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光学晶体

光学晶体的相关文献在1986年到2023年内共计1246篇,主要集中在晶体学、无线电电子学、电信技术、物理学 等领域,其中期刊论文128篇、会议论文9篇、专利文献205750篇;相关期刊55种,包括材料导报、光学精密工程、光学仪器等; 相关会议9种,包括全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议、2007年激光技术发展与应用学术交流会、中国科协第2届优秀博士生学术年会等;光学晶体的相关文献由1193位作者贡献,包括潘世烈、吴以成、陈创天等。

光学晶体—发文量

期刊论文>

论文:128 占比:0.06%

会议论文>

论文:9 占比:0.00%

专利文献>

论文:205750 占比:99.93%

总计:205887篇

光学晶体—发文趋势图

光学晶体

-研究学者

  • 潘世烈
  • 吴以成
  • 陈创天
  • 吴红萍
  • 俞洪伟
  • 胡章贵
  • 张弛
  • 毛江高
  • 吴超
  • 叶宁
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

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作者

    • 林哲帅; 姜兴兴
    • 摘要: 常规光学晶体在外界温度变化时,由于“热胀冷缩”效应,无法保持光信号传输的稳定性(如光程稳定性等),限制了其在复杂/极端环境中精密光学仪器的应用。探索晶体的反常热膨胀性质,如零热膨胀,来“对冲”外界温场对晶体结构的影响是解决这一问题的有效途径。但是,要通过晶格在温度场作用下的精巧平衡来实现零热膨胀是十分困难的:一方面,热膨胀率严格等于零的晶体在自然界中并不存在;另一方面,目前化学组分调控晶体热膨胀性质的方法,例如多相复合、元素掺杂、客体分子引入和缺陷生成等,会影响到晶体的透光性能,不利于光学应用。如何在严格化学配比的晶体材料中,利用其本征的热膨胀性能实现大温度涨落下的光学稳定性,具有非常重要的科技意义。
    • 摘要: 苏良碧,研究员,博士生导师,中国科学院透明光功能无机材料重点实验室副主任,兼任中国硅酸盐学会晶体生长和材料专业委员会理事、中国材料研究学会空间材料科学技术分会常务理事等。主要研究方向为激光与光功能晶体材料。承担了国家自然科学基金杰出青年基金、重点项目、国家重点研发计划、中科院战略性先导专项、国家863计划等多个科研项目。在国际重要学术刊物上发表学术论文160多篇,合作出版专著3本,获授权发明专利20多项。
    • 许祖彦
    • 摘要: 光学晶体泛指和光学相关的单晶体,利用其量子跃迁、物理光学和几何光学特性等来实现特定光学功能应用,属于一类特定光学功能材料和介质,广泛应用于很多重大设备、仪器、系统,是《量子电子学报》报道和关注的重要内容之一。本专辑展现了我国在激光晶体、非线性光学晶体、宽禁带超宽禁带半导体、闪烁体、光学衬底等领域所取得的成就和发展动向。
    • 摘要: 光学晶体涵盖了激光、非线性、闪烁体、发光、光学窗口和光折变等材料,在军事、科研、工业等领域发挥着不可替代的作用,是一个国家核心竞争力的重要体现。为了展现我国在先进光学晶体领域的重要成就,同时就未来的发展趋势和变革方向进行探讨,《量子电子学报》拟于2021年第1期策划出版“先进光学晶体”专辑,现面向全国征集相关领域的综述与原创研究论文,欢迎赐稿!
    • 朱均超; 豆梓文; 李嘉强; 徐晓明
    • 摘要: 为解决固体激光器工作时光学晶体产生的热沉积问题,保证其工作性能稳定,提出了一种基于半导体制冷器(T EC)的高控温精度、大控温范围光学晶体温度控制方案.分析了T EC的工作特性和光学晶体的热效应与传热机理,将T EC工作过程中自身温度变化引起的电气特性改变与光学晶体温度的变化同时纳入控制环节,建立了温度-电流双闭环温度控制模型,设计并完成了一套高控温精度、大控温范围的光学晶体温度控制系统.实验结果表明:本系统在-15~120°C的温度控制范围内,可以迅速稳定在任一设定的温度点,其控温精度优于±0.002°C;当设定温度和实际温度之间的偏差在20°C以内时,其收敛稳定时间小于60 s,可以满足固体激光器中光学晶体对控温范围与精度的要求.
    • 李晓媛; 高伟; 田东; 董会; 吉方; 王超
    • 摘要: 磷酸二氢钾(KDP)晶体是一种非常优良的非线性光学晶体材料,在强激光系统中有着重要应用.但其理化性质特殊,加工高表面质量的元件难度很大.目前研究认为磁流变抛光技术能够获得高精度的KDP晶体表面,但是该加工过程带入的表面残留如不清除,会大大降低元件的性能.提出了一种针对磁流变抛光后续的KDP的清洗技术,设计了含水活性清洗液,结合超高频超声作用共同去除KDP表面残留.光学显微镜和白光干涉仪分析表明,该技术较好地去除了表面残留,并且晶体表面粗糙度有所降低.拉曼光谱和激光干涉仪测试表明,清洗前后KDP表面化学结构和面形精度一致.该研究获得了较为满意的结果,说明该方法是一种有应用前景的KDP超精密清洗方法.%KDP is a type of excellent nonlinear single crystal electro-optical material, which is used in high-energy laser systems. However, KDP is extremely difficult to be finished for its particular physical and chemical properties. Magnetorheological finishing (MRF) is considered to be an effective processing method for finishing KDP to high precision at present. But the performance of KDP would decrease obviously if the residual contamination remained after finishing. An active cleaning agent with high-frequency ultrasound technology was put forward to solve the problem. Microscope and white-light-interferometer were employed to assess the effects of cleaning process on KDP surface. The results show that the residual contamination is removed availably, and the surface roughness is improved as well. Additionally, the Raman spectral and laser interferometer analysis indicates that crystal structure and surface accuracy of KDP remain unchanged after cleaning. These conclusions prove that the cleaning method achieves desired result and exhibits a promising prospect of KDP cleaning.
    • 龚云辉; 周旭环; 黄娅芳; 王光伟
    • 摘要: 1晶体的用途 氟化锂材料是一种重要的光学晶体,具有较宽的透射范围,在紫外、可见光、红外波段都有很高透过率,其透射范围在0.11~6.6μm,氟化锂晶体常用在紫外波段、红外激光等。由于其在原理上是迄今为止科学界所知的真空紫外部分(A〈200nm)透过率最好的材料,因而其被应用于紫外仪器,紫外激光武器、三光合一吊舱等的光学元件。
    • 郭盈; 王涛; 景爱梅
    • 摘要: 随着社会的发展,人们对材料的需求日益增大,而红外光学技术的发展,推动者各种晶体材料得到了广泛的应用.因而,晶体材料的开发、加工及应用普遍受到人们的重视,为了对光学晶体中化学机械抛光进行深入的研究,笔者首先对光学晶体化学机械抛光发展现状进行了资料的收集整理,之后对光学晶体化学机械抛光技术研究,详细介绍了抛光技术的机理以及工艺思路的研究.最后,对光学晶体化学机械抛光过程中的各种问题进行分析,希望通过笔者的研究能够对我国光学晶体加工有所帮助.
    • 贾宗合
    • 摘要: 随着各国经济的不断发展,科技水平的也不断提高,现代短波光学、强光光学、电子学以及薄膜学等也得到了一定发展,同样,各种电子以及光学元件的性能也在一定程度上得到了提高。但是,对于现在电子以及光学元件的性能仍需进行进一步的提高,提高电子以及光学元件的性能主要可以通过对其进行化学机械抛光,使得其能够达到超光滑的表面。本文主要针对光学晶体加工中化学机械抛光的运用进行分析。
    • 摘要: 纳米晶体具有跨越生物医学成像、发光器件和电子消费产品的多种应用,其独特的光学性质是由它们组成的晶体类型产生。然而,迄今为止纳米晶体发展的主要瓶颈是需要X射线技术来确定晶体类型。伊利诺伊大学香槟分校的研究人员已经开发了一种新颖的方式来确定晶体类型基于光学,即通过晶体吸收光的独特方式来鉴别。
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