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Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US
Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US
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1.
Subatomic Accuracy in EUVL Multilayer Coatings
机译:
EUVL多层涂层中的亚原子精度
作者:
E. Zoethout
;
P. Suter
;
R.W.E. van de Kruijs
;
A.E. Yakshin
;
E. Louis
;
F. Bijkerk
;
H. Enkisch
;
S. Muellender
会议名称:
《》
|
2004年
关键词:
Mo/Si multilayers;
EUV lithography;
2.
Validation of lithography based on the controlled movement of light-emitting particles
机译:
基于受控的发光粒子运动的光刻验证
作者:
Benjamin Y. Park
;
Rabih Zaouk
;
Marc Madou
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
lithography;
nanolithography;
particle;
dielectrophoresis;
electroosmosis;
carbon;
nanomanipulation;
c-MEMS;
3.
Xenon re-circulation systems for next generation lithography tools
机译:
用于下一代光刻工具的氙气再循环系统
作者:
Joanne R. Greenwood
;
Darren Mennie
;
Carolyn Hughes
;
Ron Lee
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
xenon;
liquid;
solid;
gas re-circulation;
laser and gas discharge produced plasma;
dielectric etch;
4.
SYSTEM CONSIDERATIONS FOR MASKLESS LITHOGRAPHY
机译:
光刻技术的系统注意事项
作者:
T. Karnowski
;
D. Joy
;
L. Allard
;
L.Clonts
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
5.
Shrink Assist Film for Enhanced Resolution (SAFIER~(TM)) Process for Printing of 20 nm Trenches with High Aspect Ratio
机译:
用于增强分辨率(SAFIER〜(TM))工艺的收缩辅助膜,用于印刷高纵横比的20 nm沟槽
作者:
XiaoMin Yang
;
Harold Gentile
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
SAFIER~(TM) process;
CD shrink technology;
E-beam lithography;
thin film heads;
6.
Short term vacuum outgassing measurements with application to load-locks and photo-resist
机译:
短期真空除气测量,适用于负载锁定和光刻胶
作者:
Anthony M Keen
;
Neil Condon
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
outgassing;
short-term outgassing;
photo-resist;
vacuum;
contamination control;
load-locks;
hydrocarbon;
7.
Simulation of fine structures and defects in EUV etched multilayer masks
机译:
模拟EUV蚀刻多层掩模的精细结构和缺陷
作者:
Yunfei Deng
;
Bruno La Fontaine
;
Adam R. Pawloski
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV;
mask patterning;
multilayer;
absorber stack;
etch;
refill;
sidewall;
defect;
inspection;
repair;
8.
Scaling studies of capping layer oxidation by water exposure with EUV radiation and electrons
机译:
暴露在极紫外光和电子的作用下覆盖层氧化的结垢研究
作者:
W. Miles Clift
;
Lennie Klebanoff
;
Charles Tarrio
;
Steve Grantham
;
O.R. Wood II
;
Stefan Wurm
;
N.V. Edwards
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
oxidation;
multilayer mirror;
auger electron spectroscopy;
ruthenium;
silicon;
9.
Analysis of critical dimension uniformity for LEEPL
机译:
LEEPL的临界尺寸均匀性分析
作者:
Masaki Yoshizawa
;
Kazuya Iwase
;
Hiizu Ohtorii
;
Kumiko Oguni
;
Hiroki Hane
;
Keiko Amai
;
Shigeru Moriya
;
Hiroyuki Nakano
;
Tetsuya Kitagawa
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
NGL;
LEEPL;
stencil mask;
CD uniformity;
MEEF;
edge roughness;
inter-shot;
intra-shot;
thin resist;
10.
High Throughput EUV-Reflectometer for EUV Mask-Blanks
机译:
高通量EUV反射仪,用于EUV掩模空白
作者:
Rainer Lebert
;
Christian Wies
;
Larissa Juschkin
;
Bernhard Jaegle
;
Manfred Meisen
;
Lutz Aschke
;
Frank Sobel
;
Holger Seitz
;
Frank Scholze
;
Gerhard Ulm
;
Konstantin Walter
;
Willi Neff
;
Klaus Bergmann
;
Wolfgang Biel
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
11.
Collimated laser-Plasma Lithography (CPL) for 90nm and smaller contacts and vias
机译:
准直激光等离子光刻(CPL)适用于90nm及更小的触点和过孔
作者:
Richard Forber
;
Celestino Gaeta
;
Heinz Siegert
;
Scott McLeod
;
Brent Boerger
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
1 nm x-ray;
laser-produced plasma;
lithography tools;
contacts and vias;
CPL~(TM);
12.
Controlling template response during imprint lithography
机译:
在压印光刻过程中控制模板响应
作者:
Scott D. Schuetter
;
Gerald A. Dicks
;
Greg F. Nellis
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
;
Brad F. Schulteis
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
step-and-flash imprint lithography;
template distortion;
finite element model;
reynolds equation;
13.
EUV generation using water droplet target
机译:
使用水滴靶产生EUV
作者:
J.Q. Lin
;
H. Yashiro T. Aota
;
T. Tomie
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUVL;
water droplet target;
laser plasma;
high repetition rate;
14.
Evaluation of the Imprio 100 Step and Flash Imprint Lithography Tool
机译:
Imprio 100 Step和Flash压印光刻工具的评估
作者:
Kathleen A. Gehoski
;
David P. Mancini
;
Douglas J. Resnick
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
step and flash imprint lithography;
S-FIL;
imprio 100;
template;
15.
Evaluation of contamination deposition on pinholes used in EUV at-wavelength PDI
机译:
评估EUV波长PDI中使用的针孔上的污染物沉积
作者:
Katsumi Sugisaki
;
Masanobu Hasegawa
;
Seima Kato
;
Chidane Ouchi
;
Jun Saito
;
Masahito Niibe
;
Akiyoshi Suzuki
;
Katsuhiko Murakami
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV wavefront metrology;
point diffraction interferometry;
pinhole;
contamination;
16.
Metrology tools for EUV-source characterization and optimization
机译:
用于EUV源表征和优化的计量工具
作者:
Thomas Missalla
;
Max Christian Schuermann
;
Rainer Lebert
;
Christian Wies
;
Larissa Juschkin
;
Roman Markus Klein
;
Frank Scholze
;
Gerhard Ulm
;
Andre Egbert
;
Boris Tkachenko
;
Boris N. Chichkov
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
metrology tools;
absolute flux;
calibration;
spectral distribution;
imaging detectors;
debris;
EUV;
17.
Properties of EUV emissions from laser produced tin plasmas
机译:
激光产生的锡等离子体产生的EUV的特性
作者:
Yoshinori Shimada
;
Hiroaki Nishimura
;
Kazuhisa Hashimoto
;
Michiteru Yamaura
;
Keisuke Shigemori
;
Mitsuo Nakai
;
Shinsuke Fujioka
;
Shigeaki Uchida
;
Tomoharu Okuno
;
Takahiro Hibino
;
Nobuyoshi Ueda
;
Ryoji Matsui
;
Yezheng Tao
;
Keiji Nagai
;
Takayoshi Norimatsu
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV source;
laser-produced plasma;
EUV spectra;
conversion efficiency (CE);
18.
Image optimization for maskiess lithography
机译:
蒙版光刻的图像优化
作者:
Yashesh A. Shroff
;
Yijian Chen
;
William G. Oldham
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
19.
Ion damage analysis on EUV collector mirrors
机译:
EUV集电极镜上的离子损伤分析
作者:
Hiroshi Komori
;
Georg Soumagne
;
Hideo Hoshino
;
Tamotsu Abe
;
Takashi Suganuma
;
Yousuke Imai
;
Akira Endo
;
Koichi Toyoda
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
collector mirror damage;
xenon ion;
fast ion;
laser-produced plasma;
EUV light source;
20.
Plasticizer-assisted polymer imprint and transfer
机译:
增塑剂辅助的聚合物压印和转移
作者:
L. Tan
;
Y. P. Kong
;
S. W. Pang
;
A. F. Yee
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
nanoimprint;
polymer;
plasticizer;
low temperature;
low pressure;
poly(3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT);
poly(dimethylsiloxane) (PDMS);
21.
Projection Mask-Less Lithography
机译:
投影式无掩模光刻
作者:
Christoph Brandstaetter
;
Hans Loeschner
;
Gerhard Stengl
;
Gertraud Lammer
;
Herbert Buschbeck
;
Elmar Platzgummer
;
Hans-Joachim Doering
;
Thomas Elster
;
Olaf Fortagne
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
mask-less lithography;
electron beam optics;
programmable aperture plate;
blanking aperture array;
ML2;
22.
Lateral shearing interferometer for EUVL: Theoretical analysis and experiment
机译:
EUVL横向剪切干涉仪:理论分析与实验
作者:
Zhu Yucong
;
Katsumi Sugisaki
;
Chidane Ouchi
;
Masanobu Hasegawa
;
Masahito Niibe
;
Akiyosi Suzuki
;
Katsuhiko Murakami
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV lithography;
optics;
shearing interferometer;
wavefront measurement;
23.
Layout Decompression Chip for Maskless Lithography
机译:
用于无掩模光刻的版图减压芯片
作者:
Borivoje Nikolic
;
Ben Wild
;
Vito Dai
;
Yashesh Shroff
;
Benjamin Warlick
;
Avideh Zakhor
;
William G. Oldham
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
data compression;
maskless;
lithography;
CMOS;
digital design;
24.
Lithographic Characterization of EUVL Mask Blank Defects
机译:
EUVL掩模空白缺陷的光刻特征
作者:
Takeo Hashimoto
;
Hiromasa Yamanashi
;
Minoru Sugawara
;
Iwao Nishiyama
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUVL mask;
multilayer mask blank;
defect;
repair;
aerial image;
25.
Linearity of silicon photodiodes for EUV radiation
机译:
用于EUV辐射的硅光电二极管的线性
作者:
Frank Scholze
;
Roman Klein
;
Ralph Mueller
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
detector calibration;
photodiode responsivity;
detector linearity;
EUV;
26.
LEEPL (Low Energy Electron beam Proximity-projection Lithography) over-lay status
机译:
LEEPL(低能电子束邻近投影光刻)覆盖状态
作者:
Norifumi Nakajima
;
Takuji Atarashi
;
Hiroyuki Sakai
;
Toyoji Fukui
;
Hideaki Takano
;
DaizoAmano
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
LEEPL;
IP error;
E-beam;
overlay;
sub-def;
27.
Modeling carbon contamination of extreme ultraviolet (EUV) optics
机译:
模拟极端紫外线(EUV)光学元件的碳污染
作者:
Jeromy T. Hollenshead
;
Leonard E. Klebanoff
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
hydrocarbon contamination modeling;
hydrocarbon cracking;
extreme ultraviolet lithography;
28.
Modeling LEEPL mask fabrication processes
机译:
对LEEPL掩模制造工艺建模
作者:
Xabier Azkorra
;
Andrew R. Mikkelson
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
;
Jaehyuk Chang
;
Jaewoong Sohn
;
Madhura Nataraju
;
Hideyuki Eguchi
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
LEEPL;
mask fabrication;
finite element modeling;
chucking;
29.
Mixed-Signal Data Interface for Maskless Lithography
机译:
无掩模光刻的混合信号数据接口
作者:
Benjamin Warlick
;
Borivoje Nikolic
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
maskless;
lithography;
layout;
digital-to-analog conversion;
mixed-signal design;
30.
Aerial image characterization for the defects in the extreme ultraviolet mask
机译:
极紫外掩模中缺陷的航空影像表征
作者:
Myoung-Sul Yoo
;
Seung-Wook Park
;
Jong-Hoi Kim
;
Yeong-Keun Kwon
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
multilayer defect;
aerial image;
31.
Advanced low-complexity compression for maskless lithography data
机译:
用于无掩模光刻数据的高级低复杂度压缩
作者:
Vito Dai
;
Avideh Zakhor
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
compression lithography maskless datapath data-rate layout LZ77 combinatorial BZIP2 algorithm;
32.
High repetition rate MPC generator-driven capillary Z-pinch EUV source
机译:
高重复率MPC发生器驱动的毛细管Z夹EUV离子源
作者:
Yusuke Teramoto
;
Hiroto Sato
;
Kazunori Bessho
;
Takahiro Shirai
;
Daiki Yamatani
;
Tetsu Takemura
;
Toshio Yokota
;
Khokan C. Paul
;
Kiyoyuki Kabuki
;
Koji Miyauchi
;
Mitsuru Ikeuchi
;
Keisuke Okubo
;
Kazuaki Hotta
;
Masaki Yoshioka
;
Koichi Toyoda
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
DPP;
EUV source;
lithography;
capillary;
Z-pinch;
pulsed power;
33.
The erosion of materials exposed to a laser-pulsed plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) illumination source
机译:
暴露于激光脉冲等离子体(LPP)极紫外(EUV)照明源的材料的腐蚀
作者:
Richard J. Anderson
;
Dean A. Buchenauer
;
Lennie Klebanoff
;
O.R. Wood II
;
N.V.Edwards
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
laser pulsed plasma source;
erosion;
sputtering;
gold;
molybdenum;
silicon;
34.
Spectroscopic studies of the Sn-based droplet laser plasma EUV source
机译:
锡基液滴激光等离子体EUV源的光谱研究
作者:
C-S. Koay
;
K. Takenoshita
;
E. Fujiwara
;
M. Al-Rabban
;
M. Richardson
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
sources;
EUV;
laser-plasmas;
tin plasmas;
35.
Status of EUV-Lamp Development and Demonstration of Applications
机译:
EUV灯的开发现状和应用示范
作者:
Rainer Lebert
;
Christian Wies
;
Bernhard Jaegle
;
Larissa Juschkin
;
Ulrich Bieberle
;
Manfred Meisen
;
Willi Neff
;
K. Bergmann
;
Konstantin Walter
;
Oliver Rosier
;
Max Christian Schuermann
;
Thomas Missalla
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
36.
Way of LEEPL Technology to Success in Memory Device Application
机译:
LEEPL技术在存储设备应用中取得成功的途径
作者:
In-Sung Kim
;
Sang-Gyun Woo
;
Han-Ku Cho
;
Woo-Sung Han
;
Joo-Tae Moon
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
LEEPL;
electron-beam;
proximity-projection;
resolution;
overlay;
IP error;
low-k1;
mix-and-match;
37.
Status of EUV microexposure capabilities at the ALS using the 0.3-NA MET optic
机译:
使用0.3 NA MET光学元件的ALS的EUV微曝光能力的状态
作者:
Patrick Naulleau
;
Kenneth A. Goldberg
;
Erik Anderson
;
Kevin Bradley
;
Rene Delano
;
Paul Denham
;
Bob Gunion
;
Bruce Harteneck
;
Brian Hoef
;
Hanjing Huang
;
Keith Jackson
;
Gideon Jones
;
Drew Kemp
;
J. Alexander Liddle
;
Ron Oort
;
Al Rawlins
;
Seno Rekawa
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
synchrotron;
variable-sigma illuminator;
coherence;
38.
Silanised polymeric working stamps for hot embossing lithography
机译:
硅烷化的聚合物工作印模,用于热压印光刻
作者:
M. Wissen
;
N. Bogdanski
;
R. Jerzy
;
Z. E. Berrada
;
M. Fink
;
F. Reuther
;
T. Glinsner
;
H.-C. Scheer
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
nanoimprint;
hot embossing;
working stamps;
anti adhesion layer;
anti sticking;
thermoset polymer;
39.
First via-hole TEG fabricated by using the 90-nm CMOS technology and proximity electron lithography: Electric and lithographic results
机译:
使用90纳米CMOS技术和近距离电子光刻技术制造的首个通孔TEG:电学和光刻结果
作者:
Tetsuya Kitagawa
;
Masaki Yoshizawa
;
Kazuya Iwase
;
Shinji Omori
;
Shoji Nohama
;
Hiroyuki Nakano
;
Shigeru Moriya
;
Hiroichi Kawahira
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
ArF;
mask contamination;
electron beam;
NGL;
via hole;
LEEPL;
40.
Anisotropic EUV flare measured in the Engineering Test Stand (ETS)
机译:
在工程测试台(ETS)中测量的各向异性EUV耀斑
作者:
Sang Hun Lee
;
Manish Chandhok
;
Chris Krautschik
;
Michael Goldstein
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
flare;
kirk method;
directional flare;
H-V flare bias;
engineering testtstand;
41.
Exposure Simulation of Electron Beam Microcolumn Lithography
机译:
电子束微柱光刻的曝光模拟
作者:
Sang-Kon Kim
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
electron beam lithography;
multicolumn lithography;
electron beam microcolumn lithography;
exposure simulation;
dill's model;
42.
Fabrication of aspherical mirrors for HiNA (High Numerical Aperture EUV exposure tool) set-3 projection optics
机译:
HiNA(高数值孔径EUV曝光工具)set-3投影光学器件的非球面反射镜的制造
作者:
T. Oshino
;
T. Yamamoto
;
T. Miyoshi
;
M. Shiraishi
;
T. Komiya
;
N. Kandaka
;
H. Kondo
;
K. Mashima
;
K. Nomura
;
K. Murakami
;
H. Oizumi
;
I. Nishiyama
;
S. Okazaki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
wavefront error;
flare;
low spatial frequency roughness;
mid spatial frequency roughness;
high spatial frequency roughness;
43.
200-mm EPL stencil mask fabrication and metrology at DNP — IP CD accuracy within subfield —
机译:
DNP的200毫米EPL模板掩模制造和计量-子场内的IP和CD精度-
作者:
Tadahiko Takikawa
;
Mikio Ishikawa
;
Satoshi Yusa
;
Yoshinori Kinase
;
Hiroshi Fujita
;
Morihisa Hoga
;
Naoya Hayashi
;
Hisatake Sano
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EPL mask;
stencil mask;
image placement;
membrane stress;
LMS IPRO;
44.
High-resolution EUV Microstepper tool for resist testing technology evaluation
机译:
高分辨率EUV微步进工具,用于抗蚀剂测试和技术评估
作者:
A Brunton
;
J Cashmore
;
P Elbourn
;
G Elliner
;
M Gower
;
P Gruenewald
;
M Harman
;
S Hough
;
N McEntee
;
S Mundair
;
D Rees
;
P Richards
;
V Truffert
;
I Wallhead
;
M Whitfield
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV lithography;
microsteppers;
45.
Compensation for Imaging Errors in EUV Lithography
机译:
EUV光刻中的成像误差补偿
作者:
Paul Harris
;
Martin McCallum
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV lithography;
mask error factor;
shadowing;
simulation;
46.
Debris studies for the tin-based droplet laser-plasma EUV source
机译:
锡基液滴激光等离子体EUV源的碎片研究
作者:
K. Takenoshita
;
C-S. Koay
;
S. Teerawattanasook
;
M. Richardson
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV source;
tin plasma;
debris;
ion spectra;
inhibition;
mitigation;
47.
EUV Wavefront Metrology System in EUVA
机译:
EUVA中的EUV波前计量系统
作者:
Takayuki Hasegawa
;
Chidane Ouchi
;
Masanobu Hasegawa
;
Seima Kato
;
Akiyoshi Suzuki
;
Katsumi Sugisaki
;
Katsuhiko Murakami
;
Jun Saito
;
Masahito Niibe
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
interferometer;
extreme ultraviolet lithography;
EUV;
at-wavelength;
undulator;
48.
EUVL Defect Printability at the 32 nm Node
机译:
在32 nm节点处的EUVL缺陷可印刷性
作者:
E.M. Gullikson
;
E. Tejnil
;
T. Liang
;
A.R. Stivers
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUVL;
multilayer;
defect printability;
49.
Estimation of emission efficiency for laser-produced EUV-plasmas
机译:
估计激光产生的EUV等离子体的发射效率
作者:
Tohru Kawamura
;
Atsushi Sunahara
;
Kouhei Gamada
;
Kazumi Fujima
;
Fumihiro Koike
;
Hiroyuki Furukawa
;
Takeshi Nishikawa
;
Akira Sasaki
;
Takashi Kagawa
;
Richard More
;
Takako Kato
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV;
conversion efficiency;
laser-produced tin-plasmas;
code development;
50.
Membrane mask aeroelastic and thermoelastic control
机译:
膜面罩气弹和热弹控制
作者:
Dryver Huston
;
James Plumpton
;
Brian Esser
;
Sonja Hoelzl
;
Xiaoguang Wang
;
Gerald Sullivan
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
membrane mask;
aeroelastic;
thermoelastic;
shape control;
overlay;
proximity;
X-ray;
51.
Measuring Thermal Expansion Variations in ULE~(~R)Glass with Interferometry
机译:
用干涉法测量ULE〜(〜R)玻璃中的热膨胀变化
作者:
Brian L. Harper
;
Kenneth E. Hrdina
;
W. David Navan
;
Joseph Ellison
;
Andrew Fanning
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
ULE;
optics;
photomasks;
CTE;
homogeneity;
thermal expansion;
metrology interferometer;
EUVL;
striae;
LTEM;
52.
Illinois Debris-mitigation EUV Applications Laboratory (IDEAL)
机译:
伊利诺伊州减缓EUV应用实验室(IDEAL)
作者:
B. E. Jurczyk
;
E. Vargas Lopez
;
M. J. Neumann
;
D. N. Ruzic
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
53.
Enhanced model for the efficient 2D and 3D simulation of defective EUV masks
机译:
增强模型,可有效地对有缺陷的EUV掩模进行2D和3D仿真
作者:
Peter Evanschitzky
;
Andreas Erdmann
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV mask;
multilayer defects;
lithography simulation;
54.
ESH Assessment of Advanced Lithography Materials and Processes
机译:
先进光刻技术和工艺的ESH评估
作者:
Walter F. Worth
;
Ram Mallela
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
environment;
safety and health;
EUV lithography;
157nm lithography;
stepper;
photoresist;
emissions;
55.
Techniques for directly measuring the absorbance of photoresists at EUV wavelengths
机译:
直接测量EUV波长的光致抗蚀剂吸收率的技术
作者:
Manish Chandhok
;
Heidi Cao
;
Wang Yueh
;
Eric Gullikson
;
Robert Brainard
;
Stewart Robertson
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV;
photoresist;
resist;
absorbance;
EUV-2D;
56.
Recent progress of LEEPL mask technology
机译:
LEEPL掩模技术的最新进展
作者:
Hiroshi Nozue
;
Akira Yoshid
;
Akihiro Eado
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
LEEPL;
EBPrinter LEEPL-3000;
stencil mask;
6025;
membrane;
sub-deflector;
CD accuracy;
image placement accuracy;
IP error;
57.
Resist Outgassing in Electron Projection Lithography
机译:
电子投影光刻中的抗除气
作者:
T. Matsumiya
;
T. Ando
;
M. Yoshida
;
K. Ishikawa
;
S. Shimizu
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
electron projection lithography;
outgassing;
chemically amplified resist;
58.
Near Field X-ray Lithography to 15 nm
机译:
近场X射线光刻技术至15 nm
作者:
Antony J. Bourdillon
;
Gwyn P Williams
;
Yuli Vladimirsky
;
Chris B Boothroyd
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
X-ray;
PXL;
near field;
demagnification by bias;
ultra high resolution lithography;
59.
Manufacturing concerns for advanced CMOS circuit realization EBDW alternative solution for cost and cycle time reductions
机译:
先进CMOS电路实现EBDW替代解决方案的制造问题,可降低成本和缩短周期时间
作者:
L. Pain
;
M. Jurdit
;
Y. Laplanche
;
J. Todeschini
;
S. Manakli
;
G. Bervin
;
R. Palla
;
A. Beverina
;
R. Faure
;
X. Bossy
;
H. Leininger
;
S. Tourniol
;
M. Broekaart
;
F. Judong
;
K. Brosselin
;
P. Gouraud
;
V. De Jonghe
;
D. Henry
;
M. Woo
;
P. Stolk
;
B. Tavel
;
F. Arnaud
会议名称:
《》
|
2004年
关键词:
E-beam;
lithography;
photoresist;
SRAM;
60.
Maskless Lithography Using Drop-On-Demand InkJet Printing Method
机译:
使用按需喷墨印刷方法进行无掩模光刻
作者:
Yan Wang
;
Jeffrey Bokor
;
Arthur Lee
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
maskless lithography;
inkjet printing;
drop-on-demand;
monolithic printhead;
thermal bubble jet;
61.
LEEPL Data Conversion System
机译:
LEEPL数据转换系统
作者:
Masahiro Shoji
;
Nobuyasu Horiuchi
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
NGL;
LEEPL;
COSMOS;
data conversion;
62.
Comparison of Techniques to Measure the Point Spread Function due to Scatter and Flare in EUV Lithography Systems
机译:
EUV光刻系统中由于散射和耀斑导致的点扩散函数的测量技术比较
作者:
Manish Chandhok
;
Sang H. Lee
;
Christof Krautschik
;
Guojing Zhang
;
Bryan J. Rice
;
Michael Goldstein
;
Eric Panning
;
Robert Bristol
;
Alan Stivers
;
Melissa Shell
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV;
flare;
FVC;
PSF;
point spread function;
scatter;
MTF;
ETS;
63.
Experimental study on basic properties of laser-produced EUV plasmas on GEKKO-XII laser facility
机译:
GEKKO-XII激光设备上激光产生的EUV等离子体基本特性的实验研究
作者:
Keisuke Shigemori
;
Mitsuo Nakai
;
Yoshinori Shimada
;
Michiteru Yamaura
;
Kazuhisa Hashimoto
;
Shinsuke Fujioka
;
Hiroaki Nishimura
;
Shigeaki Uchida
;
Atsushi Sunahara
;
Katsunobu Nishihara
;
Noriaki Miyanaga
;
Yasukazu Izawa
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUV source;
laser-produced plasma;
plasma density profile;
opacity;
64.
Evaluation of resists outgassing by EUV irradiation
机译:
通过EUV辐射评估抗蚀剂脱气
作者:
Hideo Hada
;
Takeo Watanabe
;
Kazuhito Hamamoto
;
Hiroo Kinoshita
;
Hiroshi Komano
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
EUVL;
chemical amplified resist;
outgassing;
methacryl polymer;
solvents effect;
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