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机译:掩模检查和实时线宽测量
Yair Eran; Orbot Instruments Ltd.; Yavne; Israel; Gadi Greenberg; Orbot Instruments Ltd.; Yavne; Israel; Amnon Joseph; Orbot Instruments Ltd.; Yavne; Israel.;
机译:掩模空白检查,检查系统可满足10nm电路线宽
机译:使用空白检查,图案化掩模检查和晶圆检查来评估极端紫外线掩模缺陷
机译:通过扫描电子显微镜检查和极浅Si刻蚀有效测量45nm半间距紫外纳米压印光刻图形的线宽
机译:面罩检验和实时宽度测量
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:X射线光刻掩模计量学:透射电子在SEM中用于线宽测量
机译:B4C覆盖层对极端紫外线掩模的影响对使用投影电子显微镜图案化掩模检查的灵敏度
机译:线宽测量装置,线宽测量方法以及用于线宽测量的掩模
机译:利用多次前馈线宽测量的图案化微电子掩模层形成方法
机译:图案检查装置,图案位置测量装置,航空图像测量系统,用于测量航空图像的方法,图案位置修复装置,用于修复图案位置的方法,航空图像数据处理装置,用于处理航空图像数据的方法,图案曝光装置,用于曝光图案,制造掩模的方法以及掩模制造系统
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