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检验相移光掩模的相移角的方法、光刻工艺与相移光掩模

摘要

一种检验相移式光掩模的相移角的方法。首先,取得一类型的相移式光掩模的相移角对应一工艺能力特征值的校正曲线。接着,将待检验的该类型相移式光掩模的图案转移至一光致抗蚀剂层上以形成光致抗蚀剂图案,并测量上述工艺能力特征值。然后依照上述校正曲线,由该工艺能力特征值推得该相移式光掩模的实际相移角,以供检验。

著录项

  • 公开/公告号CN1892418B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联华电子股份有限公司;

    申请/专利号CN200510082062.2

  • 发明设计人 郑永丰;周岳霖;林金隆;

    申请日2005-07-01

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陶凤波

  • 地址 中国台湾新竹科学工业园区

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-06-09

    授权

    授权

  • 2007-03-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-01-10

    公开

    公开

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