IMS Nanofabrication GmbH, A-1020 Vienna, Austria;
mask-less lithography; electron beam optics; programmable aperture plate; blanking aperture array; ML2;
机译:投影式无掩模光刻(PML2)
机译:无投影无掩模光刻(PML2):多光束消隐演示器的第一个结果
机译:用于无投影光刻的光圈板系统的组装
机译:电子和离子多束无投影掩模光刻和纳米图案
机译:无光掩模光刻的热驱动微快门阵列器件
机译:基于双算子的模式转移路径规划和数字掩模投影光刻的双群蚁群算法
机译:用于制造光波导的无掩模光刻