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机译:具有HfO $ _2 $电荷陷阱层的Pi-Gate纳米线多晶硅TFT非易失性存储器的综合研究
Department of Engineering and System Science, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan;
Hafnium Oxide (HfO$_2$); nanowire; nonvolatile memory (NVM); pi-gate; polycrystalline silicon (poly-Si); thin-film transistor (TFT);
机译:具有纳米晶体铟-镓-锌-氧化物电荷陷阱层的多晶硅纳米线非易失性存储器
机译:以Dy掺杂的HfO_2作为电荷陷阱层和Al_2O_3作为阻挡层的改进的电荷陷阱非易失性存储器
机译:HfO_2 / HfAlO / HfO_2纳米层压电荷陷阱层,用于高性能非易失性存储设备应用
机译:HfO
机译:电荷捕获非易失性半导体存储器件的设计,表征和建模。
机译:半导体:基于并五苯/ P13 /并五苯作为电荷传输层和陷阱层的有机半导体异质结构的高性能非易失性有机场效应晶体管存储器(Adv。Sci。8/2017)
机译:高性能非易失性存储应用中HfO2膜的缺陷状态和电荷俘获特性