extreme ultraviolet lithography (EUVL); EUVL reticle chucking; electrostatic chucking; particle chucking effects; finite element modeling;
机译:用于极端紫外光刻的颗粒存在下库仑和Johnsen-Rahbek静电吸盘性能分析
机译:极紫外光刻的库仑和约翰森-拉贝克静电吸盘性能分析
机译:库仑型和Johnsen-Rahbek型双极静电夹具的剩余夹紧力预测
机译:在eUV光刻颗粒存在下对库仑和约翰逊-Rahbek静电夹头性能分析
机译:静电吸盘过程中极端紫外光刻掩模的机械响应分析。
机译:在亲水性二氧化硅纳米粒子存在下静电排斥对增加阴离子表面活性剂表面活性的作用
机译:库仑激励存在下对库仑屏障附近的重离子颗粒转移的量子力学处理