法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-18
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/11 申请日:20180530
实质审查的生效
2020-01-17
公开
公开
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法
机译: 抗蚀剂下层膜材料的形成“在低温后施加烘烤时具有足够的耐溶剂性的抗蚀剂下层膜”,用于抗蚀剂下层膜材料的聚合物的制造方法以及使用抗蚀剂的膜材料形成方法
机译: 用于形成抗蚀剂下层膜的化合物,使用其的抗蚀剂下层膜材料,抗蚀剂下层膜形成方法,图案形成方法