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外文会议
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Conference on alternative lithographic technologies
Conference on alternative lithographic technologies
召开年:
2009
召开地:
San Jose, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Recent progress of EUV Full Field Exposure Tool in Selete
机译:
EUV全场曝光工具在Selete中的最新进展
作者:
Kazuo Tawarayama
;
Hajime Aoyama
;
Shunko Magoshi
;
Yuusuke Tanaka
;
Seiichiro Shirai
;
Hiroyuki Tanaka
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUVL;
resist printing;
overlay;
2.
Laser-produced plasma source development for EUV lithography
机译:
用于EUV光刻的激光生产等离子体源开发
作者:
Akira Endo
;
Hiroshi Komori
;
Yoshifumi Ueno
;
Krzysztof M. Nowak
;
Yabu Takayuki
;
Yanagida Tatsuya
;
Takashi Suganuma
;
Takeshi Asayama
;
Hiroshi Someya
;
Hideo Hoshino
;
Masaki Nakano
;
Masato Moriya
;
Toshihiro Nishisaka
;
Tamotsu Abe
;
Akira Sumitani
;
Hitoshi Nagano
;
Youichi Sasaki
;
Shinji Nagai
;
Yukio Watanabe
;
Georg Soumagne
;
Takanobu Ishihara
;
Osamu Wakabayashi
;
Kouji Kakizaki
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV light source;
laser produced plasma;
CO_2 laser;
3.
UV NIL template making and imprint evaluation
机译:
UV NIL模板制作和压印评估
作者:
Shiho Sasaki
;
Takaaki Hiraka
;
Jun Mizuochi
;
Yuko Nakanishi
;
Satoshi Yusa
;
Yasutaka Morikawa
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
UV NIL;
template;
EB writing;
photomask;
4.
The application of EUV lithography for 40n m node DRAM devices and beyond
机译:
EUV光刻技术在40n m节点DRAM器件及以后的应用中
作者:
Joo-on Park
;
Chawon Koh
;
Doohoon Goo
;
InSung Kim
;
Changmin Park
;
Jeonghoon Lee
;
JinHong Park
;
JeongHo Yeo
;
Seong-Woon Choi
;
Chan-hoon Park
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
ADT(alpha-demo tool);
MMO;
CD(Critical dimension);
ahadowing effect;
5.
EUVL Reticle Defectivity Evaluation
机译:
EUVL掩模版缺陷评估
作者:
A. Tchikoulaeva
;
U. Okoroanyanwu
;
O. Wood
;
B. La Fontaine
;
C. Holfeld
;
S. KiniC. Holfeld
;
M.Peikert
;
C. Boye
;
C.-S. Koay
;
K. Petrillo
;
H. Mizuno
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL reticle;
defectivity;
wafer inspection;
blank defects;
multilayer defects;
6.
Development of actinic full-field EUV mask blank inspection tool at MIRAI-Selete
机译:
在MIRAI-Selete开发光化全视野EUV掩模空白检测工具
作者:
Tsuneo Terasawa
;
Takeshi Yamane
;
Toshihiko Tanaka
;
Teruo Iwasaki
;
Osamu Suga
;
Toshihisa Tomie
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
multilayer;
mask blank;
actinic inspection;
EUV;
phase defect;
dark-field imaging;
TDI;
7.
Xenon DPP Source Technologies for EUVL Exposure Tools
机译:
用于EUVL曝光工具的Xenon DPP源技术
作者:
Masaki Yoshioka
;
Denis Bolshukhin
;
Marc Corthout
;
Guenther H. Derra
;
Sven Goetze
;
Jeroen Jonkers
;
Juergen Kleinschmidt
;
Rainer Mueller
;
Max. C. Schuermann
;
Guido Schriever
;
Rob Snijkers
;
Peter Zink
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV sources;
gas discharge produced plasma;
Z-pinch;
xenon;
EUV lithography;
8.
MAPPER: High throughput maskless lithography
机译:
MAPPER:高通量无掩模光刻
作者:
M.J. Wieland
;
G. de Boer
;
G.F. ten Berge
;
R. Jager
;
T. van de Peut
;
J.J.M. Peijster
;
E. Slot
;
S.W.H.K. Steenbrink
;
T.F. Teepen
;
A.H.V. van Veen
;
B.J. Kampherbeek
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
MAPPER;
maskless;
lithography;
electron beam;
EBDW;
massively parallel;
9.
Direct Laser Write (DLW) as a Versatile Tool in Manufacturing Templates for Imprint Lithography on Flexible Substrates
机译:
直接激光写入(DLW)作为制造模板的多功能工具,用于在柔性基板上压印光刻
作者:
Marius G. Ivan
;
Jean-Baptiste Vaney
;
Dick Verhaart
;
Erwin R. Meinders
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
direct laser write;
nanoimprint lithography;
plastic electronics;
hot embossing;
silicon template;
flexible substrate;
10.
Physical properties of thin nanoimprint polymer films measured by photoacoustic metrology
机译:
通过光声计量学测量的纳米压印聚合物薄膜的物理性质
作者:
T. Kehoe
;
J. Bryner
;
V. Reboud
;
J. Vollmann
;
C. M. Sotomayor Torres
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
nanoimprint lithography;
photoacoustic metrology;
young's modulus;
polymer;
nanoscale;
11.
Flare evaluation of ASML Alpha Demo Tool
机译:
ASML Alpha演示工具的光晕评估
作者:
Hiroyuki Mizuno
;
Gregory McIntyre
;
Chiew-seng Koay
;
Martin Burkhardt
;
Bruno La Fontaine
;
Obert Wood
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV;
out-of-band (OoB) radiation;
flare;
donut;
grating donut;
alpha demo tool (ADT);
REMA (reticle masking);
12.
Demonstration of full field patterning of 32 nm test chips using EUVL
机译:
演示使用EUVL的32 nm测试芯片的全场图案
作者:
Gilroy Vandentop
;
Manish Chandhok
;
Ernisse S. Putna
;
Todd R. Younkin
;
James S. Clarke
;
Steven Carson
;
Alan Myers
;
Michael Leeson
;
Guojing Zhang
;
Ted Liang
;
Tetsunori Murachi
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV lithography;
32 nm;
ADT;
photoresist;
defects;
13.
Development progress of optics for EUVL at Nikon
机译:
尼康EUVL光学系统的开发进展
作者:
Katsuhiko Murakami
;
Tetsuya Oshino
;
Hiroyuki Kondo
;
Masayuki Shiraishi
;
Hiroshi Chiba
;
Hideki Komatsuda
;
Kazushi Nomura
;
Jin Nishikawa
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
projection optics;
illumination optics;
aspheric mirrors;
multilayer coatings;
14.
Design and fabrication considerations of EUVL collectors for HVM
机译:
用于HVM的EUVL收集器的设计和制造注意事项
作者:
G. Bianucci
;
G. L. Cassol
;
J. Kools
;
M. Prea
;
G. Salmaso
;
G. Valsecchi
;
F. E. Zocchi
;
D. Bolshukhin
;
M. Schuermann
;
G. Schriever
;
A. Mader
;
P. Zink
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
collector;
collection efficiency;
thermal management;
extreme ultra-violet lithography;
EUV;
EUVL;
15.
Nanopit smoothing by cleaning
机译:
清洁Nanopit
作者:
Abbas Rastegar
;
Sean Eichenlaub
;
Arun John Kadaksham
;
Matt House
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
defect smoothing;
EUV blank defectivity;
pit defects;
16.
Cell projection use in mask-less lithography for 45nm 32nm logic nodes
机译:
单元投影用于45nm和32nm逻辑节点的无掩模光刻中
作者:
S. Manakli
;
H. Komami
;
M. Takizawa
;
T.Mitsuhashi
;
L. Pain
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
electron beam;
cell projection;
design;
resolution;
proximity effects;
direct write;
NGL;
17.
Coulomb Blur Advantage of a Multi Shaped Beam Lithography Approach
机译:
多形束光刻技术的库仑模糊优势
作者:
Matthias Slodowski
;
Hans-Joachim Doering
;
Thomas Elster
;
Ines A.Stolberg
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
variable shaped beam;
VSB;
multi shaped beam;
MSB;
electron beam lithography;
stochastic beam blur;
coulomb interaction;
18.
Estimation of Cost Comparison of Lithography Technologies at the 22 nm Half-pitch Node
机译:
在22 nm半间距节点上光刻技术的成本比较估算
作者:
Andrea Wueest
;
Andrew J. Hazelton
;
Greg Hughes
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
cost of ownership;
lithography;
double patterning;
EUVL;
mask costs;
19.
Comparative Study of DRAM Cell Patterning between ArF Immersion and EUV Lithography
机译:
ArF浸没和EUV光刻之间的DRAM单元图案比较研究
作者:
Tae-Seung Eom
;
Sarohan Park
;
Jun-Taek Park
;
Chang-Moon Lim
;
Sunyoung Koo
;
Yoon-Suk Hyun
;
HyeongSoo Kim
;
Byoung-Ho Nam
;
Chang-Reol Kim
;
Seung-Chan Moon
;
Noh-Jung Kwak
;
Sungki Park
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
immersion lithography;
shadowing;
flare;
20.
Exposure tool settings and OPC strategies for EUV Lithography at the 16nm node
机译:
16纳米节点处EUV光刻的曝光工具设置和OPC策略
作者:
Yunfei Deng
;
Jongwook Kye
;
Bruno La Fontaine
;
Tom Wallow
;
Obert Wood
;
Harry Levinson
;
Anita Fumar-Pici
;
Hiroyuki Mizuno
;
Chiew-seng Koay
;
Greg McIntyre
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV;
EUV lithography;
OPC;
numerical aperture;
optical proximity effect;
illumination;
HV bias;
flare;
resist blur;
CD variation;
21.
Mask Diffraction Analysis and Optimization for EUV Masks
机译:
EUV掩模的掩模衍射分析和优化
作者:
Andreas Erdmann
;
Peter Evanschitzky
;
Tim Fuehner
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV lithography;
simulation;
masks topography;
mask induced aberration;
22.
Comparison of fast 3D simulation and actinic inspection for EUV masks with buried defects
机译:
具有掩埋缺陷的EUV掩模的快速3D模拟和光化检查的比较
作者:
Chris H. Clifford
;
Sandy Wiraatmadja
;
Tina T. Chan
;
Andrew R. Neureuther
;
Kenneth A. Goldberg
;
Iacopo Mochi
;
Ted Liang
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
actinic EUV inspection;
fast simulation;
buried defect;
EUV mask;
23.
EUV patterning Characterization Using a 3D Mask Simulation and Field EUV Scanner
机译:
使用3D掩模仿真和现场EUV扫描仪进行EUV图案表征
作者:
Jun-Taek Park
;
Yoon-Suk Hyun
;
Chang-Moon Lim
;
Tae-Seung Eom
;
Sunyoung Koo
;
Sarohan Park
;
Suk-Kyun Kim
;
Kuen-Do Ban
;
Hyun-Jo Yang
;
Chang-Il Oh
;
Byoung-Ho Nam
;
Chang-Reol Kim
;
HyeongSoo Kim
;
Seung-Chan Moon
;
Sungki Park
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV lithography;
shadowing effect;
24.
LPP Source System Development for HVM
机译:
用于HVM的LPP源系统开发
作者:
David C. Brandt
;
Igor V. Fomenkov
;
Alex I. Ershov
;
William N. Partlo
;
David W. Myers
;
Norbert R. Boewering
;
Nigel R. Farrar
;
Georgiy O. Vaschenko
;
Oleh V. Khodykin
;
Alexander N. Bykanov
;
Jerzy R. Hoffman
;
Christopher P. Chrobak
;
Shailendra N. Srivastava
;
Imtiaz Ahmad
;
Chirag Rajyaguru
;
Daniel J. Golich
;
David A. Vidusek
;
Silvia De Dea
;
Richard R. Hou
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV source;
EUV lithography;
laser produced plasma;
normal incidence collector;
25.
Integration of EUV lithography in the fabrication of 22-nm node devices
机译:
EUV光刻技术在22纳米节点器件制造中的集成
作者:
Obert Wood
;
Chiew-Seng Koay
;
Karen Petrillo
;
Hiroyuki Mizuno
;
Sudhar Raghunathan
;
John Amold
;
Dave Horak
;
Martin Burkhardt
;
Gregory Mcintyre
;
Yunfei Deng
;
Bruno La Fontaine
;
Uzodinma Okoroanyanwu
;
Anna Tchikoulaeva
;
Tom Wallow
;
James H.-C. Chen
;
Matthew Colburn
;
Susan S.-C. Fan
;
Bala S. Haran
;
Yunpeng Yin
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUVL;
EUV device integration;
EUV OPC;
EUV mask;
EUV resist process;
26.
Nikon EUVL development progress update
机译:
尼康EUVL开发进度更新
作者:
Takaharu Miura
;
Katsuhiko Murakami
;
Hidemi Kawai
;
Yoshiaki Kohama
;
Kenji Morita
;
Kazunari Hada
;
Yukiharu Ohkubo
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
extreme ultra violet lithography;
EUV exposure tool;
projection optics;
27.
Development Status of Canon's Full-Field EUV Tool
机译:
佳能全域EUV工具的开发现状
作者:
Takayuki hasegawa
;
Shigeyuki Uzawa
;
Tokuyuki Honda
;
Yoshinari Higaki
;
Akira Miyake
;
Hideki Morishima
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
lithography;
exposure tool;
projection optics;
illumination optics;
contamination;
28.
Characteristics and issues of an EUVL mask applying phase-shifting thinner absorber for device fabrication
机译:
使用相移稀释剂的EUVL掩模的特性和问题,用于器件制造
作者:
Hwan-Seok Seo
;
Dong-Gun Lee
;
Byung-Sup Ahn
;
Hakseung Han
;
Sungmin Huh
;
In-Yong Kang
;
Hoon Kim
;
Dongwan Kim
;
Seong-Sue Kim
;
Han-Ku Cho
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
mask;
absorber;
S-litho;
phase;
H-V bias;
OD;
CSM;
MET;
29.
Protection Efficiency of a Standard Compliant EUV Reticle Handling Solution
机译:
符合标准的EUV标线处理解决方案的保护效率
作者:
Long He
;
John Lystad
;
Stefan Wurm
;
Kevin Orvek
;
Jaewoong Sohn
;
Andy Ma
;
Patrick Kearny
;
Steve Kolbow
;
David Halbmaier
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
EUV reticle;
EUV mask;
EUV reticle handling;
EUV reticle protection;
defect;
30.
Soft Stamp UV-Nanoimprint Lithography for Fabrication of Laser Diodes
机译:
用于制造激光二极管的软压印UV-纳米压印光刻
作者:
Jukka Viheriaelae
;
Jukka Viheriaelae
;
Juha Kontio
;
Tomi Leinonen
;
Juha Tommila
;
Mihail Dumitrescu
;
Tapio Niemi
;
Markus Pessa
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
nanoimprint;
DFB laser diode;
soft stamps;
UV-NIL;
DFB;
31.
SEMATECH's NanoImprint Program: A Key Enabler for Nanoimprint Introduction
机译:
SEMATECH的NanoImprint计划:Nanoimprint的关键推动力
作者:
Lloyd C. Litt
;
Matt Malloy
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
nanoimprint;
lithography;
32.
The SEMATECH Berkeley microfield exposure tool: learning at the 22-nm node and beyond
机译:
SEMATECH伯克利微场曝光工具:在22纳米节点及更高层进行学习
作者:
Patrick P. Naulleau
;
Christopher N. Anderson
;
Lorie-Mae Baclea-an
;
Paul Denham
;
Simi George
;
Kenneth A. Goldberg
;
Michael Goldstein
;
Brian Hoef
;
Russ Hudyma
;
Gideon Jones
;
Chawon Koh
;
Bruno La Fontaine
;
Brittany McClinton
;
Ryan Miyakawa
;
Warren Montgomery
;
John Roller
;
Tom Wallow
;
Stefan Wurm
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet;
lithography;
photoresist;
aberrations;
33.
Measuring the EUV-induced contamination rates of TiO_2-capped multilayer optics by anticipated production-environment hydrocarbons
机译:
通过预期的生产环境碳氢化合物测量EUV引起的TiO_2封顶的多层光学器件的污染率
作者:
S. B. Hill
;
N. S. Faradzhev
;
C. S. Tamo
;
T. B. Lucatorto
;
R. A. Bartynski
;
B. V. Yakshinskiy
;
T. E. Madey
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet lithography (EUVL);
EUV optics contamination;
TiO_2;
EUV optics lifetime;
carbon deposition;
carbon contamination;
34.
High-resolution defect inspection of step and flash imprint lithography for 32nm half pitch patterning
机译:
步进和闪光压印光刻的高分辨率缺陷检查,用于32nm半间距图案化
作者:
Kosta Selinidis
;
Ecron Thompson
;
Ian McMackin
;
S.V. Sreenivasan
;
Douglas J. Resnick
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
step and flash imprint lithography;
S-FIL;
imprint lithography;
template;
imprint mask;
electron beam;
electron beam inspection;
35.
Characterization of a 0.25NA full-field EUV exposure tool
机译:
0.25NA全场EUV曝光工具的特性
作者:
Oleg Kritsun
;
Bruno La Fontaine
;
Yudong Hao
;
Jie Li
;
Obert Wood
;
Sudharshanan Raghunathan
;
Tim Brunner
;
Chiew-Seng Koay
;
Hiroyuki Mizuno
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUV lithography;
EUVL;
scatterometry;
focus control;
dose control;
overlay;
36.
Improving the performance of the Actinic Inspection Tool with an optimized alignment procedure
机译:
通过优化的对准程序提高光化检测工具的性能
作者:
Iacopo Mochi
;
Kenneth A. Goldberg
;
Patrick Naulleau
;
Sungmin Huh
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV;
zoneplate;
alignment;
mask inspection;
aerial image;
aberrations;
37.
On the integration of memristors with CMOS using nanoimprint lithography
机译:
使用纳米压印光刻技术将忆阻器与CMOS集成
作者:
Qiangfei Xia
;
W. M. Tong
;
W. Wu
;
J. J. Yang
;
X. Li
;
W. Robinett
;
T. Cardinali
;
M. Cumbie
;
J. E. Ellenson
;
P. Kuekes
;
R. S. Williams
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
nanoimprint lithography;
memristor;
CMOS;
transistor;
integration;
planarization;
38.
Scalable (24 -140 Gbps) optical data link, well adapted for future maskless lithography applications
机译:
可扩展的(24 -140 Gbps)光学数据链路,非常适合于未来的无掩模光刻应用
作者:
A. Paraskevopoulos
;
S.-H. Voss
;
M. Talmi
;
G. Walf
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
maskless lithography;
integrated optical receiver;
data buffering;
BiCMOS technology;
optical data link;
39.
Evaluation of the CD-SEM Vistec LWM90xx for line-width measurement of nanoimprint templates
机译:
评估CD-SEM Vistec LWM90xx用于纳米压印模板的线宽测量
作者:
Marcus Pritschow
;
Joerg Butschke
;
Mathias Irmscher
;
Lidia Parisoli
;
Toshihide Oba
;
Toshimichi Iwai
;
Takayuki Nakamura
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
UV-NIL;
nanoimprint;
lithography;
CD-SEM;
CD measurement;
template;
40.
Out-of-Band Exposure Characterization with the SEMATECH Berkeley 0.3-NA Microfield Exposure Tool
机译:
使用SEMATECH Berkeley 0.3-NA微型场曝光工具进行带外曝光表征
作者:
Simi A. George
;
Patrick P. Naulleau
;
Senajith Rekawa
;
Eric Gullikson
;
Charles Drew Kemp
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
MET;
extreme ultraviolet;
out of band;
resists;
flare;
resist sensitivity;
41.
Carbon film growth on model electron-irradiated MLM cap layer: interaction of benzene and MMA vapor with TiO_2 surface
机译:
在模型电子辐照的MLM覆盖层上的碳膜生长:苯和MMA蒸气与TiO_2表面的相互作用
作者:
B. V. Yakshinskiy
;
S. Zalkind
;
R. A. Bartynski
;
R. Caudillo
;
Theodore E. Madey
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet lithography (EUVL);
EUV optics contamination;
TiO_2;
EUV optics lifetime;
benzene;
methyl methacrylate (MMA);
electron-induced reactions;
carbon;
42.
Requirements and results of a full-field EUV OPC flow
机译:
全域EUV OPC流程的要求和结果
作者:
Stephen Jang
;
Lena Zavyalova
;
Brian Ward
;
Kevin Lucas
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV;
OPC;
flare;
shadowing;
3D mask effects;
EUV resist modeling;
43.
Imaging budgets for EUV optics: Ready for 22nm node and beyond
机译:
EUV光学器件的成像预算:准备用于22nm节点及以后
作者:
Marc Bienert
;
Aksel Goehnemeier
;
Oliver Natt
;
Martin Lowisch
;
Paul Graeupner
;
Tilmann Heil
;
Reiner Garreis
;
Koen van Ingen Schenau
;
Steve Hansen
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
imaging;
CDU budget;
simulation;
44.
Modeling and Experiments of Non-Telecentric Thick Mask Effects for EUV Lithography
机译:
EUV平版印刷的非远心厚掩模效应的建模和实验
作者:
Gregory McIntyre
;
Chiew-seng Koay
;
Martin Burkhardt
;
Hiro Mizuno
;
Obert Wood
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
non-telecentric thick mask effects;
EUV lithography;
HV bias;
shadow effect;
edge effects;
45.
Process liability evaluation for EUVL
机译:
EUVL的过程责任评估
作者:
Hajime Aoyama
;
Kazuo Tawarayama
;
Yuusuke Tanaka
;
Daisuke Kawamura
;
Yukiyasu Arisawa
;
Taiga Uno
;
Takashi Kamo
;
Toshihiko Tanaka
;
Toshiro Itani
;
Hiroyuki Tanaka
;
Yumi Nakajima
;
Ryoichi Inanami
;
Kosuke Takai
;
Koji Murano
;
Takeshi Koshiba
;
Kohji Hashimoto
;
Ichiro Mori
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUVL;
device fabrication;
process liability;
flare;
EUV1;
correction;
46.
Compensation of overlay errors due to mask bending and non-flatness for EUV masks
机译:
补偿因EUV掩模的掩模弯曲和不平坦导致的覆盖误差
作者:
Manish Chandhok
;
Sanjay Goyal
;
Steve Carson
;
Seh-Jin Park
;
Guojing Zhang
;
Alan M Myers
;
Michael L Leeson
;
Marilyn Kamna
;
Fabian C Martinez
;
Alan R Stivers
;
Gian F Lorusso
;
Jan Hermans
;
Eric Hendrickx
;
Sanjay Govindjee
;
Gerd Brandstetter
;
Tod Laursen
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
47.
Optimal Character-Size Exploration for Increasing Throughput of MCC Lithographic Systems
机译:
提高MCC光刻系统吞吐量的最佳字符尺寸探索
作者:
Makoto Sugihara
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
maskless lithography;
character projection;
variable-shaped beam;
throughput;
multi-column-cell system;
character size optimization;
48.
PML2: The maskless multibeam solution for the 22nm node and beyond
机译:
PML2:适用于22nm及更高节点的无掩模多光束解决方案
作者:
C. Klein
;
E. Platzgummer
;
J. Klikovits
;
W.Piller
;
H. Loeschner
;
T. Bejdak
;
P. Dolezel
;
V. Kolarik
;
W. Klingler
;
F. Letzkus
;
J. Butschke
;
M. lrmscher
;
M. Witt
;
W. Pilz
;
P. Jaschinsky
;
F. Thrum
;
C. Hohle
;
J. Kretz
;
J.T. Nogatch
;
A. Zepka
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
maskless lithography;
parallel e-beam systems;
multi electron beam;
49.
Step and Flash Imprint Lithography for Manufacturing Patterned Media
机译:
步进和闪存压印光刻技术,用于制造图案媒体
作者:
Cynthia Brooks
;
Gerard M. Schmid
;
Mike Miller
;
Steve Johnson
;
Niyaz Khusnatdinov
;
Dwayne LaBrake
;
Douglas J. Resnick
;
S. V. Sreenivasan
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
step and flash imprint lithography;
S-FIL;
template;
imprint;
patterned media;
50.
DEVELOPMENT OF RESIST PROCESS FOR 5 KV MULTI-BEAM TECHNOLOGY
机译:
5 KV多束技术的抗蚀剂工艺开发
作者:
B. Icard
;
D. Rio
;
P. Veltman
;
B. Kampherbeek
;
C. Constancias
;
L. Pain
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
multi-beam;
lithography;
resists and low electron beam energy;
51.
Stability and imaging of the ASML EUV Alpha Demo Tool
机译:
ASML EUV Alpha演示工具的稳定性和成像
作者:
Jan V. Hermans
;
Bart Baudemprez
;
Gian Lorusso
;
Eric Hendrickx
;
Andre van Dijk
;
Rik Jonckheere
;
Anne-Marie Goethals
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV;
full-field;
scanner;
reticle;
resist;
monitoring;
stability;
CD uniformity;
overlay;
52.
Analysis of Coulomb and Johnsen-Rahbek Electrostatic Chuck Performance in the Presence of Particles for EU V Lithography
机译:
EU V光刻中存在颗粒时的库仑和Johnsen-Rahbek静电吸盘性能分析
作者:
Michael R. Sogard
;
Andrew R. Mikkelson
;
Vasu Ramaswamy
;
Roxann L. Engelstad
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet lithography (EUVL);
EUVL reticle chucking;
electrostatic chucking;
particle chucking effects;
finite element modeling;
53.
EUVL System - Moving Towards Production
机译:
EUVL系统-迈向生产
作者:
Hans Meiling
;
Nico Buzing
;
Kevin Cummings
;
Noreen Harned
;
Bas Hultermans
;
Roel de Jonge
;
Bart Kessels
;
Peter Kuerz
;
Sjoerd Lok
;
Martin Lowisch
;
Joerg Mailman
;
Bill Pierson
;
Christian Wagner
;
Andre van Dijk
;
Eelco van Setten
;
John Zimmerman
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
EUV lithography;
system performance;
sources;
resist images;
devices;
high volume manufacturing;
54.
REBL Nanowriter: Reflective Electron Beam Lithography
机译:
REBL Nanowriter:反射电子束光刻
作者:
Paul Petric
;
Chris Bevis
;
Alan Brodie
;
Allen Carroll
;
Anthony Cheung
;
Luca Grella
;
Mark McCord
;
Henry Percy
;
Keith Standiford
;
Marek Zywno
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
ebeam;
direct write;
rotary stage;
DPG;
maskless;
lithography;
TDI;
gray level;
reflective electron optics;
55.
Full Chip Characterization of Compression Algorithms for Direct Write Maskless Lithography Systems
机译:
直接写入无掩模光刻系统的压缩算法的全芯片特性
作者:
Avideh Zakhor
;
Vito Dai
;
George Cramer
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
56.
Tracking down sources of carbon contamination in EUVL exposure tools
机译:
在EUVL暴露工具中追踪碳污染源
作者:
C. Tarrio
;
R. E. Vest
;
T. B. Lucatorto
;
R. Caudillo
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies》
|
2009年
关键词:
contamination;
outgassing;
vacuum;
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