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International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
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1.
EUV-induced cleaning in a background gas - (PPT)
机译:
EUV诱导的背景气体清洁 - (PPT)
作者:
D. Ehm. M. van Kampen
;
D. Glushkov. J. de Kuster
;
J. Huijbregtse
;
D. Lopaev
;
V. Ivanov
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
2.
Technology readiness for HVM source collectors - (PPT)
机译:
HVM源收集器的技术准备 - (PPT)
作者:
Renaud MERCIER YTHIER
;
Roland GEYL
;
Xavier BOZEC
;
Slimane DJIDEL
;
Vincent PATOZ
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
3.
3D measurement of ion, neutral debris and EUV radiation distribution - (PPT)
机译:
离子,中性碎片和EUV辐射分布的3D测量 - (PPT)
作者:
A. Giovannini
;
B. Rollinger
;
D. Bleiner
;
N. Chokani
;
R. S. Abhari
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
4.
Study of post-develop defect on typical EUV resist - (PPT)
机译:
典型EUV抗蚀剂开发缺陷的研究 - (PPT)
作者:
Masahiko Harumoto
;
Kazuhito Shigemori
;
Akihiro Hisai
;
Masaya Asai
;
Koji Kaneyam
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
5.
Thermal stability and lifetime scaling of multilayer EUVL optics - (PPT)
机译:
多层EUVL光学的热稳定性和寿命缩放 - (PPT)
作者:
S. Bruijn
;
R. W. E. van de Kruijs
;
A. E. Yakshin
;
F. Bijkerk
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
6.
Highly Sensitive Non-Chemically Amplified Negative Resist for EUVL - (PPT)
机译:
用于EUVL的高敏感性非化学放大负抗蚀剂 - (PPT)
作者:
Masamitsu Shirai
;
Koichi Maki
;
Haruyuki Okamura
;
Koji Kaneyama
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
7.
PRODUCTION OF HIGH-PURITY FUNCTIONAL WATER AT POINT-OF-USE FOR ADVANCED MASK CLEANING PROCESSES - (PPT)
机译:
高纯度功能水在使用点进行高级掩模清洁工艺 - (PPT)
作者:
Annie Xia
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
8.
Novel Ozone-based Cleaning Technique for EUV Masks and Optics Carbon Contamination - (PPT)
机译:
基于新型臭氧的臭氧清洁技术,用于EUV面罩和光学碳污染 - (PPT)
作者:
Toshihisa Anazawa
;
Yasushi Nishiyama
;
Noriaki Takagi
;
Osamu Suga
;
Iwao Nishiyama
;
Toshinori Miura
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
9.
The EUV Mask Metrology Gap - (PPT)
机译:
EUV掩模计量差距 - (PPT)
作者:
Bryan J. Rice
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
10.
Actinic EUV Mask Metrology - (PPT)
机译:
Actinic EUV掩模计量 - (PPT)
作者:
Rainer Lebert
;
Markus Benk
;
Azadeh Farahzadi
;
Larissa Juschkin
;
Stefan Herbert
;
Aleksey Maryasov
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
11.
Development of Novel positive-tone Resists for EUVL - (PPT)
机译:
Euvl - (PPT)新型正音抗蚀剂的开发
作者:
Takanori Owada
;
Hideaki Shiotani
;
Takashi Kashiwamura
;
Mitsuru Shibata
;
Tetsuro Takeya
;
Hiroaki Oizumi
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
12.
Stabilization of IF characteristics by automatic alignment system for collector module alignment - (PPT)
机译:
采用集电器模块对齐的自动对准系统稳定特性 - (PPT)
作者:
Daiki Yamatani
;
Yusuke Teramoto
;
Kazunori Bessho
;
Hiroto Sato
;
Kazuaki Hotta
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
13.
LASER HEATED DISCHARGE PLASMA (LHDP) LITHIUM EUV SOURCE - (PPT)
机译:
激光加热放电等离子体(LHDP)锂EUV源 - (PPT)
作者:
Malcolm W. McGeoch
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
14.
A comprehensive assessment of EUV mask defect printability - (PPT)
机译:
综合评估EUV掩模缺陷可印刷性 - (PPT)
作者:
Kyoungyong Cho
;
In-Yong Kang
;
Joo-on Park
;
InSung Kim
;
Changmin Park
;
Youngmi Lee
;
JinHong Park
;
Chawon Koh
;
JeongHo Yeo
;
Seong-Woon Choi
;
Chan-hoon Park
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
15.
The features of EUV light generation from Sn discharge produced plasma source with rotating disk electrodes - (PPT)
机译:
来自Sn排放产生的等离子体源的EUV光产生具有旋转磁盘电极的特征 - (PPT)
作者:
Vladimir Borisov
;
G. Borisova
;
A. Ivanov
;
Yu. Kiryukhin
;
O. Khristoforov
;
V. Mischenko
;
A. Prokofiev
;
A. Vinokhodov
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
16.
Pattern Shape Dependency of Mask Shadowing Effect and it's correction - (PPT)
机译:
掩模阴影效果的图案形状依赖性及其校正 - (PPT)
作者:
Jun-Taek Park
;
Yoon-Suk Hyun
;
Chang-Moon Lim
;
Suk-kyun Kim
;
Kuen-Do Ban
;
Sunyoung Koo
;
Chang-il Oh
;
Byoung-Ho Nam
;
Chang-Reol Kim
;
HyeongSoo Kim
;
Sungki Park
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
17.
Development Status of EUVL Mask Blank and Substrate - (PPT)
机译:
EUVL掩模坯料和衬底的开发状态 - (PPT)
作者:
Takeru Kinoshita
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
18.
Performance Status of EUV Resist, 24nm HP CNT at MET, and 27nm HP PWA at ADT1 - (PPT)
机译:
EUV抗蚀剂的性能状态,24nm HP CNT,ADT1的27nm HP PWA - (PPT)
作者:
Chawon Koh
;
Jacque Georger
;
Liping Ren
;
Frank Goodwin
;
Stefan Wurm
;
Dominic Ashworth
;
Warren Montgomery
;
Joo-on Park
;
Bill Pierson
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
19.
EUVL Image Placement Error Analysis with a Rotatable Reticle - TIS and Overlay Results - (PPT)
机译:
EUVL图像放置误差分析与可旋转掩模版 - TIS和覆盖结果 - (PPT)
作者:
Liping Ren
;
Sudhar Raghunathan
;
Sander Bouten
;
Sang-in Han
;
John Zimmerman
;
Obert Wood
;
John Hartley
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
20.
Applicability of device fabrication for hp-35-nm wiring with extreme ultraviolet lithography - (PPT)
机译:
HP-35-NM接线与极端紫外线 - (PPT)的适用性 - (PPT)
作者:
H. Aoyama
;
Y. Tanaka
;
K. Tawarayama
;
Y. Arisawa
;
T. Uno
;
T. Kamo
;
D. Kawamura
;
K. Matsunaga
;
T. Tanaka
;
H. Tanaka
;
N. Nakamura
;
E. Soda
;
N. Oda
;
S. Saito
;
I. Mori
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
21.
Static test evaluation of EUV1 full-field exposure tools - (PPT)
机译:
EUV1全场曝光工具的静态试验评估 - (PPT)
作者:
Alan Myers
;
Yashesh A. Shroff
;
Tetsunori Murachi
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
22.
Next Step for Beyond 22nm Node Application Using Full Field Exposure Tool - (PPT)
机译:
使用全场曝光工具超出22nm节点应用程序的下一步 - (PPT)
作者:
Kazuo Tawarayama
;
Hajime Aoyama
;
Kentaro Matsunaga
;
Shunko Magoshi
;
Yukiyasu Arisawa
;
Taiga Uno
;
Yuusuke Tanaka
;
Seiichiro Shirai
;
Hiroyuki Tanaka
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
23.
Development Status of Canon's EUVL Exposure Tool - (PPT)
机译:
佳能EUVL曝光工具的发展状况 - (PPT)
作者:
Akira Miyake
;
Takayuki Hasegawa
;
Hiroyuki Kubo
;
Shigeyuki Uzawa
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
24.
Radiation Hydrodynamic Simulation of Laser-produced Tin Plasmas - (PPT)
机译:
激光产生的锡等离子体的辐射流体动力学模拟 - (PPT)
作者:
A. Sunahara
;
A. Sasaki
;
K. Nishihara
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
25.
Development of Chemically Amplified EUV Resist Suitable for Ultra-Thin Layer Patterning - (PPT)
机译:
化学扩增的EUV抗蚀剂的开发适用于超薄层图案 - (PPT)
作者:
Makoto Shimizu
;
Yuuki Hirai
;
Ken Maruyama
;
Tooru Kimura
;
Toshiyuki Kai
;
Kentaro Matsunaga
;
Gousuke Shiraishi
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
26.
Investigation of Mask Defect Density in Full-Field EUV Lithography - (PPT)
机译:
全场EUV光刻掩模缺陷密度调查 - (PPT)
作者:
R. Jonckheere
;
D. Van den Heuvel
;
M. Lamantia
;
J. Hermans
;
E. Hendrickx
;
A. Goethals
;
G. Vandenberghe
;
K. Ronse
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
27.
Using the 0.3-NA SEMATECH Berkeley MET for sub-22 nm half pitch development - (PPT)
机译:
使用0.3-NA Sematech Berkeley为Sub-22 NM半间距开发 - (PPT)
作者:
Patrick Naulleau
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
28.
High Brightness NGL Multiplexed EUV Light Source for EUV Interferometer, Metrology Inspection - (PPT)
机译:
高亮度NGL多路复用EUV光源用于EUV干涉仪,计量和检查 - (PPT)
作者:
Peter Choi
;
Serguei V. Zakharov
;
Raul Aliaga-Rossel
;
Adrice Bakouboula
;
Otman Benali
;
Philippe Bove
;
Michele Cau
;
Grainne Duffy
;
Blair Lebert
;
Ouassima Sarroukh
;
Edmund Wyndham
;
Clement Zaepffel
;
Vasily S. Zakharov
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
29.
EUV Lithography - Status and Key Challenges for HVM Implementation - (PPT)
机译:
EUV光刻 - HVM实现的状态和关键挑战 - (PPT)
作者:
Sam Sivakumar
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
30.
Towards High-Volume Manufacturing of Logic Devices Using EUV Lithography - (PPT)
机译:
使用EUV光刻 - (PPT)对逻辑器件的高批量生产
作者:
Anthony Yen
;
T. C. Wu
;
Shinn-Sheng Yu
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
31.
EUV lithography implementation on contact and metal interconnect level of a 22nm node 0.099μm~2 6-T SRAM cell - (PPT)
机译:
EUV光刻实现在22nm节点0.099μm〜2 6-t sram细胞的22nm节点的接触和金属互连水平上的实现 - (PPT)
作者:
A. -M. Goethals
;
F. van Roev
;
B. Baudemprez
;
J. Hermans
;
C. Huffman
;
F.Lazzarino
;
I. Pollentier
;
E. Hendrickx
;
R. Jonckheere
;
S. Verhaegen
;
A. Veloso
;
G. Vandenberghe
;
K. Ronse
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
32.
Accurate Models for EUV Simulation and Their Use for Design Correction - (PPT)
机译:
精确的EUV仿真模型及其用于设计校正的用途 - (PPT)
作者:
Gian Francesco Lorusso
;
Jan Hermans
;
Bart Baudemprez
;
U. Klostermann
;
Stephen Jang
;
Lena Zavyalova
;
Jacob Sorensen
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
33.
Evaluation tool development for mirrors-mask degradation of EUV exposure tool optics by contaminations from SoCoMo - (PPT)
机译:
Socomo的污染镜子膜掩模劣化镜面的评价工具开发 - (PPT)
作者:
Hironobu Yabuta
;
Takahiro Inoue
;
Shinsuke Mouri
;
Kazunori Bessho
;
Hiroto Sato
;
Kazuaki Hotta
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
34.
Defect printability of thin absorber mask in EUV lithography with refined LER resist - (PPT)
机译:
用精制LER抗蚀剂缩小薄吸收剂面膜的缺陷可印刷性 - (PPT)
作者:
Takashi Kamo
;
Hajime Aovama
;
Yukiyasu Arisawa
;
Mihoko Kijima
;
Toshihiko Tanaka
;
Osamu Suga
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
35.
EUV: past, present and prospects - (PPT)
机译:
EUV:过去,现在和前景 - (PPT)
作者:
Jos Benschop
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
36.
Implementing E-beam Correction Strategies for Compensation of EUVL Mask Non-flatness - (PPT)
机译:
实现EUVL面罩非平整度补偿的电子束校正策略 - (PPT)
作者:
J. Sohn
;
K. Orvek
;
R. Engelstad
;
P. Vukkadala
;
S. Yoshitake
;
S. Raghunathan
;
T. Laursen
;
J. Zimmerman
;
B. Connolly
;
J. H. Peters
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
37.
Effects of multilayer depositions on the EUV printability and DUV inspectability of substrate pit defects - (PPT)
机译:
多层沉积对底坑缺损的EUV可印刷性和DUV检查性的影响 - (PPT)
作者:
Hwan-Seok Seo
;
Byung-Sup Ahn
;
In-Yong Kang
;
Dong Gun Lee
;
Sungmin Huh
;
Brian Cha
;
Dongwan Kim
;
Seong-Sue Kim
;
Han Ku Cho
;
Kenneth Goldberg
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
38.
Nikon EUVL Development Progress Update - (PPT)
机译:
尼康EUVL开发进度更新 - (PPT)
作者:
Takaharu Miura
;
Katsuhiko Murakami
;
Hidemi Kawai
;
Yoshiaki Kohama
;
Kenji Morita
;
Yukiharu Ohkubo
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
39.
Monitoring EUV Reticle Molecular Contamination on ASML's Alpha Demo Tool - (PPT)
机译:
在ASML的Alpha Demo工具上监控EUV掩模版分子污染 - (PPT)
作者:
Uzodinma Okoroanyanwu
;
Aiqin Jiang
;
Kornelia Dittmar
;
Torsten Fahr
;
Thomas Laursen
;
Obert Wood
;
Kevin Cummings
;
Christian Holfeld
;
Jan-Hendnk Peters
;
Bruno La Fontaine
;
Eric Gullikson
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
40.
Progress in Actinic mask Imaging: The closest look at lines, defects, and phase roughness - (PPT)
机译:
光化面膜成像的进展:最接近的线,缺陷和相位粗糙度 - (PPT)
作者:
Kenneth A. Goldberg
;
Iacopo Mochi
;
Patrick Naulleau
;
Simi George
;
Sungmin Sean Huh
;
Ted Liang
;
Pei-Yang Yan
;
Bruno LaFontaine
;
Tom Wallow
;
Chris Clifford
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
41.
Development of Mask Contamination/Inspection System by coherent EUV light - (PPT)
机译:
通过连贯的EUV光线开发面罩污染/检查系统 - (PPT)
作者:
Sanasul Lee
;
Chang Young Jeong
;
Seungyu Rah
;
Donggun Lee
;
Seong-Su Kim
;
Han-Ku Cho
;
Jinho Ahn
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
42.
A Study of Real Native Defects on EUV Mask Blanks Using a DUV Blank Inspection Tool and SEMATECH AIT - (PPT)
机译:
使用DUV空白检测工具和Sematech AIT - (PPT)对EUV掩模空白的真正缺陷的研究 - (PPT)
作者:
Sungmin Huh
;
Patrick Kearney
;
Abbas Rastegar
;
Frank Goodwin
;
Stefan Wurm
;
Kenneth Goldberg
;
Lacopo Mochi
;
Toshio Nakajima
;
Masahiro Kishimoto
;
Mitsuhiko Komakine
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
43.
Laser Inspection Induced Damage in Si and Ru Cpaaed EUVL ML - (PPT)
机译:
激光检查诱导Si和Ru CPAAED EUVL ML的损伤 - (PPT)
作者:
Pei-yang Yan
;
Andy Ma
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
44.
Dynamic scan operation of actinic EUVL mask blank inspection system with TDI mode - (PPT)
机译:
具有TDI模式的散光EUVL掩模空白检测系统的动态扫描操作 - (PPT)
作者:
Tsuneo Terasawa
;
Takeshi Yamane
;
Toshihiko Tanaka
;
Osamu Suga
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
45.
Present status of laser-produced plasma EUV light source - (PPT)
机译:
激光生产等离子体EUV光源的现状 - (PPT)
作者:
Akira Sumitani
;
Kouji Kakizaki
;
Hiroshi Komori
;
Tamotsu Abe
;
Yukio Watanabe
;
Takanobu Ishihara
;
Tsukasa Hori
;
Junichi Fujimoto
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
46.
EUV lithography at the 22-nm technology node - (PPT)
机译:
22-NM技术节点的EUV光刻 - (PPT)
作者:
Oberi Wood
;
Chiew-Seng Koay
;
Karen Petrillo
;
Hiroyuki Mizuno
;
Sudhar Raghunathan
;
John Arnold
;
Dave Horak
;
Martin Burkhardt
;
Gregory Mcintyre
;
Yunfet Deng
;
Bruno La Fontaine
;
Uzo Okoroanyanwu
;
Anna Tchikoulaeva
;
Tom Wallow
;
James H.-C. Chen
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
47.
EUVL Masks : Progresses and Issues - (PPT)
机译:
EUVL Masks:进展和问题 - (PPT)
作者:
Naoya Hayashi
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
48.
Characterization of EUV resist related outgassing and contamination - (PPT)
机译:
EUV抗蚀剂相关除差和污染的表征 - (PPT)
作者:
I. Pollentier
;
M. Berger
;
R. Gronheid
;
M. Goethals
;
M. Leeson
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
49.
How good will EUV masks need to be to meet LER requirements? - (PPT)
机译:
EUV面具有多好需要满足LER要求? - (PPT)
作者:
Patrick Naulleau
;
Simi George
;
Brittany McClinton
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
50.
Sn DPP SoCoMo Integration - (PPT)
机译:
Sn DPP Socomo集成 - (PPT)
作者:
Marc Corthout
;
Masaki Yoshioka
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
51.
IEUVI Update - (PPT)
机译:
IEUVI更新 - (PPT)
作者:
Paolo Gargini
;
David Chan
;
Jacque Georger
;
Frank Goodwin
;
George Huang
;
Bryan Rice
;
Andrea Wuest
;
Stefan Wurm
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
52.
Feasibility study of EUVL for high volume production applying an electrical test chip - (PPT)
机译:
EUVL对高批量生产的可行性研究应用电气测试芯片 - (PPT)
作者:
S. Kyoh
;
Y. Nakajima
;
R. Inanami
;
S. Tanaka
;
A. Kobiki
;
E. Shiobara
;
Y. Kikuchi
;
D. Kawamura
;
K. Takai
;
K. Murano
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
53.
Assessing EUV Mask Defectivity - (PPT)
机译:
评估EUV掩模缺陷 - (PPT)
作者:
Bruno La Fontaine
;
Anna Tchikoulaeva
;
Uzodinma Okoroanyanwu
;
Obert Wood
;
Paul Ackmann
;
Christian Holfeld
;
Karsten Bubke
;
Jan Hendrik Peters
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
54.
EUVL Projection on Memory Device Roadmap - (PPT)
机译:
内存设备路线图的EUVL投影 - (PPT)
作者:
Jeong-Ho Yeo
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
55.
Improvements for the Small Field Exposure Tool (SFET) in Selete - (PPT)
机译:
SELETE - (PPT)中小型曝光工具(SFET)的改进
作者:
Seiichiro Shirai
;
Shunko Magoshi
;
Tawarayama Kazuo
;
Yuusuke Tanaka
;
Miyoshi Seki
;
Hiroyuki Tanaka
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
56.
Acid Amplifiers Designed For EUV Resists Can Help Beat the RLS Trade-off - (PPT)
机译:
为EUV抗蚀剂设计的酸性放大器可以帮助打击RLS折衷 - (PPT)
作者:
Seth Kruger
;
Craig Higgins
;
Srividya Revuru
;
Sara Cruz
;
Vaida Auzelyte
;
Pratap Sahoo
;
Harun Solak
;
Robert Brainard
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
57.
Protection Efficiency of SEMI Standard-Compliant EUV Pods - (PPT)
机译:
SEMI标准符合EUV PODS的保护效率 - (PPT)
作者:
G. Huang
;
J. Zimmerman
;
J. Lystad
;
C. Montgomery
;
M. Kishimoto
;
K. Orvek
;
F. Goodwin
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
58.
Bottom Extreme-Ultraviolet-Sensitive Coating for Evaluation of the Absorption Coefficient of Ultrathin Film - (PPT)
机译:
底部极端紫外线敏感涂层,用于评估超薄薄膜的吸收系数 - (PPT)
作者:
Hayato Hijikata
;
Takahiro Kozawa
;
Seiichi Tagawa
;
Satoshi Takei
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
59.
EUV lithography with the Alpha Demo Tools - (PPT)
机译:
EUV光刻与Alpha Demo工具 - (PPT)
作者:
Sjoerd Lok
;
Eelco van Setten
;
Bart Kesseis
;
Sander Bouten
;
Andre van Dljk
;
Olav Frijns
;
Frans Blok
;
John Zimmerman
;
Kees Feenstra
;
Hans Meiling
;
Bas Hultermans
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
60.
Inhibition of deposition and removal of carbon films on the multilayer surface by EUV irradiation in the presence of water vapor, oxygen and ozone gases - (PPT)
机译:
通过EUV辐射在水蒸气,氧气和臭氧气体存在下抑制多层表面上的碳膜粘膜 - (PPT)
作者:
M. Niibe
;
K. Koida
;
T. Nakayama
;
S. Terashima
;
A. Miyake
;
H. Kubo
;
Y. Kakutani
;
S. Matsunari
;
T. Aoki
;
S. Kawata
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
61.
The dry etching performance of EUV mask absorbers - (PPT)
机译:
EUV面罩吸收剂的干蚀刻性能 - (PPT)
作者:
Masashi Kawashita
;
Hiroyuki Endo
;
Masato Kon
;
Keishi Tanaka
;
Yasutaka Kikuchi
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
62.
Optimum Plasma Conditions for LPP-and-LA-DPP-EUV Sources - (PPT)
机译:
LPP-and-La-DPP-EUV来源的最佳血浆条件 - (PPT)
作者:
Katsunobu Nishihara
;
Atsushi Sunahara
;
Akira Sasaki
;
Hiroshi Komori
;
Akira Sumitani
;
Kiichiro Uchino
;
Yusuke Teramoto
;
Kazuaki Hotta
;
Eiki Hotta
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
63.
Main chain decomposable STAR shaped polymer for EUV lithography - (PPT)
机译:
主要链可分解的星形光刻聚合物 - (PPT)
作者:
Jun Iwashita
;
Taku Hirayama
;
Kenta Suzuki
;
Sachiko Yoshizawa
;
Kenri Konno
;
Takeshi Iwai
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
64.
Optics for EUV lithography - (PPT)
机译:
EUV光刻的光学 - (PPT)
作者:
Peter Kuerz
;
Thure Boehm
;
Udo Dinger
;
Hans-Juergen Mann
;
Stephan Muellender
;
Manfred Dahl
;
Martin Lowisch
;
Michael Muehlbeyer
;
Oliver Natt
;
Siegfried Rennon
;
Wolfgang Seitz
;
Franz-Josef Stickel
;
Erik Sohmen
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
65.
Critical Review of EUV Reticle Inspection Options - (PPT)
机译:
EUV掩皮检查选项的批判性评论 - (PPT)
作者:
Daniel Wack
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
66.
Development and Performance of Grazing and Normal Incidence Collectors for the HVM DPP and LPP Sources - (PPT)
机译:
HVM DPP和LPP来源放牧和正常发病员的开发与表现 - (PPT)
作者:
G. Bianucci
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
67.
Characterization of EUV ADT for 3X nm node DRAM patterning - (PPT)
机译:
3x NM节点DRAM图案的EUV ADT的表征 - (PPT)
作者:
Sunyoung Koo
;
Yoonsuk Hyun
;
Keundo Ban5 Seokkyun Kim
;
Chang-Moon Lim
;
Hyeong Soo Kim
;
Sungki Park
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
68.
Experimental Determination and Accurate Modeling of the EUV ADT flare - (PPT)
机译:
EUV ADT Flare的实验测定和准确建模 - (PPT)
作者:
Gian Lorusso
;
Eric Hendrickx
;
Germain Fenger
;
Michael Lam
;
James Word
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
69.
EUV resist materials and processing at Selete - (PPT)
机译:
EUV抵抗SELETE的材料和加工 - (PPT)
作者:
Kentaro Matsunaga
;
Hiroaki Oizumi
;
Koji Kaneyama
;
Gousuke Shiraishi
;
Kazuyuki Matsumaro
;
Julius Joseph Santillian
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
70.
REALIZATION OF EUV PELLICLE WITH SINGLE CRYSTAL SILICON MEMBRANE - (PPT)
机译:
单晶硅膜的EUV薄膜的实现 - (PPT)
作者:
Shoji Akiyama
;
Yoshihiro Kubota
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
71.
New developments in cleaning of EUVL mirrors and reticles - (PPT)
机译:
清洁EUVL镜子和矫形器的新发展 - (PPT)
作者:
N. Koster
;
R. Koops
;
T. Huijser
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
72.
EUV mask pattern defect inspection using 199-nm inspection optics - (PPT)
机译:
EUV掩模模式使用199-NM检查光学器件缺陷检查 - (PPT)
作者:
Tsuyoshi Amano
;
Hiroyuki Shigemura
;
Noriaki Takagi
;
Tsuneo Terasawa
;
Osamu Suga
;
Hideaki Hashimoto
;
Masanori Saito
;
Ryoichi Hirano
;
Nobutaka Kikuiri
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
73.
EUV mask pattern defect inspection for 32/22nm node - (PPT)
机译:
EUV掩模模式缺陷检查32/22NM节点 - (PPT)
作者:
Tsukasa Abe
;
Yuichi Inazuki
;
Takeya Shimomura
;
Tadahiko Takikawa
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
;
Fei Wang
;
Long (Eric) Ma
;
Yan Zhao
;
Chiyan Kuan
;
Hong Xiao
;
Jack Jau
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
74.
Observation of carbon contamination growth on SFET exposed mask, and its modeling - (PPT)
机译:
SFET暴露面膜上的碳污染生长的观察及其造型 - (PPT)
作者:
Iwao Nishiyama
;
Toshihisa Anazawa
;
Yasushi Nishiyama
;
Yusuke Tanaka
;
Yukiyasu Arisawa
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
75.
Latent Image Created using Selete Small-Field Exposure Tool for Extreme Ultraviolet Lithography - (PPT)
机译:
使用Selete小型场曝光工具为极端紫外线 - (PPT)创建的潜在图像 - (PPT)
作者:
Takahiro Kozawa
;
Hiroaki Oizumi
;
Toshiro Itani
;
Seiichi Tagawa
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
76.
LPP EUV Source Development and HVM Productization - (PPT)
机译:
LPP EUV源开发和HVM生产化 - (PPT)
作者:
David C. Brandt
;
Igor V. Fomenkov
;
Alex I. Ershov
;
William N. Partlo
;
David W. Myers
;
Richard L. Sandstrom
;
Norbert R. Bowering
;
Alexander N. Bykanov
;
Georgiy O. Vaschenko
;
Oleh V. Khodykin
;
Shailendra N. Srivastava
;
Imtiaz Ahmad
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
77.
Flare Calculation on EUV Optics - (PPT)
机译:
EUV光学耀斑计算 - (PPT)
作者:
Masayuki Shiraishi
;
Tetsuya Oshino
;
Katsuhiko Murakami
;
Hiroshi Chiba
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
78.
EUV Resists based on Low Acid Diffusion - (PPT)
机译:
基于低酸扩散的EUV抗蚀剂 - (PPT)
作者:
James W. Thackeray
;
Emad Aqad
;
Su Jin Kang
;
Kathleen Spear-Alfonso
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
79.
EUVL into production - Update on ASML's NXE platform - (PPT)
机译:
EUVL进入生产 - 在ASML的NXE平台上更新 - (PPT)
作者:
Judon Stoeldraijer
;
David Ockwell
;
Christian Wagner
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
80.
Strategy and Feasibility of Defect-free Mask Fabrication to Enable EUVL - (PPT)
机译:
无缺陷面膜制造的策略和可行性使EUVL - (PPT)
作者:
Ted Liang
;
Guojing Zhang
;
Sunny Son
;
Robert Chen
;
Sang Lee
;
Michael Leeson
;
Pei-yang Yan
;
Andy Ma
;
Long He
;
Gilroy Vandentop
;
Firoz Ghadiali
;
Bennett Olson
;
Xiangyang Liu
;
Cheng-hsin Ma
;
Eric Lanzendorf
;
Barry Lieberman
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
81.
EUV Defects - Kevin Cummings - (PPT)
机译:
EUV缺陷 - Kevin Cummings - (PPT)
作者:
Brian Niekrewicz
;
Youri van Dommelen
;
Thomas Laursen
;
Robert Watso
;
John Zimmerman
;
Aiqin Jiang
;
Bart Kessels
;
Sander Bouten
;
Robert Routh
;
Liping Ren
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
82.
Evaluation Results of a New EUV Reticle pod based on SEMI E152-0709 - (PPT)
机译:
基于SEMI E152-0709的新EUV掩模版POD的评估结果 - (PPT)
作者:
Kazuya Ota
;
Masami Yonekawa
;
Takao Taguchi
;
Osamu Suga
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
83.
Assessment of Resist Readiness for 22 hp EUV Lithography - (PPT)
机译:
评估22 HP EUV光刻的抗拒准备 - (PPT)
作者:
Roman Caudillo
;
Manish Chandhok
;
Grant M. Kloster
;
E. Steve Putna
;
Uday Shah
;
Todd R. Younkin
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
84.
Laser-produced plasma source for EUV lithography - (PPT)
机译:
EUV光刻激光产生的等离子体源 - (PPT)
作者:
Hakaru Mizoguchi
;
Akira Sumitani
;
Hiroshi Komori
;
Tamotsu Abe
;
Yukio Watanabe
;
Takanobu Ishihara
;
Tsukasa Hori
;
Kouji Kakizaki
;
Junichi Fujimoto
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
85.
Using a 193-nm inspection tool for multiplayer mask blank inspection - (PPT)
机译:
使用193-NM检查工具进行多人屏蔽空白检查 - (PPT)
作者:
Stan Stokowski
;
Dan Wack
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
86.
Future of Memory devices and EUV lithography - (PPT)
机译:
内存设备和EUV光刻的未来 - (PPT)
作者:
Hyeong Soo Kim
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
87.
Backside Feature Transfer during Electrostatic Chucking of Masks - (PPT)
机译:
静电夹持面罩的背面特征传输 - (PPT)
作者:
Sanjay Govindjee
;
Gerd Brandstetter
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
88.
Resolution, LWR, and sensitivity improvement on polymer-based resist materials - (PPT)
机译:
聚合物基抗蚀剂材料的分辨率,LWR和敏感性改进 - (PPT)
作者:
Shinji Tarutani
;
Hideaki Tsubaki
;
Tooru Tsuchihashi
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
89.
Actinic imaging of known native defects on a full-field mask - (PPT)
机译:
全场掩模上已知的本地缺陷的光化成像 - (PPT)
作者:
lacopo Mochi
;
Kenneth A. Goldberg
;
Bruno LaFontaine
;
Obert Wood II
;
Anna Tchikoulaeva
;
Christian Holfeld
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
90.
Non-Traditional Molecular Resist Designs: Cationic Polymerization - (PPT)
机译:
非传统分子抗蚀剂设计:阳离子聚合 - (PPT)
作者:
Todd R. Younkin
;
Wang Yueh
;
Steve Putna
;
Richard Lawson
;
Laren M. Tolbert
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
91.
Lessons Learned from Correlation between EUV Mask Inspection, Blank Inspection and Wafer Print Analysis - (PPT)
机译:
从EUV掩模检查,空白检查和晶圆打印分析之间的相关性学习的经验教训 - (PPT)
作者:
R. Jonckheere
;
D. van den Heuvel
;
T. Abe
;
H. Hashimoto
;
C. Holfeld
;
J. Hermans
;
E. Hendrickx
;
A. Goethals
;
G. Vandenberghe
;
K. Ronse
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
92.
EUV resist performance on 22nm CH and on 22nm L/S - (PPT)
机译:
EUV抵抗22nm CH和22nm L / S - (PPT)的性能
作者:
H. F. Hoefnagels
;
S. Wang
;
C. Verspaget
;
R. Maas
;
T. Wallow
;
D. Civay
;
A. Fumar-Pici
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
93.
Scalability of EUV Interference lithography to sub-10 nm half pitch - (PPT)
机译:
EUV干扰光刻的可扩展性与Sub-10 nm半间距 - (PPT)
作者:
S. Danylyuk
;
H. Kim
;
S. Brose
;
L. Juschkin
;
K. Bergmann
;
P. Loosen
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
94.
EUVL multilayer mirror oxidation modeling - (PPT)
机译:
EUVL多层镜氧化建模 - (PPT)
作者:
Tsuneyuki Hagiwara
;
Tetsuya Oshino
;
Noriaki Kandaka
;
Takashi Yamaguchi
;
Atsushi Yamazaki
;
Katsuhiko Murakami
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
95.
Fabrication of Adaptive Mirrors for Extreme Ultraviolet Lithography - (PPT)
机译:
适用于极端紫外线光刻的自适应镜的制造 - (PPT)
作者:
Muharrem Bayraktar
;
Anuj Chopra
;
Werner A. Wessels
;
Chris J. Lee
;
Fred A. van Goor
;
Gertjan Koster
;
Guus Rijnders
;
Fred Bijkerk
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
96.
Laser Produced Plasma EUV Source Development for Mass Production of sub-20nm Devices - (PPT)
机译:
激光产生的等离子体EUV源开发用于批量生产的子20NM器件 - (PPT)
作者:
Igor V. Fomenkov
;
D. C. Brandt
;
D. W. Myers
;
D. J. Brown
;
A. I. Ershov
;
R. L. Sancistrom
;
G. O. Vaschenko
;
N. R. Bowering
;
P. Das
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
97.
Nanoparticle detection limits of TNO's Rapid Nano: modeling and experimental results - (PPT)
机译:
TNO快速纳米纳米粒子检测限制:建模与实验结果 - (PPT)
作者:
Peter van der Walle
;
Pragati Kumar
;
Dmitry Ityaksov
;
Richard Versluis
;
Diederik J. Maas
;
Olaf Kievit
;
Jochem Janssen
;
Jacques C. J. van der Donck
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
98.
Imaging Ellipsometry - (PPT)
机译:
成像椭圆测定法 - (PPT)
作者:
Maarten van Kampen
;
Edgar Osorio
;
Demian Rozendaal
;
Luc Stevens
;
John de Kuster
;
Vadim Banine
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
99.
Status of EUV Metrology at PTB - (PPT)
机译:
PTB的EUV计量状态 - (PPT)
作者:
Christian Laubis
;
Frank Scholze
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
100.
Demonstration of fast wide angle scatterometry for CD metrology using laboratory DPP-XUV source - (PPT)
机译:
使用实验室DPP-XUV源的CD计量快速广角散射测量法 - (PPT)
作者:
T. Missalla
;
U. Wiesemann
;
W. Diete
;
R. Lebert
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
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