multi-beam; lithography; resists and low electron beam energy;
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机译:电阻率作为衡量基板状态变化的指标:基于微处理器的系统的设计,开发和验证。
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机译:地球电阻率分析为22千伏安
机译:抗蚀技术与加工XII的进展。亚0.25微米光刻的193纳米硅烷化工艺的优化