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下层膜形成用材料、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法及层叠体

摘要

本发明的下层膜形成用材料为用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用材料,其包含具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物,上述环状烯烃聚合物中的上述结构单元[A]与上述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下。

著录项

  • 公开/公告号CN110709774A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三井化学株式会社;

    申请/专利号CN201880036679.6

  • 发明设计人 井上浩二;小田隆志;川岛启介;

    申请日2018-05-30

  • 分类号

  • 代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈彦

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 07:17:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/11 申请日:20180530

    实质审查的生效

  • 2020-01-17

    公开

    公开

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