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一种用于无掩模光刻的投影成像系统

摘要

本发明提供了一种用于无掩模光刻的投影成像系统,其具有成像效果好、畸变小、宽光谱、成本低的优点,沿着光轴由物面至像面依次包括:第一镜组,光阑,第二镜组,第三镜组,所述第一镜组至少包括1个负透镜和2个正透镜,所述第二镜组包括至少1个负透镜和1个正透镜,所述第三镜组包括至少1个正透镜。

著录项

  • 公开/公告号CN112526833A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 张家港中贺自动化科技有限公司;

    申请/专利号CN202011496782.4

  • 发明设计人 刘鹏;

    申请日2020-12-17

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构32293 苏州国诚专利代理有限公司;

  • 代理人陈松

  • 地址 215614 江苏省苏州市张家港市凤凰大道7号科技创业园A栋

  • 入库时间 2023-06-19 10:19:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-27

    授权

    发明专利权授予

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