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极紫外投影光刻掩模的多层膜与照明误差

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摘要

讨论了极紫外投影光刻掩模的反射光谱随多层膜参量的变化,通过曲线拟合得到了峰值反射率、带宽和中心波长与多层膜粗糙度、材料比值以及周期厚度的9个函数关系·模拟了6镜极紫外投影光刻系统的反射光谱,并计算了晶圆片处的相对照明强度·分析了由掩模在晶圆片处引入的照明误差,给出了照明误差的合成公式·

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来源
《光子学报》|2006年第5期|667-670|共4页
作者
杨雄; 金春水; 张立超;
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作者单位

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 O484.41;
关键词
薄膜光学; 极紫外投影光刻; 掩模; 照明误差;

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