夏家店下层文化

摘要： 2017年,辽宁省文物考古研究院联合凌源市博物馆对邵杖子遗址进行了发掘,发掘面积1030平方米,揭露出房址3座,灰坑44个,室外灶址1处,墓葬4座和窖穴4座,出土陶器、石器及骨制品等遗物。该遗址是一处典型的夏家店下层文化药王庙类型遗址,本次发掘所获为深入研究夏家店下层文化的内涵提供了新材料。

摘要： 本文采用浮选法对小塘山遗址2021年度发掘的土样开展植物考古研究,获得了丰富的炭化植物遗存。分析结果显示,小塘山遗址的农业属于以粟、黍为主的典型北方旱作农业类型,其中粟的绝对数量和出土概率均明显高于黍,说明粟在当时的农业种植结构中为首选农作物品类。遗址中出土的猪、牛、羊等家畜和狼、鹿等野生动物遗存说明小塘山遗址先民存在着家畜饲养和狩猎行为。综合来看,小塘山遗址人群的生业方式应是以农业为主,家畜饲养业次之,又辅之以狩猎活动。小塘山遗址的炭化植物遗存为认识夏家店下层文化时期的经济结构和生产状况提供了新的植物考古材料。

摘要： 夏家店西下层文化因素中有着较多的红山文化因素,从其出土遗物及遗迹等方面都显示出夏家店下层文化与红山文化之间的渊源关系。在夏家店下层文化因素中亦有着诸多二里头文化及高台山文化因素。夏家店下层文化时期三足陶器系统取代了平底筒形陶器系统,同时人口的激增与矛盾导致注重防御功能的大型石城的出现及增多,以及诸如城子山遗址群等大型祭祀中心的出现,彩绘陶取代了红山文化和小河沿文化时期盛行的彩陶,金属制品的不断增多都表明夏家店下层文化在本地土著文化发展壮大的同时受到了诸多其他区域文化的影响。本文基于夏家店下层文化和红山文化的关系,从遗址遗物等方面对两个文化进行文化渊源的研究。

摘要： 史前聚落作为人类生产、生活与社会组织形态的物化载体,是史前遗址的常见类型,也是文明起源与发展演进的重要见证。以3处典型的夏家店下层文化史前聚落遗址为例,引入空间句法理论,对其空间功能、形态与结构特征进行解读,结果表明:(1)整合度分析显示院落及院区是可达性最高的区域,以高等级居住功能为主;靠近聚落出入口以带回廊的大房址为中心,是内部主要的公共场所;以生产、仓储等服务功能为主的空间是聚落人群活动的集中区域。(2)选择度分析显示聚落主要以南北向道路为主,依次连接各级支路和小巷,同时起到划分内部不同功能等级区的作用。(3)可理解度分析显示出聚落空间逐渐由复杂向规整、有序的方向发展,同时也带来由依靠内部空间防御向外部设施防御的转变。综合上述研究结果,提出具备原型意义的夏家店下层文化聚落空间图示,拓展空间句法的应用范畴,为史前聚落空间量化研究提供新的思路。

摘要： 从内蒙古自治区文物考古研究院了解到,考古人员日前在宁城县小塘山夏家店下层文化石城遗址中发现一座陶窑和较多的制陶工具,经考古人员判定,遗址内存在一条龙制陶流程,这在夏家店下层文化遗址中属首次发现。近日,内蒙古文物考古研究院联合宁城县文物保护中心对位于内蒙古赤峰市宁城县三座店镇小塘山夏家店下层文化石城遗址进行了抢救性发掘,发掘面积约4000平方米,清理房址40余座、窖穴与灰坑33座、墓葬6座、陶窑1座。

摘要： 城址作为早期人类聚落形式的典型代表,是社会复杂化发展的突出标志与阶段性产物,具有重要的历史与研究价值。以内蒙古敖汉旗地区夏家店下层文化城址为对象,基于GIS空间分析方法,对其分布形态与组织结构进行定量研究。结果表明,该区域整体呈现以大型城址为中心,中、小型城址依次环绕的聚集分布形态。从活动范围与视觉联系的角度,可将其进一步划分为7个城址组群,并从中归纳出3种空间结构类型,以期为揭示夏家店下层文化聚落的发展演进过程及探讨相关遗址的保护利用范围提供参考。

摘要： 在“青铜时代全球化”的背景下,面对多种新作物及家畜的传入,夏家店下层文化的先民采取了一种饮食上的“保守主义”。在植食方面,人们继续种植以粟、黍为代表的传统农作物,而未引入小麦和水稻;在肉食方面,尽管牛、羊已经成为人们重要的生业选择,但家猪的饲养仍然是核心策略。这种饮食上的保守主义是多方面因素的结果,其中包括文化因素上的“粒食”传统、可承担的“人口—资源”压力以及“边缘效应”的多样性选择等。

摘要： 文章通过视频显微镜对水泉遗址出土的夏家店下层文化骨针进行了细致的观察和测量,对其制作工艺和钻孔特征做了系统的归纳。结合三组实验,即石质钻具、手执双向拧钻,金刚砂钻具、电动单向旋转,金属钻具、手搓双向旋转,比对分析之后认为夏家店下层文化时期骨针的钻孔已经使用了金属钻具,且当时的钻孔技术是相当便捷、快速和高效的,同时还提出以水泉遗址为代表的青铜时代应普遍具备使用金属钻具的可能性。

摘要： 城址作为聚落的高级形态,其空间关系反映出一定的社会组织结构和文化特征,一直是人居环境学科领域的研究重点。文章以内蒙古赤峰市敖汉旗地区夏家店下层文化(距今4000~3500年)城址为研究对象,引入GIS地理信息系统和SPSS统计分析工具,结合聚落考古、环境考古、历史地理学等学科研究方法,对城址规模—等级及其空间结构特征进行研究,得出的主要结论有:第一,敖汉旗地区夏家店下层文化城址可以分为四个等级,表现出明显的规模—等级数量分布趋势,但尚未达到类似国家的复杂社会形态;第二,不同等级城址空间分布呈现清晰的布局逻辑;第三,不同规模—等级城址群可以归纳为四种各具特色的结构类型,反映出夏家店下层文化城址与社会发展程度。相关研究成果将为进一步揭示史前城址空间分布形态、功能以及区域文明化进程等问题提供重要依据。

摘要： 经过几十年的调查和发掘,在西辽河地区发现了大量的夏家店下层文化遗址,本文通过对西拉木伦河、老哈河、教来河和孟克河流域遗址的量化分析,了解当时的人们对居住址的选择与地域、环境之间的密切关系.

摘要： 本文根据1996年出版的《大甸子-夏家店下层文化遗址与墓地发掘报告》中对墓地出土的玉器的描述,对大甸子墓地的玉器反映的群体特征及其文化关系做了探讨.

摘要： 一种光刻用下层膜形成用材料，其使用下述式(0)所示的化合物。(式(0)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或无桥接，R1是碳数1～30的2n价基团或单键，R0各自独立地是碳数1～30的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的直链状、支链状或环状的烯基、巯基、卤素基、硝基、氨基、羧酸基或羟基，前述烷基、前述烯基和前述芳基任选含有氰氧基、巯基、卤素基、硝基、氨基、羧酸基、羟基、醚键、酮键或酯键，m1各自独立地是0～4的整数，此处，至少一个m1是1～4的整数，m2各自独立地是0～3的整数，n是1～4的整数，p各自独立地是0或1。)

摘要： 本实施方式提供一种光刻用下层膜形成材料，其含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示的化合物的结构单元的树脂中的至少任一种。式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，在同一萘环或苯环中可以相同也可以不同，此处，至少1个R2为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，n为1～4的整数，n为2以上的整数时，n个[]内的结构单元的结构式可以相同也可以不同，X表示氧原子、硫原子或未桥接，m2各自独立地为0～7的整数，其中，至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1。

摘要： 本发明的下层膜形成用树脂材料是用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用树脂材料，其包含环状烯烃聚合物(I)，使用流变仪，在氮气气氛下、以剪切模式、测定温度范围30～300°C、升温速度3°C/min、频率1Hz的条件测定得到的上述下层膜形成用树脂材料的固体粘弹性中，表示储能弹性模量(G’)曲线与损耗弹性模量(G”)曲线的交点的温度为40°C以上200°C以下。

摘要： 提供能够适用湿式工艺，用于形成耐热性、抗蚀图案形状、蚀刻耐性、对高低基板的埋入特性和膜的平坦性优异的光刻用膜，耐热性、透明性和折射率优异的光学部件等的含有下述式(1)所示的三嗪系化合物的膜形成材料。

摘要： 本发明的下层膜形成用材料为用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用材料，其包含具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物，上述环状烯烃聚合物中的上述结构单元[A]与上述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下。

摘要： 本实施方式提供一种光刻用下层膜形成材料，其含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示的化合物的结构单元的树脂中的至少任一种。式(1)中，R

摘要： 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)

摘要： 本发明提供可通过高能量射线照射而固化，在半导体装置制造工序中的利用多层抗蚀剂法的微细图形工艺中可形成具有优异嵌入/平坦化特性、适当耐蚀刻性及光学特性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜材料、使用该材料的图案形成方法、抗蚀剂下层膜形成方法、及适用于该抗蚀剂下层膜材料的新型化合物。该抗蚀剂下层膜材料用于多层抗蚀剂法，其含有(A)通式(1)所示的化合物中的一种或二种以上及(B)有机溶剂，[化学式1]式中W为碳原子数2～50的n价有机基团；X为通式(1X)所示的1价有机基团；n为1～10的整数，[化学式2]式中虚线表示结合键；R01为丙烯酰基或甲基丙烯酰基；Y为单键或羰基；Z为碳原子数1～30的1价有机基团。

摘要： 下述式(1)所示的化合物或树脂。(式(1)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或为无桥接，R

摘要： 含有将改性二甲苯甲醛树脂氰酸酯化而得到的氰酸酯化合物的光刻用下层膜形成用材料、含有该材料的组合物、使用该组合物的图案形成方法。