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机译:使用偏振光的交替相移掩模的适用性
Karsten Bubke; Martin Sczyrba; Christophe Pierrat;
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:通过使用具有特定相位宽度的交替相移掩模标记进行彗星测量
机译:使用相移掩模在高数值孔径光刻中表征偏振照明。
机译:通过用二元相透镜聚焦径向偏振光来产生次衍射纵向偏振光斑
机译:半色调相移掩模坯料具有高低折射率的相移膜,交替层叠以调节光的相移和透射率
机译:如何通过交替相移掩模的不同相的透明特征来平衡透射光,以进行光刻
机译:用于操作微光刻投影照明系统的方法,涉及用投影光照射交替的相移掩模,该投影光具有具有相干参数的近似相干的照明角度分布
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