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16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management
16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management
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1.
Application of alternating phase-shifting masks to 200-nm contact holes,
机译:
将交替相移掩模应用于200 nm接触孔,
作者:
Sung-Chul Lim
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Yongin-Gun Kyungki-Do
;
South Korea
;
Sang-Gyun Woo
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Yongin-gun Kyungki-do
;
South Korea
;
Chun-Geun Park
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Paldal-Ku
;
Suwon City
;
South Korea
;
Young-Bum Koh
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Yongin-Gun Kyungki-Do
;
South Korea.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
2.
Exposure of the OCG895i resist at the visible 413-nm Kr-ion line in a laser maskwriter
机译:
OCG895i抗蚀剂在激光掩膜机中可见的413 nm Kr离子线上的曝光
作者:
Torbjorn Sandstroem
;
Micronic Laser Systems AB
;
Taeby
;
Sweden
;
Peter Henriksson
;
Micronic Laser Systems AB
;
Taeby
;
Sweden.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
3.
History and future of mask making
机译:
口罩制造的历史和未来
作者:
Kenneth Levy
;
KLA Instruments Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
4.
Improvement of CD uniformity with PBS by optimizing the crossover development step
机译:
通过优化交叉开发步骤,用PBS改善CD均匀性
作者:
Robert L. Dean
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Charles A. Sauer
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
5.
Efficiency analysis of mask fabrication with 1-Gb-DRAM storage node layer
机译:
1-Gb-DRAM存储节点层的掩模制造效率分析
作者:
Oscar Han
;
LG Semicon Co.
;
Ltd.
;
Cheongju
;
South Korea
;
Byeong-Chan Kim
;
LG Semicon Co.
;
Ltd.
;
Cheongju
;
South Korea
;
Hong-Bae Park
;
LG Semicon Co.
;
Ltd.
;
Cheongju
;
South Korea
;
In-Seok Lee
;
LG Semicon Co.
;
Ltd.
;
Cheongju
;
South Korea.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
6.
Correction method for radial effect caused by spin process
机译:
旋转过程引起的径向效应的校正方法
作者:
Jin-Min Kim
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Seong-Woon Choi
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Yongin-City Kyungki-Do
;
South Korea
;
Byung-Cheol Cha
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon ngki-Do
;
South Korea
;
Hee-Sun Yun
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Jung-Min Sohn
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Yongin-City Kyungki-Do
;
South Korea.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
7.
Data-processing improvements for photomask pattern generators
机译:
光掩模图案发生器的数据处理改进
作者:
James L. Speidell
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Steven A. Cordes
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
A.Ferry
;
RTS Inc.
;
Hampton
;
NH
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
8.
Evaluation of a fast and flexible OPC package: OPTISSIMO
机译:
快速灵活的OPC软件包评估:OPTISIMO
作者:
Wilhelm Maurer
;
Siemens AG
;
Munich
;
Germany
;
Thomas Waas
;
aiss GmbH
;
Munich
;
Germany
;
Hans Eisenmann
;
aiss GmbH
;
Munich
;
Germany.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
9.
Advanced model for resist heating effect simulation in electron-beam lithography
机译:
电子束光刻中抗蚀剂热效应仿真的高级模型
作者:
Sergey V. Babin
;
Set-Service
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
V.V. Kozunov
;
Set-Service
;
Moscow
;
Russia
;
I.Y. Kuzmin
;
Set-Service
;
Moscow
;
Russia.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
10.
Performance data obtained on a new mask metrology tool
机译:
在新的掩模计量工具上获得的性能数据
作者:
Klaus-Dieter Roeth
;
Leica Mikroskopie und Systeme GmbH
;
Wetzlar
;
Germany
;
Carola Blaesing-Bangert
;
Leica Mikroskopie und Systeme GmbH
;
Wetzlar
;
Germany
;
John M. Whittey
;
Leica Inc.
;
Manteca
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
11.
SELID: a new 3D simulator for e-beam lithography
机译:
SELID:用于电子束光刻的新型3D仿真器
作者:
Anja Rosenbusch
;
Sigma-C GmbH
;
Ottobrunn
;
Germany
;
Nikos Glezos
;
Institute of Microelectronics NCSR Demokritos
;
Attikis
;
Greece
;
Magdalena Kalus
;
Fraunhofer Institut fuer Festkoerpertechnologie
;
Munich
;
Germany
;
Iannis Raptis
;
Institute of Microelectronics NCSR Demokritos
;
Attikis
;
Greece.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
12.
Phase measurement using Hg-Xe lamp and KrF excimer laser
机译:
使用Hg-Xe灯和KrF准分子激光进行相位测量
作者:
Katsuki Oohashi
;
Toshiba Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Takeshi Fujiwara
;
Toshiba Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Takehiko Nomura
;
Toshiba Corp.
;
Yokohama
;
Japan
;
Akira Ono
;
Toshiba Corp.
;
Yokohama
;
Japan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
13.
Benchmark study of mask writer lithography systems
机译:
掩模写入机光刻系统的基准研究
作者:
Larry Weins
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Wayne Smith
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
14.
Chemically amplified resist process for 0.25-um-generation photomasks
机译:
0.25um代光掩模的化学放大抗蚀剂工艺
作者:
Mikio Katsumata
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hiroichi Kawahira
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Minoru Sugawara
;
Sony Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Satoru Nozawa
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
15.
Development of deep-UV MoSi-based embedded phase-shifting mask (EPSM) blanks
机译:
基于深紫外MoSi的嵌入式相移掩模(EPSM)坯料的开发
作者:
Masao Ushida
;
HOYA Corp.
;
Yamanashi
;
Japan
;
Masaru Mitsui
;
HOYA Corp.
;
Yamanashi
;
Japan
;
Kimihiri Okada
;
HOYA Corp.
;
Yamanashi
;
Japan
;
Yasushi Ohkubo
;
HOYA Corp.
;
Hachioji Tokyo
;
Japan
;
Hideki Suda
;
HOYA Corp.
;
Tokyo
;
Japan
;
Hideo Kobayashi
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan
;
Keishi Asakawa
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
16.
Evaluation criteria for e-beam mask writing systems
机译:
电子束口罩书写系统的评估标准
作者:
Sheldon M. Kugelmass
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
John T. Poreda
;
Lepton
;
Inc.
;
Walnut Creek
;
CA
;
USA
;
Carl Rose
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
17.
Improved pattern placement in membrane mask making
机译:
改进了膜掩模制作中的图案放置
作者:
F. Keith Perkins
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Christie R. Marrian
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Martin C. Peckerar
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
18.
Materials screening for attenuating embedded phase-shift photoblanks for DUV and 193-nm photolithography
机译:
用于DUV和193 nm光刻的衰减嵌入式相移光敏坯的材料筛选
作者:
Peter F. Carcia
;
DuPont Co. Central Research
;
Wilmington
;
DE
;
USA
;
Roger H. French
;
DuPont Co. Central Research
;
Wilmington
;
DE
;
USA
;
K.G. Sharp
;
DuPont Co. Central Research
;
Wilmington
;
DE
;
USA
;
J.S. Meth
;
DuPont Co. Central Research
;
Wilmington
;
DE
;
USA
;
Bruce W. Smith
;
Rochester Institute of Technology
;
Rochester
;
NY
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
19.
On-product metrology results from MEBES 4-TFE System
机译:
MEBES 4-TFE系统的产品计量结果
作者:
Christopher P. Braun
;
Lucent Technologies
;
Bath
;
PA
;
USA
;
Frederick R. Peiffer
;
Lucent Technologies
;
Allentown
;
PA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
20.
Optimization of lithography and CD control using GHOST proximity correction with a MEBES 4500 system
机译:
使用MEBES 4500系统使用GHOST邻近校正来优化光刻和CD控制
作者:
Robert L. Dean
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
21.
Pinhole defect detection and printability prediction
机译:
针孔缺陷检测和适印性预测
作者:
Franklin D. Kalk
;
DuPont Photomasks
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Anthony Vacca
;
KLA Instruments Inc.
;
Cedar Park
;
TX
;
USA
;
Peter Radcliff
;
DuPont Photomasks
;
Inc.
;
Round Rock
;
TX
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
22.
Digital interface to photomask vendors
机译:
与光罩供应商的数字接口
作者:
Jane Wachinski
;
Lucent Technologies
;
Allentown
;
PA
;
USA
;
William R. Tennis
;
Lucent Technologies
;
Allentown
;
PA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
23.
Evaluation of a new photomask CD metrology tool
机译:
评估新的光掩模CD计量工具
作者:
Leonard F. Dubuque
;
IBM Microelectronics Div.
;
Jericho
;
VT
;
USA
;
Nick Doe
;
Technical Instruments Co.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Patrick St. Cin
;
Technical Instruments Co.
;
San Francisco
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
24.
Mask fabrication rules for proximity-corrected patterns
机译:
邻近校正图案的掩膜制作规则
作者:
Michael L. Rieger
;
Precim Co.
;
Portland
;
OR
;
USA
;
John P. Stirniman
;
Precim Co.
;
Portland
;
OR
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
25.
Mask specifications for 193-nm lithography
机译:
193 nm光刻的掩模规格
作者:
Wilhelm Maurer
;
Siemens AG
;
Munich
;
Germany.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
26.
Advances in process matching for rules-based optical proximity correction
机译:
用于基于规则的光学接近度校正的过程匹配方面的进展
作者:
Oberdan W. Otto
;
Trans Vector Technologies
;
Inc.
;
Camarillo
;
CA
;
USA
;
Richard C. Henderson
;
Trans Vector Technologies
;
Inc.
;
Camarillo
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
27.
Photolithography challenges for the micromachining industry
机译:
微机械加工行业的光刻挑战
作者:
David Craven
;
Ultratech Stepper
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
28.
Application of direct-write electron-beam lithography for deep-submicron fabrication
机译:
直写电子束光刻技术在深亚微米制造中的应用
作者:
Author(s): Shyi-Long Shy National Nano Device Lab. Hsinchu Taiwan
;
Jen Y. Yew National Nano Device Lab. Hsinchu Taiwan
;
Kazumitsu Nakamura National Nano Device Lab. Hsinchu Taiwan
;
C.Y. Chang National Nano Device Lab. Hsinchu Taiwan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
29.
Contamination removal from photomasks using a dry laser-assisted cleaning technology
机译:
使用干激光辅助清洁技术去除光掩模上的污染物
作者:
Audrey C. Engelsberg
;
Radiance Services Co.
;
Milton
;
VT
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
30.
Critical dimension photomask metrology tool requirements for 0.25 um and future microlithography
机译:
0.25微米及以后的微光刻的关键尺寸光掩模计量工具要求
作者:
Michael R. Schmidt
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
An Tran
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《》
|
1996年
31.
Investigation of multiphase printing writing modes on mask performance in MEBES 4500
机译:
MEBES 4500中多阶段打印书写模式对掩模性能的研究
作者:
Mahesh Chandramouli
;
Intel Corp.
;
San Mateo
;
CA
;
USA
;
Jim DeWitt
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Gary Meyers
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
J.Millino
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
David H. Hwang
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
32.
Mask inspection and real-time linewidth measurements
机译:
掩模检查和实时线宽测量
作者:
Yair Eran
;
Orbot Instruments Ltd.
;
Yavne
;
Israel
;
Gadi Greenberg
;
Orbot Instruments Ltd.
;
Yavne
;
Israel
;
Amnon Joseph
;
Orbot Instruments Ltd.
;
Yavne
;
Israel.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
33.
Plasma etching of Cr films in the fabrication of photomasks: II. a comparison of etch technologies and a first look at defects
机译:
在光掩模的制造中对Cr薄膜进行等离子刻蚀:II。蚀刻技术比较和缺陷初探
作者:
Thomas P. Coleman
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Peter D. Buck
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
David J. Johnson
;
Plasma-Therm
;
Inc.
;
St Petersburg
;
FL
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
34.
Reticle cleanliness and handling issues in submicron wafer fabrication
机译:
亚微米晶圆制造中的掩模版清洁度和处理问题
作者:
Michael E. Kling
;
Motorola Advanced Products Research
;
Development L ab.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
35.
Soft-defect inspection equipment based on DIC technique
机译:
基于DIC技术的软缺陷检测设备
作者:
Tsuneyuki Hagiwara
;
Nikon Corp.
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
36.
Application of deep-UV attenuated PSM to 0.2-um contact hole patterning technology
机译:
深紫外衰减PSM在0.2um接触孔构图技术中的应用
作者:
Author(s): Il-Ho Lee Hyundai Electronics Industries Co. Ltd. Ichon-kun South Korea
;
Seo-Min Kim Hyundai Electronics Industries Co. Ltd. Ichon-kun South Korea
;
Chang-Nam Ahn Hyundai Electronics Industries Co. Ltd. Ichon-kun Kyoungki-do South Korea
;
Ki-Ho Baik Hyundai Electronics Industries Co. Ltd. Kyoungki-do South Korea.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
37.
Alternating phase-shift generation for complex circuit designs
机译:
复杂电路设计的交替相移生成
作者:
Gerald Galan
;
France Telecom
;
Meylan Cedex
;
France
;
Frederic P. Lalanne
;
France Telecom
;
Meylan Cedex
;
France
;
Michel Tissier
;
Compagnie IBM France
;
Corbeil-Essones
;
France
;
Marc Belleville
;
LETI-CEA
;
Grenoble Cedex 9
;
France.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
38.
Comparison of reticle placement performance using two-point and multipoint fitting algorithms
机译:
使用两点和多点拟合算法比较掩模版放置性能
作者:
H. Christopher Hamaker
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Jerry Martyniuk
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Portland
;
OR
;
USA
;
Robert M. Sills
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Jeffrey K. Varner
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Keith P. Standiford
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
39.
Conducting poly(aniline-co-N-propanesulfonic acid aniline) (PAPSAH) as charge dissipation layer for e-beam lithography
机译:
导电聚苯胺-co-N-丙烷磺酸苯胺(PAPSAH)作为电子束光刻的电荷耗散层
作者:
Shyi-Long Shy
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
T.S. Chao
;
National Nano Device Lab.
;
Hsincu
;
Taiwan
;
T.F. Lei
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
S.A. Chen
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
Wen-An Loong
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
C.Y. Chang
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
40.
FIB repair of opaque defects for 64-Mb-DRAM-level binary masks
机译:
FIB修复64 Mb-DRAM级二进制掩码的不透明缺陷
作者:
Kyung-Hee Lee
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Han-Ku Cho
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Jin-Hong Park
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Kyungki-Do Suwon
;
South Korea
;
Yong H. Kim
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Hee-Sun Yoon
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Yongin-City Kyungki-Do
;
South Korea
;
Jung-Min Sohn
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Yongin-City Kyungki-Do
;
South Korea.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
41.
Low-cost mask for excimer laser projection ablation
机译:
用于准分子激光投影消融的低成本掩模
作者:
James L. Speidell
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Rajesh S. Patel
;
IBM Microelectronics
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Steven A. Cordes
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
42.
4X reticles with 3 linewidth control for the development of 0.18-um lithography
机译:
4X掩模版,线宽控制为3%,用于开发0.18um光刻
作者:
Rik Jonckheere
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Jos Moonens
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Goedele Potoms
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Inga Bovie
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Luc van den Hove
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
43.
Patterning of membrane masks for projection e-beam lithography
机译:
用于投影电子束光刻的膜掩模图案化
作者:
Linus A. Fetter
;
Lucent Technologies
;
Holmdel
;
NJ
;
USA
;
Chris Biddick
;
Lucent Technologies
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Myrtle I. Blakey
;
Lucent Technologies
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
J.A. Liddle
;
Lucent Technologies
;
Scotch Plains
;
NJ
;
USA
;
Milton L. Peabody
;
Lucent Technologies
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Anthony E. Novembre
;
Lucent Technologies
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Donald M. Tennant
;
Lucent Technologies
;
Holmdel
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
44.
Application of alternating phase-shifting masks to 200-nm contact holes
机译:
交替相移掩模在200 nm接触孔中的应用
作者:
Author(s): Sung-Chul Lim Samsung Electronics Co. Ltd. Yongin-Gun Kyungki-Do South Korea
;
Sang-Gyun Woo Samsung Electronics Co. Ltd. Yongin-gun Kyungki-do South Korea
;
Chun-Geun Park Samsung Electronics Co. Ltd. Paldal-Ku Suwon City South Korea
;
Young-Bum Koh Samsung Electronics Co. Ltd. Yongin-Gun Kyungki-Do South Korea.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
45.
Lithography tricks and tribulations
机译:
光刻技巧和麻烦
作者:
Author(s): Joseph G. Garofalo Lucent Technologies (USA) Murray Hill NJ USA
;
G.P. Watson Lucent Technologies (USA) Murray Hill NJ USA
;
Lee E. Trimble Lucent Technologies (USA) Murray Hill NJ USA
;
Raymond A. Cirelli Lucent Technologies (USA) Hillsborough NJ USA
;
Albert Colina Lucent Technologies Madrid Spain
;
Ilya M. Grodnensky Nikon Precision Inc. San Mateo CA USA
;
B.Herrero Lucent Technologies Madrid Spain
;
A.Dunbar Lucent Technologies (Spain) Madrid Spain
;
Frederick R. Peiffer Lucent Technologies Allentown PA USA
;
R.Takahashi Nikon Precision Inc. Tokyo Japan
;
Regine G. Tarascon-Auriol DuPont Photomasks Rousset Cedex France
;
Willie J. Yarbrough Lucent Technologies Orlando FL USA
;
Ludwik J. Zych Nikon Precision Inc. Palo Alto CA USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
46.
Overlay can be improved by self-calibrated XY measuring instrument: a lattice perspective
机译:
自我校准的XY测量仪器可改善覆盖:晶格透视图
作者:
Michael R. Raugh
;
Interconnect Technologies Corp.
;
Mountain View
;
CA
;
USA
;
Syed A. Rizvi
;
SEMATECH
;
Staten Island
;
NY
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
47.
Detectability and printability of programmed defects in the contact layer for 256-Mb-DRAM grade reticle
机译:
256 Mb-DRAM级标线在接触层中的编程缺陷的可检测性和可印刷性
作者:
Yong H. Kim
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Jin-Hong Park
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Kyungki-Do Suwon
;
South Korea
;
Kyung-Hee Lee
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Han-Ku Cho
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Hee-Sun Yoon
;
Samsung Electronics Co. Ltd.
;
Yongin-City Kyungki-Do
;
South Korea.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
48.
Performance of gas-assisted FIB repair for opaque defects
机译:
气体辅助FIB修复不透明缺陷的性能
作者:
Yasushi Satoh
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroshi Nakamura
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Junji Fujikawa
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Katsuhide Tsuchiya
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi Saitama
;
Japan
;
Shigeru Noguchi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi Saitama
;
Japan
;
Kazuo Aita
;
Seiko Instruments Inc.
;
Shizuoka
;
Japan
;
Anto Yasaka
;
Seiko Instruments Inc.
;
Sunto-gun Shizu
;
Japan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
49.
Through pellicle coordinate metrology
机译:
通过薄膜坐标测量
作者:
Hiroaki Okamoto
;
Nikon Precision Inc.
;
Belmont
;
CA
;
USA
;
David E. Kettering
;
Nikon Precision Inc.
;
Belmont
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
50.
Development of the halftone phase-shift mask for DUV exposure
机译:
开发用于DUV曝光的半色调相移掩模
作者:
Koichi Mikami
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroshi Mohri
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Fukuoka-shi Saitama
;
Japan
;
Norihito Itoh
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroyuki Miyashita
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi Saitama
;
Japan
;
Naoya Hayashi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi Saitama
;
Japan
;
Hisatake Sano
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi Saitama
;
Japan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
51.
Improved PBS process for e-beam photomask lithography
机译:
改进的PBS工艺用于电子束光掩模光刻
作者:
Wayne P. Shen
;
Photronics
;
Inc.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Jim Marra
;
Photronics
;
Inc.
;
Milpitas
;
CA
;
USA
;
Douglas Van Den Broeke
;
Photronics
;
Inc.
;
Milpitas
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
52.
1996 mask industry quality assessment
机译:
1996年口罩行业质量评估
作者:
Tim Eichenseer
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Chris Bishop
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
53.
Process optimization for thin resists for advanced e-beam reticle fabrication
机译:
薄抗蚀剂的工艺优化,用于先进的电子束掩模版制造
作者:
Hideo Kobayashi
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan
;
Takao Higuchi
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan
;
Kazuhide Yamashiro
;
HOYA Corp.
;
Tokyo
;
Japan
;
Keishi Asakawa
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
54.
Review of defect round table at Photomask Japan '96
机译:
回顾96年日本Photomask缺陷圆桌会议
作者:
Hiroichi Kawahira
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
James N. Wiley
;
KLA Instruments Corp.
;
Menlo Park
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
55.
Subhalf-micron mask defect detectability and printability at 1X reticle magnification
机译:
亚微米掩模掩膜在1X掩模版放大倍数下的可检测性和可印刷性
作者:
Dan L. Schurz
;
Ultratech Stepper
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Warren W. Flack
;
Ultratech Stepper
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Gary Newman
;
Ultratech Stepper
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management》
|
1996年
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