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具有单多晶硅层存储器单元的非易失性存储器器件

摘要

一种非易失性存储器器件,包括:本体(12),至少容纳第一半导体阱(14)和第二半导体阱(15);绝缘结构(27);以及至少一个非易失性存储器单元(2,2’)。该单元(2,2’)包括:在第一阱(14)中的至少一个第一控制区域(16);在第二阱(15)中的传导区域(18‑20);以及浮置栅极区域(23),其在第一阱(14)和第二阱(15)的一部分之上延伸,电容性地耦合到第一控制区域(16)并且与传导区域(18‑20)一起形成浮置栅极存储器晶体管(30)。绝缘结构(27)包括:第一绝缘区域(28),其将浮置栅极区域(23)与第一控制区域(16)以及与传导区域(18‑20)分开,并且具有第一厚度(D1);以及第二绝缘区域(29),其将浮置栅极区域(23)与第一控制区域(16)外部的第一阱(14)分开,并且具有大于第一厚度(D1)的第二厚度(D2)。

著录项

  • 公开/公告号CN103515393B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 意法半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN201310273190.X

  • 申请日2013-06-25

  • 分类号H01L27/11521(20170101);H01L29/423(20060101);H01L29/788(20060101);G11C16/04(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 意大利阿格拉布里安扎

  • 入库时间 2022-08-23 10:10:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-20

    授权

    授权

  • 2015-07-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/115 申请日:20130625

    实质审查的生效

  • 2014-01-15

    公开

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