电子束光刻常用的抗蚀剂工艺技术研究

摘要

电子束光刻技术是推动微电子和微细加工发展的关键技术,尤其在先进掩模制造和纳米加工领域中,起到不可替代的作用.为满足科研和生产的需要,我们中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室长期以来一直开展光学光刻系统的分辨率增强技术和电子束曝光及电子束直写技术研究,取得了很好的应用效果,其中电子抗蚀剂工艺技术是实现高分辨率加工的基础.本文重点介绍电子束光刻中常用的电子抗蚀剂曝光工艺技术优化的问题.