您现在的位置: 首页> 研究主题> SiC涂层

SiC涂层

SiC涂层的相关文献在1991年到2023年内共计190篇,主要集中在一般工业技术、化学工业、原子能技术 等领域,其中期刊论文90篇、会议论文6篇、专利文献74895篇;相关期刊50种,包括西安交通大学学报、材料工程、材料科学与工程学报等; 相关会议6种,包括中国核学会核材料分会2007年度学术交流会、中国核学会核材料专业分会2004年学术交流会、中国电工技术学会第19届炭-石墨材料学术会议等;SiC涂层的相关文献由461位作者贡献,包括李贺军、付前刚、陈照峰等。

SiC涂层—发文量

期刊论文>

论文:90 占比:0.12%

会议论文>

论文:6 占比:0.01%

专利文献>

论文:74895 占比:99.87%

总计:74991篇

SiC涂层—发文趋势图

SiC涂层

-研究学者

  • 李贺军
  • 付前刚
  • 陈照峰
  • 汪洋
  • 李克智
  • 刘荣军
  • 周新贵
  • 唐春和
  • 张长瑞
  • 曹英斌
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

搜索

排序:

年份

    • 刘虎; 齐哲; 艾莹珺; 周怡然; 杨金华; 赵文青; 赵春玲; 郎旭东; 贺宜红; 焦健
    • 摘要: 采用化学气相沉积法(CVD)在熔渗制备的SiC_(f)/SiC复合材料表面沉积了SiC涂层,通过高温氧化试验研究了涂层对复合材料高温服役性能的影响,结果表明:在1200°C空气环境中氧化100 h后,无涂层试样的室温平均弯曲强度为424 MPa,弯曲强度下降了36.2%;而有涂层试样的室温平均弯曲强度为631 MPa,弯曲强度仅下降6.9%。SEM和XRD表征显示,无涂层试样中SiC纤维的氧化和BN界面层的退化失效是复合材料弯曲性能下降的重要原因,断口纤维拔出较少,呈脆性断裂特征;而有涂层试样表面氧化生成SiO_(2)氧化膜,其厚度增加过程服从抛物线规律。由于SiC层的封闭保护作用,复合材料试样受到的氧化作用较小,弯曲性能更好,断口纤维拔出明显。
    • 路远航; 骆芳; 胡晓冬; 蒋荣杰; 沈逸周
    • 摘要: 目的研究激光的扫描间距对纳米SiC涂层形貌、生长机理和抗氧化涂层的影响。方法以不同扫描间距的激光辐照制备SiC纳米涂层。分别利用体视显微镜、扫描电镜(SEM)和激光共聚焦显微镜分析涂层表面、截面的三维形貌,研究扫描间距对涂层形貌的影响,探究微米SiC颗粒转变为纳米SiC颗粒的演变及生长机理。用热失重法(TGA)研究试样高温抗氧化性能,包括试样的氧化失重率随温度变化和650、800°C两种温度下的恒温抗氧化性能对比分析,并用阿伦尼乌斯线性拟合进行了验证。结果激光能够促使预置于石墨基体上的微米SiC颗粒在Ar保护下的密闭反应室中转变为纳米SiC颗粒,且涂层主要由结晶度良好的α–SiC、β–SiC纳米晶颗粒组成。当扫描间距为0.08 mm时,形成的涂层表面较为平滑均匀,粗糙度较小,最高处与最低处的高度差仅为135.829μm,且此间距下,试验活化能值Ea=11.014×10^(4) J/mol最大,抗氧化性能最好。其次试样在600~850°C范围内,试样氧化失重率较低,小于8%,其氧化失重率与氧化时间呈现出较好的一次线性的拟合度。结论激光辐照制备的SiC纳米涂层的形貌、生长机理、高温抗氧化性能随着扫描间距的不同而产生较大变化,表明在激光扫描间距为0.08 mm的条件下所制备的试样涂层表面具有较高的活化能,验证了此参数下制备的涂层的高温抗氧化性能最好,且能够在高温环境中有效降低石墨的氧化失重率。
    • 王玉
    • 摘要: 1碳化硅(SiC)涂层石墨基座基本情况1.1基本概念SiC涂层石墨基座常用于金属有机物化学气相沉积(MOCVD)设备中支撑和加热单晶衬底的部件(图1)。MOCVD设备是化合物半导体单晶衬底外延生长的研发及产业化关键设备,SiC涂层石墨基座的热稳定性、热均匀性等性能参数对外延材料生长的质量起到决定性作用,因此是MOCVD设备的核心关键部件。
    • 刘桂良; 何宗倍; 王梓璇; 张瑞谦; 王继平
    • 摘要: 通过化学气相沉积(CVD)SiC涂层来提高SiC_(f)/SiC复合材料的耐腐蚀性能,本文以CH_(3)SiCl_(3)(MTS)为源气体,在反应烧结SiC基体上制备SiC涂层,控制沉积温度、炉压及H_(2)/MTS摩尔比等工艺参数,通过X射线衍射实验(XRD)得到不同工艺条件下生成的碳化硅涂层的物相组成和结晶度,通过高温水腐蚀实验检测涂层的耐腐蚀性,并利用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀前后的表面形貌。结果表明:当沉积时间为8 h,沉积温度从1050°C到1250°C,β-SiC涂层表面平整性提高,沉积厚度由12.97μm急剧增加至71.10μm,SiC晶粒尺寸逐渐增大,最终呈金字塔状;碳化硅涂层腐蚀60 d后,表面呈现针状结构,1250°C下沉积的SiC涂层耐腐蚀性能较好;β-SiC涂层的晶粒尺寸随沉积炉压的增大而增大,结晶度随沉积炉压增大而减小,在200 Pa以下,获得的β-SiC晶粒的结晶度最高(81.08%)、晶粒尺寸最小(13.7 nm);随着H_(2)/MTS摩尔比增加,β-SiC晶粒结晶度迅速下降,当H_(2)/MTS=6.5时,结晶度最高(95.91%)。
    • 韩前武; 李国栋
    • 摘要: 为了生产大面积、均匀的SiC涂层,需要对反应室内不同位置的沉积速率变化规律进行研究.将CH3SiCl3-H2-Ar体系化学气相沉积SiC过程简化为气相裂解、表面沉积两步,建立反应室二维反应-输运模型;利用计算流体力学(computational fluid dynamics,CFD)软件分析气流量、温度和压力对炉内垂直高度方向上沉积速率的影响.结果表明:不同气流量下,因气流滞留时间不同,沉积分布呈现不同的趋势,适中流量时沉积厚度均匀性较好,沉积速率较高;提高温度能改善高流速下沉积的不均匀性;流量一定,压力过高会引起自然对流漩涡.对比计算结果与相关实验数据,该两步简化模型可以反映不同条件下反应物的消耗和涂层的均匀性.
    • 刘桂良; 何宗倍; 王梓璇; 张瑞谦; 王继平
    • 摘要: 通过化学气相沉积(CVD)SiC涂层来提高SiCf/SiC复合材料的耐腐蚀性能,本文以CH3 SiCl3(MTS)为源气体,在反应烧结SiC基体上制备SiC涂层,控制沉积温度、炉压及H2/MTS摩尔比等工艺参数,通过X射线衍射实验(XRD)得到不同工艺条件下生成的碳化硅涂层的物相组成和结晶度,通过高温水腐蚀实验检测涂层的耐腐蚀性,并利用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀前后的表面形貌.结果表明:当沉积时间为8 h,沉积温度从1050°C到1250°C,β-SiC涂层表面平整性提高,沉积厚度由12.97μm急剧增加至71.10μm,SiC晶粒尺寸逐渐增大,最终呈金字塔状;碳化硅涂层腐蚀60 d后,表面呈现针状结构,1250°C下沉积的SiC涂层耐腐蚀性能较好;β-SiC涂层的晶粒尺寸随沉积炉压的增大而增大,结晶度随沉积炉压增大而减小,在200 Pa以下,获得的β-SiC晶粒的结晶度最高(81.08%)、晶粒尺寸最小(13.7 nm);随着H2/MTS摩尔比增加,β-SiC晶粒结晶度迅速下降,当H2/MTS=6.5时,结晶度最高(95.91%).
    • 孙佳庆; 李江涛; 郭春文; 范宇恒; 张东生; 赵红亮
    • 摘要: 采用化学气相沉积法在高纯石墨基体表面制备了碳化硅(SiC)涂层,研究了基体位置和沉积压力对涂层组织形貌和抗氧化性能的影响.结果表明:随着基体与布气盘的距离增大,晶粒生长方向的择优性先增强后减弱,其晶粒的砂砾状生长特征也呈现先增强后减弱的变化规律;当基体与布气盘的距离较小时涂层易出现气孔,随着距离增大,气孔逐渐消失,涂层抗氧化性能升高,而随着距离的进一步增大,开始出现分界现象,造成涂层抗氧化性能下降.随着沉积压力增大,晶粒生长方向的择优性被弱化,晶粒的砂砾状特征也随之减弱;当沉积压力为2 kP a时,涂层无明显缺陷,其抗氧化性能较好;而当沉积压力增大到5 kP a和20 kP a时,涂层分别出现了分界和分层缺陷,导致其抗氧化性能下降.基体位置为450 m m、沉积压力为2 kP a时能够制备出组织致密、与基体结合较好、抗氧化性能较优的Si C涂层.
    • 谭瑞轩; 王洪磊; 余金山; 李怀林; 刘艳红; 樊哲琼; 卢蕾文; 周新贵
    • 摘要: 提出一种新型便捷的等离子体增强化学气相沉积法(plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD),在细长的锆合金包壳管(外径9.5 mm,壁厚0.57 mm,长度200 mm)内壁制备厚度分别3μm和5μm的SiC涂层,用扫描电镜观察涂层的微观结构,并测试其抗热冲击性能和抗高温水氧腐蚀性能.结果表明,该制备方法可快速、高效地在包壳管内壁沉积SiC涂层,涂层致密且光滑平整,无论在包壳管的轴向或径向方向,涂层厚度均匀一致.涂层与锆合金基体结合良好,具有良好的抗热冲击性能,1200°C高温淬火后不发生剥落.SiC涂层可隔绝锆合金与高温水蒸气接触,有效保护锆合金包壳管,防止其被氧化.
    • 王锦阳
    • 摘要: C/C复合材料具有诸如重量轻,使用寿命长,产生噪音小,运行平稳等优良性能,在用作制动器时具有特别的优势,目前被认为是高性能制动系统的优良候选材料.本文对C/C复合材料表面SiC涂层的研究进程及现状、制备方法、SiC涂层的选择及性能等进行了详细的整理研究.
  • 查看更多

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号