机译:特定图案偏轴照明的光栅掩模制造公差分析
机译:在X射线光刻中使用扩大的图案掩模在线条和空间图案形成中通过两次曝光极大地扩大了接近间隙(曝光方法向对称照明的演变)
机译:对半音处理进行去雾化:常规的,随机的和混合的半音点结构
机译:通过常规和偏离轴照射暴露半色调掩模
机译:使用蓝噪声蒙版进行数字半色调。
机译:非对称掩模用于基于实验室的带有边缘照明的X射线相衬成像
机译:图像半色调最远点掩模的设计
机译:用于palomar的离轴四象限相位掩模(FQpm)Coronagraph:高对比度近明星成像仪