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冯伯儒; 张锦; 宗德蓉; 蒋世磊;
中国宇航学会;
相移掩模; 干涉曝光; 光纤光栅;
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:用于制造任意抛光光纤光栅的两步扫描掩模曝光方法
机译:光刻掩模的两种新设计方法:相移散射棒和隔行相移掩模
机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:飞秒激光制造的长周期光纤光栅折射率变化的建模与表征的数值方法
机译:移动光纤/相位掩模扫描光束技术,用于写入具有均匀相位掩模的任意轮廓光纤光栅
机译:利用新型适形X射线掩模技术制作平行准一维线材
机译:制造相移掩模空白的方法,制造相移掩模,相移空白和相移掩模的方法以简单地制造具有所需成分和所需质量的低缺陷相移层的简单相移掩模空白
机译:相移掩模坯料,相移掩模,曝光方法,器件制造方法,相移掩模遮光器制造方法,以及相移掩模制造方法
机译:相移掩模坯料的制造方法,相移掩模坯料的制造方法,相移掩模坯料和相移掩模
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