University of Delaware.$bDepartment of Electrical and Computer Engineering.;
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:下一代光刻技术的先进相移掩模的掩模形貌效应的基础研究
机译:相移掩模设计的广义逆光刻方法
机译:基于线路搜索的掩模设计的逆光刻技术
机译:高度对准的聚合物纳米线蚀刻掩模光刻可实现石墨烯纳米孔晶体管的整合
机译:利用单一计算光刻框架优化从设计规则,源和掩模到全芯片:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)
机译:Ionenstrahllithographie:Entwicklung Eines 1:1 proximity projektionsverfahrens auf der Basis von Channeling-masken(离子束光刻:开发基于通道掩模的1:1接近投影方法)