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目录
1 绪论
1.1 课题概述
1.2 掩模优化方法发展趋势及研究现状
1.3 论文主要研究工作
2 光刻掩模优化问题描述与掩模质量评价标准
2.1 引言
2.2 光刻掩模优化问题描述
2.3 光刻掩模成像质量评价标准
2.4 光刻掩模可制造性评价标准
2.5 掩模成像质量评价标准计算准确度测试
2.6 本章小结
3 光刻掩模可制造性增强方法
3.1 引言
3.2 光刻系统模型及其快速计算方法
3.3 掩模滤波基本原理与掩模滤波器设计
3.4 基于滤波的掩模优化流程
3.5 掩模滤波器仿真分析
3.6 基于滤波的掩模优化结果仿真分析
3.7 本章小结
4 光刻掩模鲁棒优化方法
4.1 引言
4.2 包含工艺参数的光刻系统模型
4.3 基于统计的鲁棒掩模优化模型
4.4 基于统计的鲁棒掩模优化流程
4.5 鲁棒的掩模优化结果仿真分析
4.6 本章小结
5 光刻掩模优化快速计算方法
5.1 引言
5.2 掩模优化方向及迭代步长计算方法
5.3 基于瀑布式多重网格算法的掩模优化流程
5.4 光刻掩模优化快速计算方法仿真分析
5.5 本章小结
6 总结与展望
6.1 全文总结
6.2 研究展望
参考文献
致谢
附录1 攻读博士学位期间发表的期刊论文目录
附录2 攻读博士学位期间申请的国家发明专利
附录3 攻读博士学位期间参会经历和所获奖励