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极紫外投影光刻掩模技术

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摘要

介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光刻掩模技术的现状.

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来源
《微细加工技术》|2003年第3期|16-21,41|共7页
作者
杨雄; 金春水; 曹健林;
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作者单位

长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,长春,130022;

长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,长春,130022;

长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,长春,130022;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
极紫外; 投影光刻; 多层膜; 掩模;

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