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雷亮; 李浪林; 周金运; 王衢;
广东工业大学物理与光电工程学院;
激光技术; 光刻; 套刻技术; 模式识别; 纯相位匹配滤波器;
机译:微光学和光刻模拟是掩模对准器中阴影印刷光刻的关键技术
机译:矢量衍射效应对二元掩模光学光刻图像与投影系统放大率的相关性
机译:用于投影掩模的掩模制造 - 更少的光刻(PML2) - 可编程孔径平板系统的MEMS技术
机译:电子束投影光刻掩模系统在曝光期间的热机械变形。
机译:动态掩模投影光刻技术制备用于神经培养系统的微图案水凝胶
机译:在鲁棒非线性系统实现/识别中确定模型形式的相关技术
机译:具有用于在掩模上对准衬底的对准系统的光刻投影设备
机译:识别和补偿光刻掩模对准中的滑移位错
机译:带有照明系统的微光刻投影曝光系统的掩模版平面中角分辨强度分布的测量方法,包括在投影曝光系统的光路中布置光学模块
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