EUVL; extreme ultra violet lithography; EUV exposure tool; projection optics;
机译:尼康用于极端紫外线光刻的光学器件的开发进展
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机译:尼康EUVL开发进度更新 - (PPT)
机译:普遍主义和区域主义:研究联合国的发展十年,以及以通用和区域性方法促进经济和社会发展的OAS联盟的进步。
机译:更新:Choi和Short Fabic监测实现可持续发展目标的平等进度:满足计划生育需求的案例研究
机译:激光等离子EUVL源 - 进展和挑战
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。