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MakosG.; 童志义;
不详;
投影光刻机; 掩模; 锁相干涉;
机译:外部对准标记技术,用于使用单侧掩模对准器进行前后侧对齐
机译:十年频率范围,同相自动对准的1.8 V 2 mW全模拟CMOS集成锁相放大器,用于小信号/噪声信号检测
机译:分子转移光刻技术用于伪无掩模,高通量,对准纳米光刻技术
机译:使用计算机控制的莫尔条纹技术在掩模对准器中自动进行角度对准
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:紧凑的低成本低维护的开放式结构掩模对准器用于制造多层微流控器件
机译:用于掩模对准器光刻的新照明技术
机译:近距离印刷中掩模/晶圆对准的实用干涉技术
机译:用于夹具装置的印刷对准层掩模,并将其应用于印刷掩模对准层掩模,以用于清洁设备和清洁方法
机译:干涉测量相位掩模的装置,例如用于光刻,通过沿X-Y方向平移相干掩模和/或衍射光栅,产生要在相掩模上施加的相移干涉图
机译:用于微电路生产的掩模对准的参考图像,将掩模与微处理器电路盘对准的方法以及用于感测和对准这种参考图像的方法和装置
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