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制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法

     
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摘要

介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原理和实验系统设计.提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方便制作高分辨力、长尺寸光纤光栅,无论是周期光栅,还是非周期光栅.

著录项

  • 来源
    《光电工程》|2003年第1期|5-7|共3页
  • 作者

    冯伯儒; 张锦; 宗德蓉; 蒋世磊;

  • 作者单位

    中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

    中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

    四川大学物理系,四川,成都,610064;

    中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

    中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 波导光学与集成光学;
  • 关键词

    相移掩模; 双曝光技术; 光纤光栅; 干涉光刻;

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