位相シフトマスクを利用した立体サンプルの露光法

摘要

リソグラフィ加工をMEMSデバイスのような平面とはみなせない立体サンプルにも可能にする三次元リソグラフィ技術が求められてきた。平面リソグラフィではスピンコート法によってレジスト薄膜を用意する。立体サンプル上では，レジスト剤の粘性力はスピンコートの遠心力と向きが異なりバランスしないため均一な膜が得られない。一般にレジスト膜厚よりも深い凹凸があると，溜まりや段切れが生じる。この問題を解決するため，レジスト溶液を霧状に塗布して均一な薄膜を用意するスプレーコーティング技術の開発が進められており，ある程度可能になりつつある。