-kui Shen;Zhi-jun Qiu;An-quan Jiang;Ran Liu;Yifang Chen
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
37.Flexible poly(dimethyl siloxane) support layers for the evanescent characterization of near-field lithography systems

机译：柔性聚二甲基硅氧烷支撑层，用于近场光刻系统的瞬态表征
- 作者：Ciaran P. Moore;Richard J. Blaikie
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
38.Fast aerial image simulations using one basis mask pattern for optical proximity correction

机译：使用基础掩膜图案进行光学接近度校正的快速航空影像仿真
- 作者：Shiyuan Liu;Xiaofei Wu;Wei Liu;Chuanwei Zhang
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
39.Computational lithography: Exhausting the resolution limits of 193-nm projection lithography systems

机译：计算光刻：耗尽193 nm投影光刻系统的分辨率极限
- 作者：David O. S. Melville;Alan E. Rosenbluth;Andreas Waechter;Marc Millstone;Jaione Tirapu-Azpiroz;Kenan Tian;Kafai Lai;Tadanobu Inoue;Masaharu Sakamoto;Kostas Adam;Alexander Tritchkov
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
40.In situ study of hydrogen silsesquioxane dissolution rate in salty and electrochemical developers

机译：盐和电化学显影液中氢倍半硅氧烷溶解速率的原位研究
- 作者：Katherine J. Harry;Sebastian Strobel;Joel K. W. Yang;Huigao Duan;Karl K. Berggren
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
41.Improved time dependent performance of hydrogen silsesquioxane resist using a spin on top coat

机译：使用旋涂面漆改善了氢倍半硅氧烷氢抗蚀剂的时间依赖性性能
- 作者：Daron A. Westly;Donald M. Tennant;Yukinori Aida;Hirofumi Ohki;Takashi Ohkubo
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2011年第6期
42.Infinite etch selectivity and line edge roughness variation during etching of silicon oxynitride with an extreme ultraviolet resist pattern in dual-frequency CH2F2/H2/Ar capacitively coupled plasmas

机译：在双频CH2F2 / H2 / Ar电容耦合等离子体中蚀刻具有极端紫外线抗蚀剂图案的氮氧化硅期间的无限蚀刻选择性和线边缘粗糙度变化
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
43.Four beams surface plasmon interference nanoscale lithography for patterning of two-dimensional periodic features

机译：用于二维周期性特征图案化的四束表面等离激元干涉纳米光刻
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
44.Ultrahigh selective etching of Si3N4 films over SiO2 films for silicon nitride gate spacer etching

机译：SiO2膜上的Si3N4膜的超高选择性刻蚀，用于氮化硅栅隔离层刻蚀
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
45.Room-temperature capillary-imprint lithography for making micro-anostructures in large areas

机译：室温毛细管压印光刻技术，用于大面积制造微/纳米结构
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
46.Stenciled conducting bismuth nanowires

机译：模压导电铋纳米线
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
47.Improvement of Ohmic contacts to In0.65Ga0.35Sb using Mo refractory metal and surface preparation for 6.3 Å heterojunction bipolar transistors

机译：使用Mo难熔金属改善In0.65Ga0.35Sb的欧姆接触并为6.3异质结双极晶体管进行表面处理
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
48.Integration, gap formation, and sharpening of III-V heterostructure nanowires by selective etching

机译：通过选择性蚀刻对III-V异质结构纳米线进行集成，形成间隙并使其锐化
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
49.Effect of neutron irradiation on electrical and optical properties of InGaN/GaN light-emitting diodes

机译：中子辐照对InGaN / GaN发光二极管电学和光学性能的影响
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
50.Step-width adjustment in fabrication of staircase structures

机译：楼梯结构制造中的步宽调整
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
51.Graphoepitaxy of block copolymers using selectively removable templates

机译：使用选择性可去除模板的嵌段共聚物的石墨外延
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
52.Effect of process related and haze defects on 193 nm immersion lithography

机译：工艺相关和雾度缺陷对193 nm浸没式光刻的影响
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
53.Advanced in situ pre-Ni silicide (Siconi) cleaning at 65 nm to resolve defects in NiSix modules

机译：先进的原位硅化镍前硅（Siconi）在65 nm处清洁，以解决NiSix模块中的缺陷
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
54.Optimization of layer structure supporting long range surface plasmons for surface plasmon-enhanced fluorescence spectroscopy biosensors

机译：用于表面等离子体增强荧光光谱生物传感器的支持远程表面等离子体的层结构的优化
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
55.Analysis and metrology with a focused helium ion beam

机译：聚焦氦离子束的分析和计量
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
56.Sub-200 nm gap electrodes by soft UV nanoimprint lithography using polydimethylsiloxane mold without external pressure

机译：使用聚二甲基硅氧烷模具通过软紫外纳米压印光刻技术在200纳米以下的间隙电极而无需外部压力
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
57.Making high-fidelity imprint template by resist patterns over a flexible conductive polymer substrate

机译：通过在柔性导电聚合物基板上的抗蚀剂图案制作高保真压印模板
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
58.Spin-coatable HfO2 resist for optical and electron beam lithographies

机译：可旋涂的HfO2抗蚀剂，用于光学和电子束光刻
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
59.Roller-reversal imprint process for preparation of large-area microstructures

机译：辊反转压印工艺制备大面积微结构
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures》 | 2010年第1期
60.Magnetic soft x-ray imaging of vortex core dynamics

机译：涡旋核动力学的磁性软X射线成像
- 作者：Brooke L. Mesler;Kristen Buchanan;Mi-Young Im;Erik Anderson;Peter Fischer
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
61.Scratch properties of nickel thin films using atomic force microscopy

机译：原子力显微镜对镍薄膜的划痕性能
- 作者：Ampere A. Tseng;Jun-ichi Shirakashi;Shyankay Jou;Jen-Ching Huang;T. P. Chen
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
62.Simulation of p-n junctions: Present and future challenges for technologies beyond 32 nm

机译：p-n结的仿真：32 nm以上技术的当前和未来挑战
- 作者：Lourdes Pelaz;Luis A. Marques;Maria Aboy;Ivan Santos;Pedro Lopez;Ray Duffy
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
63.Nondestructive extraction of junction depths of active doping profiles from photomodulated optical reflectance offset curves

机译：从光调制光反射率偏移曲线无损提取有源掺杂轮廓的结深
- 作者：Janusz Bogdanowicz;Fabian Dortu;Trudo Clarysse;Wilfried Vandervorst;Erik Rosseel;Ngoc Duy Nguyen;Derrick Shaughnessy;Alex Salnik;Lena Nicolaides
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
64.Photoreflectance characterization of ultrashallow junction activation in millisecond annealing

机译：毫秒退火中超浅结激活的光反射特性
- 作者：Will Chism;Michael Current;Victor Vartanian
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
65.Sensitivity study of micro four-point probe measurements on small samples

机译：微量四点探针测量小样品的敏感性研究
- 作者：Fei Wang;Dirch H. Petersen;Torben M. Hansen;Toke R. Henriksen;Peter Boggild;Ole Hansen
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
66.Electrical characterization of InGaAs ultra-shallow junctions

机译：InGaAs超浅结的电学表征
- 作者：Dirch H. Petersen;Ole Hansen;Peter Boggild;Rong Lin;Peter F. Nielsen;Dennis Lin;Christoph Adelmann;Alireza Alian;Clement Merckling;Julien Penaud;Guy Brammertz;Jozefien Goossens;Wilfried Vandervorst;Trudo Clarysse
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
67.Advanced secondary ion mass spectroscopy quantification in the first few nanometer of B, P, and As ultrashallow implants

机译：B，P和As超浅注入的前几纳米中的高级二次离子质谱定量
- 作者：A. Merkulov;P. Peres;S. Choi;F. Horreard;H.-U. Ehrke;N. Loibl;M. Schuhmacher
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
68.High resolution medium energy ion scattering analysis for the quantitative depth profiling of ultrathin high-k layers

机译：高分辨率中能离子散射分析，用于超薄高k层的定量深度分析
- 作者：M. A. Reading;J. A. van den Berg;P. C. Zalm;D. G. Armour;P. Bailey;T. C. Q. Noakes;A. Parisini;T. Conard;S. De Gendt
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
69.Ultralow energy boron implants in silicon characterization by nonoxidizing secondary ion mass spectrometry analysis and soft x-ray grazing incidence x-ray fluorescence techniques

机译：超低能硼注入剂通过非氧化二次离子质谱分析和软X射线掠入射X射线荧光技术表征硅
- 作者：Damiano Giubertoni;Erica lacob;P. Hoenicke;B. Beckhoff;Giancarlo Pepponi;Salvatore Gennaro;Massimo Bersani
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
70.Plasma doping two-dimensional characterization using low energy x-ray emission spectroscopy and full wafer secondary ion mass spectrometry/angle-resolved x-ray electron spectroscopy techniques

机译：使用低能X射线发射光谱和全晶片二次离子质谱/角分辨X射线电子光谱技术进行等离子体掺杂二维表征
- 作者：Shu Qin;Wendy Morinville;Kent Zhuang;Francois Fabreguette;Allen McTeer;Y. Jeff Hu;Shifeng Lu
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
71.Electron holography for analysis of deep submicron devices: Present status and challenges

机译：用于深亚微米设备分析的电子全息术：现状和挑战
- 作者：Nobuyuki Ikarashi;Akio Toda;Kazuya Uejima;Koichi Yako;Toyoji Yamamoto;Masami Hane;Hiroshi Sato
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
72.Integration, gap formation, and sharpening of III-V heterostructure nanowires by selective etching

机译：通过选择性蚀刻对III-V异质结构纳米线进行集成，形成间隙并使其锐化
- 作者：Christian Kallesoe;Kristian Molhave;Kasper F. Larsen;Daniel Engstrom;Torben M. Hansen;Peter Boggild;Thomas Martensson;Magnus Borgstroem;Lars Samuelson
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
73.Step-width adjustment in fabrication of staircase structures

机译：楼梯结构制造中的步宽调整
- 作者：P. Li;S.-Y. Lee;S. C. Jeon;J. S. Kim;K. N. Kim;M. S. Hyun;J. J. Yoo;J. W. Kim
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
74.Fully automated hot embossing processes utilizing high resolution working stamps

机译：利用高分辨率工作印章的全自动热压印工艺
- 作者：T. Glinsner;T. Veres;G. Kreindl;E. Roy;K. Morton;T. Wieser;C. Thanner;D. Treiblmayr;R. Miller;P. Lindner
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
75.Graphoepitaxy of block copolymers using selectively removable templates

机译：使用选择性可去除模板的嵌段共聚物的石墨外延
- 作者：F. Ilievski;C. A. Ross
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
76.Advanced in situ pre-Ni silicide (Siconi) cleaning at 65 nm to resolve defects in NiSi_x modules

机译：先进的原位硅化镍前硅（Siconi）在65 nm处清洁，以解决NiSi_x模块中的缺陷
- 作者：Ruipeng Yang;Na Su;Paolo Bonfanti;Jiaxiang Nie;Jay Ning;Tomi T. Li
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
77.Optimization of layer structure supporting long range surface plasmons for surface plasmon-enhanced fluorescence spectroscopy biosensors

机译：用于表面等离子体增强荧光光谱生物传感器的支持远程表面等离子体的层结构的优化
- 作者：Chun Jen Huang;Jakub Dostalek;Wolfgang Knoll
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
78.Analysis and metrology with a focused helium ion beam

机译：聚焦氦离子束的分析和计量
- 作者：Sybren Sijbrandij;John Notte;Larry Scipioni;Chuong Huynh;Colin Sanford
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
79.Microstructures and magnetic properties of amorphous Tb_xCo_(1-x) films deposited by facing target magnetron-sputtering system with divergent magnetic field

机译：面对目标磁控溅射系统发散磁场沉积的非晶Tb_xCo_（1-x）薄膜的微观结构和磁性
- 作者：Taewan Kim;Hyun-Yong Lee;Kyungil Lee;Jae Youn Hwang
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
80.Infinite etch selectivity and line edge roughness variation during etching of silicon oxynitride with an extreme ultraviolet resist pattern in dual-frequency CH_2F_2/H_2/Ar capacitively coupled plasmas

机译：在双频CH_2F_2 / H_2 / Ar电容耦合等离子体中蚀刻具有极端紫外线抗蚀剂图案的氮氧化硅期间的无限蚀刻选择性和线边缘粗糙度变化
- 作者：B. S. Kwon;J. S. Kim;N.-E. Lee;S. K. Lee
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
81.Four beams surface pIasmon interference nanoscale lithography for patterning of two-dimensional periodic features

机译：用于二维周期性特征图案化的四束表面等离子干涉纳米级光刻
- 作者：K. V. Sreekanth;V. M. Murukeshan
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
82.Ultrahigh selective etching of Si_3N_4 films over SiO_2 films for silicon nitride gate spacer etching

机译：SiO_2膜上的Si_3N_4膜的超高选择性刻蚀，用于氮化硅栅隔离层刻蚀
- 作者：Sunghoon Lee;Jinho Oh;Kyumin Lee;Hyunchul Sohn
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
83.Characterization and analysis of silicon on insulator fabricated by separation by implanted oxygen layer transfer

机译：通过注入氧层转移分离制造的绝缘体上硅的特性和分析
- 作者：Xing Wei;Aimin Wu;Xiang Wang;Xianyuan Li;Fei Ye;Jie Chen;Meng Chen;Bo Zhang;Chenglu Li;Miao Zhang;Xi Wang
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
84.Stenciled conducting bismuth nanowires

机译：模压导电铋纳米线
- 作者：Veronica Savu;Sam Neuser;Guillermo Villanueva;Oscar Vazquez-Mena;Katrin Sidler;Juergen Brugger
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
85.Fabrication of large area ultrathin silicon membrane: Application for high efficiency extreme ultraviolet diffraction gratings

机译：大面积超薄硅膜的制备：在高效极紫外衍射光栅中的应用
- 作者：C. Constancias;B. Dalzotto;P. Michallon;J. Wallace;M. Saib
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
86.Dopant measurements in semiconductors with atom probe tomography

机译：原子探针层析成像技术测量半导体中的掺杂剂
- 作者：P. A. Ronsheim;M. Hatzistergos;S. Jin
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
87.Effect of n-and p-type dopants on patterned amorphous regrowth

机译：n型和p型掺杂剂对图案化非晶生长的影响
- 作者：S. Morarka;N. G. Rudawski;M. E. Law;K. S.Jones;R. G. Elliman
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
88.Detailed simulation study of embedded SiGe and Si:C source/drain stressors in nanoscaled silicon on insulator metal oxide semiconductor field effect transistors

机译：在绝缘体金属氧化物半导体场效应晶体管上的纳米级硅中嵌入式SiGe和Si：C源/漏应力源的详细仿真研究
- 作者：Stefan Flachowsky;Ralf Illgen;Tom Herrmann;Wilfried Klix;Roland Stenzel;Ina Ostermay;Andreas Naumann;Andy Wei;Jan Hoentschel;Manfred Horstmann
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
89.Kinetic lattice Monte Carlo simulations of interdiffusion in strained silicon germanium alloys

机译：应变硅锗合金相互扩散的动力学晶格蒙特卡洛模拟
- 作者：Renyu Chen;Scott T. Dunham
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
90.Exploring doping options and variability of trigate transistors using atomistic process and device simulations

机译：使用原子过程和器件仿真探索三栅极晶体管的掺杂选项和可变性
- 作者：Ignacio Martin-Bragado;Victor Moroz;Munkang Choi
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
91.Experimental studies of dose retention and activation in fin field-effect-transistor-based structures

机译：基于鳍场效应晶体管的结构中剂量保持和激活的实验研究
- 作者：Jay Mody;Ray Duffy;Pierre Eyben;Jozefien Goossens;Alain Moussa;Wouter Polspoel;Bart Berghmans;M. J. H. van Dal;B. J. Pawlak;M. Kaiser;R. G. R. Weemaes;Wilfried Vandervorst
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
92.Interaction of NiSi with dopants for metallic source/drain applications

机译：NiSi与掺杂剂的相互作用，用于金属源极/漏极应用
- 作者：Jun Luo;Zhi-Jun Qiu;Zhen Zhang;Mikael OEstling;Shi-Li Zhang
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
93.Effect of source/drain-extension dopant species on device performance of embedded SiGe strained p-metal oxide semiconductor field effect transistors using millisecond annealing

机译：源极/漏极扩展掺杂剂种类对毫秒退火对嵌入式SiGe应变p-金属氧化物半导体场效应晶体管器件性能的影响
- 作者：Ralf Illgen;Stefan Flachowsky;Tom Herrmann;Wilfried Klix;Roland Stenzel;Thomas Feudel;Jan Hoentschel;Manfred Horstmann
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
94.Interdependence of optimum exposure dose regimes and the kinetics of resist dissolution for electron beam nanolithography of polymethylmethacrylate

机译：聚甲基丙烯酸甲酯的电子束纳米光刻最佳曝光剂量方案与抗蚀剂溶解动力学的相互关系
- 作者：M. A. Mohammad;T. Fito;J. Chen;M. Aktary;M. Stepanova;S. K. Dew
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
95.Metastable structure and magnetism of Cr-doped AlN in AlN/TiN multilayers

机译：AlN / TiN多层膜中Cr掺杂AlN的亚稳态结构和磁性
- 作者：F. Zeng;B. Fan;Y. C. Yang;P. Y. Yang;J. T. Luo;C. Chen;F. Pan;W. S. Yan
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
96.Direct thermal-UV nanoimprint of an iron-containing organometallic hybrid film

机译：含铁有机金属杂化膜的直接热紫外纳米压印
- 作者：Huilan Han;Abhinav Bhushan;Frank Yaghmaie;Cristina E. Davis
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
97.Sub-200 nm gap electrodes by soft UV nanoimprint lithography using polydimethylsiloxane mold without external pressure

机译：使用聚二甲基硅氧烷模具通过软紫外纳米压印光刻技术在200纳米以下的间隙电极而无需外部压力
- 作者：F. Hamouda;G. Barbillon;F. Gaucher;B. Bartenlian
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
98.Making high-fidelity imprint template by resist patterns over a flexible conductive polymer substrate

机译：通过在柔性导电聚合物基板上的抗蚀剂图案制作高保真压印模板
- 作者：Xiangdong Ye;Yucheng Ding;Yugang Duan;Hongzhong Liu;Jinyou Shao
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
99.Spin-coatable HfO_2 resist for optical and electron beam lithographies

机译：可旋涂的HfO_2抗蚀剂，用于光学和电子束光刻
- 作者：M. S. M. Saifullah;M. Z. R. Khan;David G. Hasko;Eunice S. P. Leong;Xue L. Neo;Eunice T. L. Goh;David Anderson;Geraint A. C. Jones;Mark E. Welland
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期
100.640×480 pixel active-matrix Spindt-type field emitter array image sensor with high-gain avalanche rushing amorphous photoconductor target

机译：高增益雪崩冲非晶光电导体靶的640×480像素有源矩阵Spindt型场致发射器阵列图像传感器
- 作者：M. Nanba;Y. Takiguchi;Y. Honda;Y. Hirano;T. Watabe;N. Egami;K. Miya;K. Nakamura;M. Taniguchi;S. Itoh;A. Kobayashi
- 期刊名称：《Journal of Vacuum Science & Technology》 | 2010年第1期

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