首页> 中国专利> 三层多晶硅嵌入式非易失性存储器单元及其制造方法

三层多晶硅嵌入式非易失性存储器单元及其制造方法

摘要

包括非易失性随机存取存储器(NVRAM)阵列的逻辑芯片和其制造方法。该芯片包括各种器件,其栅在三层多晶硅中的一层或多层上。芯片逻辑使用普通FET,阵列支持包括高压FET。逻辑和支持都是CMOS。该芯片逻辑内的普通FET的栅由第三层或最高层多晶硅实现。第三层多晶硅同样用做高压FET和阵列字线的掩模,而两者都以第二层多晶硅为栅。第一层多晶硅只用做单元浮栅。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 27/115 授权公告日:20030806 终止日期:20181227 申请日:19991227

    专利权的终止

  • 2017-12-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L27/115 登记生效日:20171123 变更前: 变更后: 申请日:19991227

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-12-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L27/115 登记生效日:20171123 变更前: 变更后: 申请日:19991227

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-12-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 27/115 登记生效日:20171123 变更前: 变更后: 申请日:19991227

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-12-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 27/115 登记生效日:20171123 变更前: 变更后: 申请日:19991227

    专利申请权、专利权的转移

  • 2003-08-06

    授权

    授权

  • 2003-08-06

    授权

    授权

  • 2003-08-06

    授权

    授权

  • 2000-08-23

    公开

    公开

  • 2000-08-23

    公开

    公开

  • 2000-08-23

    公开

    公开

  • 2000-05-31

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 2000-05-31

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 2000-05-31

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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