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Conference on photomask technology
Conference on photomask technology
召开年:
2012
召开地:
Monterey, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Particle Transport in Plasma Systems for Development of EUVL Mask Blanks
机译:
等离子系统中用于EUVL掩模坯料开发的颗粒传输
作者:
Peter Stoltz
;
Alex Likhanskii
;
Chuandong Zhou
;
Vibhu Jindal
;
Pat Kearney
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Defect transport;
plasma;
modeling;
simulation;
2.
Photomask Etch: Addressing the Resist Challenges for Advanced Phase-shift and Binary Photomasks
机译:
光掩模蚀刻:应对高级相移和二进制光掩模的抵抗挑战
作者:
Michael Grimbergen
;
Madhavi Chandrachood
;
Keven Yu
;
Toi Yue Becky Leung
;
Amitabh Sabharwal
;
Ajay Kumar
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
photomask;
mask etch;
endpoint;
binary;
phase-shift;
photoresist;
in-situ metrology;
3.
Transform designs to chips, an end user point of view on mask making
机译:
将设计转换为芯片,这是最终用户对掩模制造的看法
作者:
John Y. Chen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Performance;
Precision;
Perfection;
Perf/watt;
OPC;
DFM;
CD;
Alignment;
4.
Photomask Film Degradation Effects in the Wafer Fab - How To Detect And Monitor Over Time
机译:
晶圆厂中的光掩膜降解效果-如何随时间检测和监控
作者:
John Whittey
;
Carl Hess
;
Edgardo Garcia
;
Mark Wagner
;
Brian Duffy
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
CD uniformity;
mask inspection;
CD-SEM;
CD signature;
5.
Dry etching technologies for reflective multilayer
机译:
反射多层干法蚀刻技术
作者:
Yoshinori Iino
;
Makoto Karyu
;
Hirotsugu Ita
;
Yoshihisa Kase
;
Tomoaki Yoshimori
;
Makoto Muto
;
Mikio Nonaka
;
Munenori Iwami
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
etching;
multilayer;
absorber etching;
Extreme Ultra-Violet;
6.
Efficient Boolean and multi-input flow techniques for advanced mask data processing
机译:
高效的布尔和多输入流技术,用于高级遮罩数据处理
作者:
Daniel Salazar
;
Bill Moore
;
John Valadez
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
MDP;
CATS;
MRC;
MRCC;
DRC;
verification;
automation;
mask inspection;
7.
A new approach in dry technology for non-degrading optical and EUV mask cleaning
机译:
一种用于不降解光学和EUV掩模清洗的干法新方法
作者:
Ivin Varghese
;
Ben Smith
;
Mehdi Balooch
;
Chuck Bowers
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
dry damage-free cleaning;
atmospheric dry reactive gas cleaning;
local site specific cleaning;
organic and inorganic particulate and film removal;
zero reaction byproduct adders;
optical and EUV full mask cleaning;
carbon contamination removal;
pellicle glue residue removal;
8.
Effect of radiation exposure on the surface adhesion of Ru-capped MoSi multilayer blanks
机译:
辐射对Ru覆盖的MoSi多层板坯表面附着力的影响
作者:
Goeksel Durkaya
;
Abbas Rastegar
;
Hueseyin Kurtuldu
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUVL;
Defect adhesion;
Radiation damage;
Mask cleaning;
Mask storage;
Megasonic;
Defectivity;
9.
EUVL mask inspection at Hydrogen Lyman Alpha
机译:
氢气Lyman Alpha的EUVL面罩检查
作者:
Thiago S. Jota
;
Tom D. Milster
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
inspection;
Lyman alpha;
EUV;
lithography;
10.
Controlling MegaSonic Performance by Optimizing Cleaning Media's Physical and Gaseous Properties
机译:
通过优化清洁介质的物理和气体特性来控制MegaSonic性能
作者:
Hrishi Shende
;
Sherjang Singh
;
James Baugh
;
Uwe Dietze
;
Peter Dress
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Mask Cleaning;
MegaSonic;
Pattern Damage;
Cavitation;
Sub resolution assist features;
SRAF;
11.
Electron beam inspection of 16nm HP node EUV masks
机译:
16nm HP节点EUV掩模的电子束检查
作者:
Takeya Shimomura
;
Shogo Narukawa
;
Tsukasa Abe
;
Tadahiko Takikawa
;
Naoya Hayashi
;
Fei Wang
;
Long (Eric) Ma
;
Chia-Wen (Steve) Lin
;
Yan Zhao
;
Chiyan Kuan
;
Jack Jau
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
Electron beam inspection;
16nm HP node;
12.
The plasma etching methods for minimizing Mask CD variation by cleaning process
机译:
等离子刻蚀方法,通过清洗工艺可最大程度地减少Mask CD
作者:
Hyun Duck Shin
;
Soo Kyeong Jeong
;
Ho Yong Jung
;
Sang Pyo Kim
;
Dong Gyu Yim
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
passivation;
dry etching;
cleaning;
02 plasma;
CD;
XPS;
13.
Advanced Photomask Fabrication Process to Increase Pattern Reliability for sub-20 nm node
机译:
先进的光掩模制造工艺可提高20纳米以下节点的图案可靠性
作者:
Dong Il Shin
;
Sang Jin Jo
;
Hee Yeon Jang
;
Yun Ki Hong
;
Dae Ho Hwang
;
Chung Seon Choi
;
Dong Sik Jang
;
Ho Yong Jung
;
Tae Joong Ha
;
Sang Pyo Kim
;
Dong Gyu Yim
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
MoSi etch;
Half etch;
Bridge defect control;
Bridge defect repair;
Pattern reliability;
14.
Sub-20-nm Node Photomask Cleaning Enhancement by Controlling Zeta Potential
机译:
通过控制Zeta电位增强20纳米以下节点的光掩模清洁
作者:
Kuan-Wen Lin
;
Chi-Lun Lu
;
Chin-Wei Shen
;
Luke Hsu
;
Angus Chin
;
Anthony Yen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Photomask cleaning;
cleanliness;
zeta potential (ZP);
particle remove efficiency (PRE);
15.
CD uniformity improvement through elimination of hardware influences on Post Exposure Bake
机译:
通过消除硬件对后期曝光烘烤的影响,改善CD的均匀性
作者:
Jong Hoon Lim
;
Sung Ha Woo
;
Eui Sang Park
;
Sang Pyo Kim
;
Dong Gyu Yim
;
Osamu Katada
;
Tobias Wahler
;
Peter Dress
;
Uwe Dietze
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
post exposure bake;
bake latitude;
resist;
multi-zone hotplate;
CD-compensation;
total temperature range;
16.
Study of critical dimension uniformity (CDU) using a mask inspector
机译:
使用遮罩检查器研究临界尺寸均匀性(CDU)
作者:
Mei-Chun Lin
;
Ching-Fang Yu
;
Mei-Tsu Lai
;
Luke T. H. Hsu
;
Angus Chin
;
Anthony Yen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
17.
Preparation of substrates for EUV Blanks using an etch clean process to meet HVM challenges
机译:
使用蚀刻清洁工艺为EUV坯料准备衬底以应对HVM挑战
作者:
Arun JohnKadaksham
;
Ranganath Teki
;
Jenah Harris-Jones
;
C. C. Lin
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV substrate Cleaning;
EUV Defect Reduction;
18.
Impact of EUVL Mask Surface Roughness on an Actinic Blank Inspection Image and a Wafer Image
机译:
EUVL掩模表面粗糙度对光化空白检查图像和晶圆图像的影响
作者:
Takeshi Yamane
;
Tsuneo Terasawa
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUVL;
mask blank;
surface roughness;
phase defect;
wafer impact;
actinic inspection;
19.
Double Patterning for 20nm and Beyond: Design Rules Aware Splitting
机译:
适用于20nm及更高工艺的双图案:可感知设计规则的拆分
作者:
Tamer Desouky
;
David Abercrombie
;
Hojun Kim
;
Soohan Choi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
double patterning;
OPC;
design rules;
lithography;
20.
Proximity effect correction optimizing image quality and writing time for an electron multi-beam mask writer
机译:
邻近效应校正可优化电子多束掩模写入器的图像质量和写入时间
作者:
T. Klimpel
;
J. Klikovits
;
R. Zimmermann
;
M. Schulz
;
A. Zepka
;
H.-J. Stock
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
multi beam mask writer;
proximity effect correction;
image slope;
21.
Impact of EUV photomask line edge roughness on wafer prints
机译:
EUV光掩模线条边缘粗糙度对晶圆印刷的影响
作者:
Zhengqing John Qi
;
Emily Gallagher
;
Yoshiyuki Negishi
;
Gregory McIntyre
;
Amy Zweber
;
Tasuku Senna
;
Satoshi Akutagawa
;
Toshio Konishi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
22.
Reticle and Wafer CD Variation for Different Dummy Pattern
机译:
不同虚拟图案的光罩和晶圆CD变化
作者:
Guoxiang Ning
;
Christian Buergel
;
Paul Ackmann
;
Marc Staples
;
Thomas Thamm
;
Chin Teong Lim
;
Andre Leschok
;
Stefan Roling
;
Anthony Zhou
;
Fang Hong GN
;
Frank Richter
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
dummy pattern;
OPC;
proximity effect;
advanced binary;
23.
The new test pattern selection method for OPC model calibration, based on the process of clustering in a hybrid space
机译:
基于混合空间聚类过程的OPC模型校准的新测试模式选择方法
作者:
Dmitry Vengertsev
;
Kihyun Kim
;
Seung-Hune Yang
;
Seongbo Shim
;
Seongho Moon
;
Artem Shamsuarov
;
Sooryong Lee
;
Seong-Woon Choi
;
Jungdal Choi
;
Ho-Kyu Kang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
optical proximity correction;
test patterns;
model calibration;
manufacturability;
24.
Reticle Storage in Microenvironments with Extreme Clean Dry Air
机译:
微环境中的光罩存储,具有极端清洁的干燥空气
作者:
Astrid Gettel
;
Detlev Glueer
;
Alfred Honold
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Reticle;
haze;
AMC;
humidity;
purge;
microenvironment;
25.
Cold-Development Tool and Technique for the ultimate resolution of ZEP520A to fabricate an EB master mold for Nano-Imprint Lithography for 1Tbit/inch2 BPM development
机译:
用于ZEP520A最终分辨率的冷开发工具和技术,以制造用于1Tbit / inch2 BPM开发的纳米压印光刻的EB主模
作者:
Hideo Kobayashi
;
Hiromasa Iyama
;
Takeshi Kagatsume
;
Tsuyoshi Watanabe
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EB lithography;
ZEP520A;
cold-development;
nano-imprinting lithography;
mold;
26.
Nanoparticle detection limits of TNO's Rapid Nano: modeling and experimental results
机译:
TNO的Rapid Nano的纳米颗粒检测极限:建模和实验结果
作者:
Peter van der Walle
;
Pragati Kumar
;
Dmitry Ityaksov
;
Richard Versluis
;
Diederik J. Maas
;
Olaf Kievit
;
Jochem Janssen
;
Jacques C.J. van der Donck
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
particle inspection;
EUV;
qualification;
detection limit;
modeling;
Rapid Nano;
BRDF;
speckle;
27.
Split-It!: From Litho Etch Litho Etch to Self-Aligned Double Patterning Decomposition
机译:
Split-It !:从光刻版画到自对准双图案分解
作者:
Yasmine A. Badr
;
Amr G. Wassal
;
Sherif A. Hammouda
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Double Patterning (DP);
Self-Aligned Double Patterning (SADP);
Design for Manufacturing (DFM);
decomposition;
mask;
28.
Printing results of proof-of-concept 50keV electron multi-beam mask exposure tool (eMET POC)
机译:
概念验证的50keV电子多束掩模曝光工具(eMET POC)的打印结果
作者:
Elmar Platzgummer
;
Christof Klein
;
Hans Loeschner
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
multi-beam;
mask writing;
template writing;
electron beam projection optics;
aperture plate system;
29.
Study for compensation of unexpected Image Placement error caused by VSB mask writer deflector
机译:
VSB掩模写入器偏转器引起的意外图像放置错误的补偿研究
作者:
Hyun-Joo Lee
;
Min-Kyu Choi
;
Seong-Yong Moon
;
Han-Ku Cho
;
Jonggul Doh
;
Jinho Ahn
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
E-beam lithography;
e-beam mask writer;
VSB;
Registration;
Deflector;
30.
Fiducial Mark requirements from the viewpoints of Actinic Blank Inspection tool for phase defect mitigation on EUVL Mask
机译:
从光化空白检查工具的角度看基准标记对减轻EUVL掩模上的相缺陷的要求
作者:
Tetsunori Murachi
;
Tsuyoshi Amano
;
Sung Hyun Oh
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Extreme ultra-violet lithography;
EUVL mask blanks;
multi-layers;
fiducial mark;
phase defects;
defect mitigation;
EUV actinic blank inspection tool;
defect location accuracy;
31.
Conductive layer for charge dissipation during electron-beam exposures
机译:
导电层,用于电子束曝光期间的电荷消散
作者:
Luisa D. Bozano
;
Ratnam Sooriyakumaran
;
Takayuki Nagasawa
;
Satoshi Watanabe
;
Yoshio Kawai
;
Shinpei Kondo
;
Jun Kotani
;
Masayuki Kagawa
;
Linda K. Sundberg
;
Martha I. Sanchez
;
Elizabeth M. Lofano
;
Charles T. Rettner
;
Tasuku Senna
;
Tom Faure
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Conductive discharge layer;
image placement errors;
E-beam lithography;
chemically amplified resists;
line edge roughness;
32.
RDMS: A Windows and Tablet PC based Reticle Defect Search Database with AHDC for Interconnected Mask and Wafer Fabs
机译:
RDMS:具有AHDC的基于Windows和Tablet PC的光罩缺陷搜索数据库,用于互连的掩模和晶圆厂
作者:
Saghir Munir
;
Gul Qidwai
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
defect database;
search;
overlay;
classification;
inspection;
repair;
management;
tracking;
33.
Choosing the Data Flow Paradigm for EUV Mask Process Corrections
机译:
选择EUV掩模工艺校正的数据流范例
作者:
Christian Buergel
;
Keith Standiford
;
Gek Soon Chua
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV;
proximity effect;
point spread function;
data preparation;
50kV Lithography;
photo mask;
34.
EUVL mask repair: expanding options with nanomachining
机译:
EUVL面膜修复:通过纳米加工扩展选择范围
作者:
Emily Gallagher
;
Greg McIntyre
;
Mark Lawliss
;
Tod Robinson
;
Ron Bozak
;
Roy White
;
Jeff LeClaire
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUVL mask;
repair;
compensation;
AFM;
nanomachining;
defect;
multilayer;
35.
Study of the Durability of the Ru-Capped MoSi Multilayer Surface Under Megasonic Cleaning
机译:
超声清洗Ru包覆的MoSi多层表面的耐久性研究
作者:
Huseyin Kurtuldu
;
Abbas Rastegar
;
Matthew House
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUVL;
Mask cleaning;
Pit formation;
Megasonic characterization;
AFM;
cavitation;
36.
Novel Customized Manufacturable DFM Solutions
机译:
新颖的定制可制造DFM解决方案
作者:
Mark Lu
;
Cong-Shu Zhou
;
Yi Tian
;
Soo-Muay Goh
;
Shyue-Fong Quek
;
Hein-Mun Lam
;
Jian Zhang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Design to silicon;
Layout analysis;
Layout comparison;
Hotspot;
Hotspots management;
PCM design;
Regularity layout;
37.
EUV mask inspection study for sub-20nm device
机译:
20纳米以下设备的EUV掩模检查研究
作者:
Inkyun Shin
;
Gisung Yoon
;
Ji Hoon Na
;
Paul D.H. Chung
;
Chanuk Jeon
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV lithography;
EUVL mask;
Mask Inspection;
Mask Defect;
Defect contrast;
38.
Study of Droplet Spray Impact on a Photomask Surface
机译:
液滴喷雾对光掩模表面的影响研究
作者:
Sherjang Singh
;
Uwe Dietze
;
Peter Dress
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Mask Cleaning;
Binary Spray;
Droplet Based Cleaning;
Pattern Damage;
Sub resolution assist features;
SRAF;
39.
Shape-Dependent Dose Margin Correction using Model-Based Mask Data Preparation
机译:
使用基于模型的蒙版数据准备进行形状相关的剂量裕度校正
作者:
Yasuki Kimura
;
Ryuuji Yamamoto
;
Takao Kubota
;
Kenji Kouno
;
Kazuyuki Hagiwara
;
Shohei Matsushita
;
Daisuke Hara
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
model based;
mask making;
electron beam;
writer;
dose margin;
40.
Comparison of critical dimension measurements of a mask inspection system with a CD-SEM
机译:
使用CD-SEM比较口罩检测系统的关键尺寸测量值
作者:
Jan P. Heumann
;
Albrecht Ullrich
;
Clemens S. Utzny
;
Stefan Meusemann
;
Frank Kromer
;
John M. Whittey
;
Edgardo Garcia
;
Mark Wagner
;
Norbert J. Schmidt
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
CD uniformity;
mask inspection;
CD-SEM;
CD signature;
41.
Process challenges in advanced photomask etch processes
机译:
高级光掩模蚀刻工艺中的工艺挑战
作者:
Chang Ju Choi
;
Karmen Yung
;
Cheng-Hsin Ma
;
Ganesh Vanamu
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Etch;
plasma;
photomask;
lithography;
phase shift mask;
resolution enhancement;
advanced process control;
42.
Computational Defect Review for Wafer-Fab Reticle Requal Part 1 - Mask Plane Inspections
机译:
Wafer-Fab掩模版等于1的计算缺陷检查-掩模平面检查
作者:
Vikram Tolani
;
Grace Dai
;
Suresh Lakkapragada
;
Kechang Wang
;
Peter Hu
;
Lin He
;
Ying Li
;
Danping Peng
;
George Hwa
;
Linyong Pang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
32nm and below;
Computational Review;
Computational Lithography;
Pattern Recovery;
Level-Set Methods;
High Resolution Inspection;
Mask Plane Inspection;
Aerial Plane Inspection;
43.
The E-Beam Resist Test Facility: Performance Testing and Benchmarking of E-Beam Resists for Advanced Mask Writers
机译:
电子束抵抗测试设施:针对高级掩模作家的电子束抵抗性能测试和基准测试
作者:
Matt Malloy
;
Il Yong Jang
;
Mac Mellish
;
Lloyd C. Litt
;
Ananthan Raghunathan
;
John Hartley
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
e-beam;
ebeam;
resist;
mask writing;
multi beam mask writing;
MBMW;
direct write;
EBDW;
DWEB;
44.
OPC and verification for LELE double patterning
机译:
OPC和LELE双重图案验证
作者:
Kellen Arb
;
Chris Reid
;
Qiao Li
;
Evgueni Levine
;
Pradiptya Ghosh
会议名称:
《》
|
2012年
45.
Evaluation of CP shape correction for e-beam writing
机译:
电子束书写CP形状校正的评估
作者:
Masahiro Takizawa
;
Keita Bunya
;
Hideaki Isobe
;
Hideaki Komami
;
Kenji Abe
;
Masaki Kurokawa
;
Akio Yamada
;
Kiichi Sakamoto
;
Takayuki Nakamura
;
Kazusumi Kuwano
;
Masahiro Tateishi
;
Larry Chau
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
character projection (CP);
shape correction;
pattern fidelity;
e-beam writer;
beam blur;
46.
Backside defect printability for contact layer with different reticle blank material
机译:
具有不同标线空白材料的接触层的背面缺陷可印刷性
作者:
Guoxiang Ning
;
Christian Holfeld
;
Daniel Fischer
;
Paul Ackmann
;
Andre Holfeld
;
KarinKurth
;
Martin Sczyrba
;
Tino Hertzsch
;
Rolf Seltmann
;
Angeline Ho
;
Fang Hong GN
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
backside defects;
printability;
blank material;
intra-field;
inter-field;
47.
Status of the AIMS™ EUV Project
机译:
AIMS™EUV项目的状态
作者:
Anthony Garetto
;
Jan Hendrik Peters
;
Sascha Perlitz
;
Ulrich Matejka
;
Dirk Hellweg
;
Markus Weiss
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
AIMS™;
AIMS™ EUV;
mask defects;
defect qualification;
defect analysis;
printability;
48.
The significance of rigorous electromagnetic field simulation on mask development for 20 nm optical lithography technology
机译:
严格的电磁场模拟对20 nm光刻技术的掩模开发的意义
作者:
Fan Jiang
;
Yunfei Deng
;
Jongwook Kye
;
Harry J. Levinson
;
Paul Ackmann
;
Byoung IL Choi
;
Frank Schurack
;
Martin Sczyrba
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Optical lithography;
rigorous electromagnetic calculation;
thick mask effect;
Kirchhoff approach;
49.
Correcting Image Placement Errors Using Registration Control (RegC~®) Technology In The Photomask Periphery
机译:
在光掩模外围设备中使用套准控制(RegC〜®)技术校正图像放置错误
作者:
Avi Cohen
;
Falk Lange
;
Guy Ben-Zvi
;
Erez Graitzer
;
Dmitriev Vladimir
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Image Placement;
Registration;
Wafer Overlay;
Photomask;
Laser;
RegC®;
RegC Wizard;
50.
Reflective electron-beam lithography performance for the 10 nm logic node
机译:
10 nm逻辑节点的反射电子束光刻性能
作者:
Regina Freed
;
Thomas Gubiotti
;
Jeff Sun
;
Anthony Cheung
;
Jason Yang
;
Mark McCord
;
Paul Petric
;
Allen Carroll
;
Upendra Ummethala
;
Layton Hale
;
John Hench
;
Shinichi Kojima
;
Walter Mieher
;
Chris F. Bevis
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
electron beam;
direct write;
lithography;
roadmap;
REBL;
digital pattern generator;
51.
Ebeam based mask repair as door opener for defect free EUV masks
机译:
基于电子束的面罩维修,作为无缺陷EUV面罩的开门器
作者:
M. Waiblinger
;
Tristan Bret
;
R. Jonckheere
;
D. Van den Heuvel
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV;
defect-free reticle;
multilayer defect;
blank defect;
compensation repair;
e-beam repair;
52.
Mask Design Automation: An Integrated Approach
机译:
掩模设计自动化:一种集成方法
作者:
Richard Gladhill
;
Peter Buck
;
Al Wong
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Mask design automation;
mask data preparation;
workflow;
OPC;
MRC;
GDS;
OASIS;
53.
Key issues in Automatic Classification of Defects in post-Inspection Review Process of Photomasks
机译:
光罩检查后审查过程中缺陷自动分类的关键问题
作者:
Mark Pereira
;
Manabendra Maji
;
Ravi R Pai
;
Samir B.V.R.
;
Seshadri R
;
Pradeepkumar Patil
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Mask Inspection;
Defect Review;
Automatic Defect Classification (ADC);
False Defect;
Registration;
CCD (Charge-coupled device);
CD (Critical Dimension);
54.
Impact of mask CDU and local CD variation on intra-field CDU
机译:
掩模CDU和局部CD变化对场内CDU的影响
作者:
Junji Miyazaki
;
Orion Mouraille
;
Jo Finders
;
Masaru Higuchi
;
Yosuke Kojima
;
Shunsuke Sato
;
Hiroaki Morimoto
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Mask CDU;
Local CDU;
Intra-field CDU;
CDU budget;
Dose correction;
55.
Proximity Effect Correction Parameters for Patterning of EUV Reticles with Gaussian Electron Beam Lithography
机译:
高斯电子束光刻对EUV掩模图案的邻近效应校正参数。
作者:
Adam Lyons
;
John Hartley
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Lithography;
EUV mask;
absorber;
electron beam lithography;
AIT;
lift-off;
nickel;
multilayer;
reflectivity;
56.
An enhanced measure of mask quality using separated models
机译:
使用分离的模型增强的口罩质量度量
作者:
Anthony Adamov
;
Bob Pack
;
Kazuyuki Hagiwara
;
Ingo Bork
;
Jin Choi
;
Jisoong Park
;
Byung-Gook Kim
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
photomask;
lithography;
MEEF;
eMEEF;
CD uniformity;
ILT;
57.
Linear Time EUV Blank Defect Mitigation Algorithm Considering Tolerance to Inspection Inaccuracy
机译:
考虑检测误差容忍度的线性时间EUV空白缺陷缓解算法
作者:
Yuelin Du
;
Hongbo Zhang
;
Martin D. F. Wong
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV;
Defect Mitigation;
Absorber Coverage;
Inspection Error Tolerance;
58.
Photomask Quality Evaluation using Lithography Simulation and Precision SEM image contour data
机译:
使用光刻模拟和精密SEM图像轮廓数据评估光掩模质量
作者:
Tsutomu Murakawa
;
Naoki Fukuda
;
Soichi Shida
;
Toshimichi Iwai
;
Jun Matsumoto
;
Takayuki Nakamura
;
Kazuyuki Hagiwara
;
Shohei Matsushita
;
Daisuke Hara
;
Anthony Adamov
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Photomask;
Mask CD-SEM;
Contour data;
lithography simulation;
MEEF;
3D;
59.
Placement-Aware Decomposition of a Digital Standard Cells Library for Double Patterning Lithography
机译:
用于双图案光刻的数字标准单元库的位置感知分解
作者:
Amr G. Wassal
;
Heba Sharaf
;
Sherif Hammouda
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Double Patterning;
placement;
standard cells;
60.
Future Mask Writers Requirements for the Sub 10 nm Node Era.
机译:
低于10 nm节点时代的未来掩模作家要求。
作者:
Mahesh Chandramouli
;
Frank Abboud
;
Nathan Wilcox
;
Andrew Sowers
;
Damon Cole
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
61.
Generating Well-Behaved OASIS Files for Mask Data Processing
机译:
生成行为良好的OASIS文件以进行掩码数据处理
作者:
D. Hung
;
J. P. Canepa
;
K. Kuo
;
J. G. Jou
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
mask data preparation;
performance;
OASIS;
distributed processing;
file generation;
62.
Proposal of an extended loading effect correction for EBM-8000
机译:
对EBM-8000扩大载荷效应校正的建议
作者:
Hiroshi Matsumoto
;
Yasuo Kato
;
Noriaki Nakayamada
;
Shusuke Yoshitake
;
Kiyoshi Hattori
会议名称:
《》
|
2012年
关键词:
EB mask writer;
fogging effect;
loading effect;
global CD correction;
63.
Hotspot Classification Based on Higher-order Local Autocorrelation
机译:
基于高阶局部自相关的热点分类
作者:
Bin Lin
;
Zheng Shi
;
Ye Chen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
hotspot classification;
HLAC;
PCA;
clustering;
discrete 2-d correlation;
64.
2012 Mask Industry Survey
机译:
2012年口罩行业调查
作者:
Matt Malloy
;
Lloyd C. Litt
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Mask industry;
photomask;
mask yield;
photomask yield;
mask quality;
photomask quality;
65.
Study and Comparison of Negative Tone Resists for Fabrication of Bright Field Masks for 14 nm Node
机译:
用于制造14 nm节点的负色调抗蚀剂的研究和比较
作者:
Amy E. Zweber
;
Tom Faure
;
Anne McGuire
;
Linda K. Sundberg
;
Ratnam Sooriyakumaran
;
Martha I. Sanchez
;
Luisa D. Bozano
;
Tasuku Senna
;
Yuki Fujita
;
Yoshiyxiki Negishi
;
Masahito Tanabe
;
Takahiro Kaneko
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
lithography;
photomask;
line edge roughness;
line width roughness;
critical dimension uniformity;
CDU;
resolution;
sensitivity;
develop loading;
negative tone resist;
fogging;
66.
Correlation between Reticle- and Wafer-CD Difference of Multiple 28nm Reticle-Sites
机译:
多个28nm网版站点的网版和晶圆CD差异之间的相关性
作者:
Guoxiang Ning
;
Frank Richter
;
Thomas Thamm
;
Paul Ackmann
;
Marc Staples
;
FrancoisWeisbuch
;
Karin Kurth
;
Joerg Schenker
;
Andre Leschok
;
Fang Hong GN
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
CD-difference;
measurement to target;
reticle transfer processes;
intra-field measurement;
67.
Automatic Marking by use of MRCC Range Pattern Matching for Advanced MDP
机译:
使用高级MDP的MRCC范围模式匹配进行自动标记
作者:
D. Salazar
;
W. Moore
;
J. Valadez
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
MDP;
Pattern Matching;
CD Marking;
RPM;
Jobdeck;
CATS;
MRCC;
68.
Advanced Module for Model Parameter Extraction using Global Optimization and Sensitivity Analysis for Electron Beam Proximity Effect Correction
机译:
用于全局参数优化和灵敏度分析的模型参数提取高级模块,用于电子束邻近效应校正
作者:
Thiago Figueiro
;
Kang-Hoon Choi
;
Manuela.Gutsch
;
Martin Freitag
;
Christoph Hohle
;
Jean-Herve Tortai
;
Mohamed Saib
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
electron beam lithography;
electron microscopy;
point spread function;
model calibration;
sensitivity analysis;
global optimization;
69.
Mask characterization for CDU Budget Breakdown in advanced EUV Lithography
机译:
高级EUV光刻中CDU预算细分的掩模表征
作者:
Peter Nikolsky
;
Chris Strolenberg
;
Rasmus Nielsen
;
Tjitte Nooitgedacht
;
Natalia Davydova
;
Greg Yang
;
Shawn Lee
;
Chang-Min Park
;
Insung Kim
;
Jeong-Ho Yeo
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV Lithography;
CDU;
Budget Breakdown;
mask;
reticle;
absorber thickness;
NXE3100;
Reflectivity;
uniformity;
70.
Interactions of 3D mask effects and NA in EUV lithography
机译:
EUV光刻中3D掩模效果和NA的相互作用
作者:
Jens Timo Neumann
;
Paul Graeupner
;
Winfried Kaiser
;
Reiner Garreis
;
Bernd Geh
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
High-NA EUV;
chief-ray angle;
shadowing;
reticle coating;
rigorous mask effects;
demagnification;
71.
Novel DPT methodology co-optimized with Design Rules for sub-20nm device
机译:
与设计规则共同优化的新型DPT方法论用于20纳米以下的器件
作者:
Hyun-Jong Lee
;
Soo-Han Choi
;
Jae-Seok Yang
;
Kwan-Young Chun
;
Jeong-ho Do
;
Chul-Hong Park
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Double Patterning Technology (DPT);
Self-Aligned Double Patterning (SADP);
Litho-Etch-Litho-Etch (LELE);
Front End Of Line (FEOL);
Middle of Line (MOL);
Design Rules;
72.
CD control with defect inspection: you can teach an old dog a new trick
机译:
带有缺陷检查的CD控制:您可以教老狗一个新技巧
作者:
Clemens Utzny
;
Albrecht Ullrich
;
Jan Heumann
;
Elias Mohn
;
Stefan Meusemann
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
73.
Bimetallic Grayscale Photomasks for Micro-optics Fabrication Using Dual Wavelength Laser Writing Techniques
机译:
双波长激光写入技术用于微光学制造的双金属灰度光掩模
作者:
Reza Qarehbaghi
;
Glenn H. Chapman
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Grayscale photomask;
Bimetallic thin-film;
Laser writing feedback control;
256 gray-level photomask;
Grayscale mask metrology;
Microfabricated micro-optics;
74.
Efficient simulation of EUV multilayer defects with rigorous data base approach
机译:
严格的数据库方法可有效模拟EUV多层缺陷
作者:
P. Evanschitzky
;
F. Shao
;
A. Erdmann
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Lithography simulation;
EUV multilayer defects;
rigorous EMF simulation;
multilayer defect data base;
75.
EUV mask blank defect avoidance solutions assessment
机译:
EUV面膜空白缺陷避免解决方案评估
作者:
Ahmad Elayat
;
Peter Thwaite
;
Steffen Schulze
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV mask;
Defect Avoidance;
Pattern Shift;
Defect Repair;
76.
Capability of Model EBEYE M for EUV Mask Production
机译:
EBEYE M型用于EUV面膜生产的能力
作者:
Masato Naka
;
Shinji Yamaguchi
;
Motoki Kadowaki
;
Torn Koike
;
Takashi Hirano
;
Masamitsu Itoh
;
Yuichiro Yamazaki
;
Kenji Terao
;
Masahiro Hatakeyama
;
Kenji Watanabe
;
Hiroshi Sobukawa
;
Takeshi Murakami
;
Kiwamu Tsukamoto
;
Takehide Hayashi
;
Ryo Tajima
;
Norio Kimura
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUV mask;
inspection;
defect;
electron beam;
EB inspection;
77.
Illuminating EUVL Mask Defect Printability
机译:
照亮EUVL掩模缺陷可印刷性
作者:
Karen D. Badger
;
Zhengqing John Qi
;
Emily Gallagher
;
Kazunori Seki
;
Gregory McIntyre
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
EUVL;
mask inspection;
non-actinic;
wafer-printable defects;
78.
Improving CD uniformity using MB-MDP for 14nm node and beyond
机译:
使用MB-MDP在14nm及以后的节点上提高CD均匀性
作者:
Byung Gook Kim
;
Jin Choi
;
Jisoong Park
;
Chan Uk Jeon
;
Sterling Watson
;
Anthony Adamov
;
Bob Pack
;
Ingo Bork
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
photomask;
lithography;
MB-MDP;
CD uniformity;
ILT;
79.
Bridging the gaps between mask inspection/review systems and actual wafer printability using Computational Metrology and Inspection (CMI) Technologies
机译:
使用计算计量和检查(CMI)技术弥合掩模检查/检查系统与实际晶圆可印刷性之间的差距
作者:
Linyong (Leo) Pang
;
Vikram Tolani
;
Masaki Satake
;
Peter Hu
;
Danping Peng
;
Tingyang Liu
;
Dongxue Chen
;
Bob Gleason
;
Anthony Vacca
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
Computational inspection and metrology;
aerial image inspection;
AIMS;
source to source;
ILT;
SMO;
mask inspection;
mask review;
computational inspection;
80.
EUV multilayer defect compensation (MDC) by absorber pattern modification - Improved performance with deposited material and other Progresses
机译:
通过吸收体图案修改实现EUV多层缺陷补偿(MDC)-沉积材料和其他方面的性能得到改善
作者:
Linyong (Leo) Pang
;
Masaki Satake
;
Ying Li
;
Peter Hu
;
Vikram Tolani
;
Danping Peng
;
Dongxue Chen
;
Bob Gleason
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2012年
关键词:
multilayer defect;
mask repair;
multilayer defect compensation;
EUV defect disposition;
fast lithography simulation;
extreme ultraviolet lithography;
EUV mask;
mask defect;
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